JP2007015105A - 研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被研磨体を保持する複数の保持孔2aを有する被研磨体保持部2と、この被研磨体保持部2の外周に設けられたギア部3と、を有する研磨用キャリア1において、複数の保持孔2aは、被研磨体保持部2の中心を中心とする半径の異なる複数の同心円上にそれぞれ配置されており、最外周の同心円上に配置された各保持孔2aとギア部3との距離は、最外周の同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離よりも大きい。
【選択図】図1
Description
すなわち、本発明者等は、上述の解明結果から、上記最外周の同心円部分に寸断箇所が集中している原因は、研磨時に上記最外周の同心円部分に特に強い応力が加わっていることが原因であるとの知見を得た。そして本発明者等は、被研磨体保持部に設ける保持孔の配置位置(すなわち保持孔とギア部との距離や、保持孔同士の距離)を調整することにより、上記応力の集中を抑制し、上記寸断を抑制することがすることが可能であるとの知見を得て、本発明を完成させるに至った。
そのため、本発明の一実施形態にかかる研磨用キャリアでは、前記最外周の同心円上に配置された保持孔の中心及び前記被研磨体保持部の中心を通る直線Aと、前記最外周の同心円の内側に隣接する同心円上に配置された保持孔の中心及び前記被研磨体保持部の中心を通る直線Bと、が合致しないように構成してもよい。このように構成することで、研磨時に被研磨体保持部に加わる応力が、被研磨体保持部の特定の部分に集中することをさらに防止し、特定部分が疲労破壊等するおそれをさらに防止することができる。
図1は本発明の実施例1にかかる研磨用キャリアの平面図、図2は研磨用キャリアを研磨装置に装着した状態を示す図、図3は図2における部分断面図である。以下、これらの図面を参照にしながら実施例1にかかる研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法を説明する。なお、この実施例は、4列配置で50枚の被研磨体を搭載できる研磨用キャリアを用いて、2.5インチ用磁気記録媒体用ガラス基板(情報記録媒体用ガラス基板=被研磨体)を製造する場合に本発明を適用する例である。
まず、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研削砥石で直径66mmφ、厚さ1.1mmの円盤状に切り出したアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径65mm(2.5インチ)φ、厚さ0.6mmに成形した。
次いで、スラリーを使用したブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面部分(角張った部位、側面及び面取部)の研磨を行い、角張った部位を半径0.2〜10mmの曲面とするとともに、それらの表面粗さをRmaxで1μm、Raで0.3μm程度とした。上記端面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
次に、ラッピング装置を用い、ガラスエポキシからなる実施例1のキャリアを使用し、粒度#1000のアルミナ砥粒、荷重Lを100kg程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、ラッピングを行い、ガラス基板の両面の表面粗さ(Rmax)を2μm程度とした。上記第2ラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
次に、第1ポリッシング工程を施した。この第1ポリッシング工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や、歪みの除去を目的とするもので、ポリッシング装置を用いて行った。詳しくは、研磨パッド(研磨布)として硬質ポリシャ(セリウムパッドMHC15:スピードファム社製)を用い、ガラスエポキシ製の実施例1のキャリアを使用し、以下のポリッシング条件で第1ポリッシング工程を実施した。
次に、第1ポリッシング工程で使用したポリッシング装置を用い、研磨パッドを硬質ポリシャから軟質ポリシャ(ポリラックス:スピードファム社製)に替え、ガラスエポキシ製の実施例1のキャリアを使用し、第2ポリッシング工程を実施した。研磨条件は、研磨液:酸化セリウム(平均粒径;0.8μm)+水、荷重100g/cm2、研磨時間を5分、除去量を5μmとしたこと以外は、第1ポリッシング工程と同様とした。上記第2ポリッシング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、中性洗剤、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。
次に、上記ラッピング、ポリッシング工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱し、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
第2ラッピング工程において、使用するキャリアを図5に示した従来のキャリアにした以外は、実施例1と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を作製した。その結果、得られるガラス基板の主表面の表面粗さは同程度であった。しかし、ラッピング工程を複数回行い、約10時間を経過した時点で、中心方向に一列に並んだ箇所(各保持孔の中心と被研磨体保持部の中心とを通る直線が合致、すなわち、互いのなす角度が0)の保持孔間が摩耗により寸断され、保持孔から逸脱したガラス基板は破壊されるという事故がおきた例があった。
2 被研磨体保持部
3 ギア部
4 磁気記録媒体用ガラス基板
5 研磨装置
2a 被研磨体保持孔。
Claims (6)
- 被研磨体を保持する複数の保持孔を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられたギア部と、を有する研磨用キャリアにおいて、
前記複数の保持孔は、前記被研磨体保持部の中心を中心とする半径の異なる複数の同心円上にそれぞれ配置されており、
最外周の同心円上に配置された各保持孔と前記ギア部との距離は、前記最外周の同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離よりも大きい
ことを特徴とする研磨用キャリア。 - 前記最外周の同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離は、該最外周よりも内側の同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離よりも大きい
ことを特徴とする請求項1記載の研磨用キャリア。 - 前記同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離は、該同心円よりも内側に隣接する同心円上にそれぞれ配置された隣り合う保持孔同士の間の距離よりも大きい
ことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の研磨用キャリア。 - 前記最外周の同心円上に配置された保持孔の中心及び前記被研磨体保持部の中心を通る直線Aと、前記最外周の同心円の内側に隣接する同心円上に配置された保持孔の中心及び前記被研磨体保持部の中心を通る直線Bと、が合致しない
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の研磨用キャリア。 - 被研磨体を保持する複数の保持孔を有する被研磨体保持部と、この被研磨体保持部の外周に設けられたギア部と、を有する研磨用キャリアの保持孔に被研磨体を入れ、
下定盤及び上定盤により前記被研磨体を挟持した状態で上下定盤を回転させ、
前記被研磨体の主表面にラッピング及び/又はポリッシングを施して被研磨体を研磨する研磨方法において、
前記研磨用キャリアとして請求項1乃至4のいずれかに記載の研磨用キャリアを用いる
ことを特徴とする研磨方法。 - 前記被研磨体の加工速度が10μm/min〜20μm/minになるように、前記上下定盤を回転させることを特徴とする請求項5記載の研磨方法。
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2006
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