JP2007005772A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2007005772A5
JP2007005772A5 JP2006135338A JP2006135338A JP2007005772A5 JP 2007005772 A5 JP2007005772 A5 JP 2007005772A5 JP 2006135338 A JP2006135338 A JP 2006135338A JP 2006135338 A JP2006135338 A JP 2006135338A JP 2007005772 A5 JP2007005772 A5 JP 2007005772A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical component
optical
lens
force
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006135338A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4457085B2 (ja
JP2007005772A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2007005772A publication Critical patent/JP2007005772A/ja
Publication of JP2007005772A5 publication Critical patent/JP2007005772A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4457085B2 publication Critical patent/JP4457085B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (10)

  1. 少なくとも1つの光学面と第1の光軸とを有する光学部品、前記光学部品を装着するソケット、および、前記光学部品内の応力を変化させる第1の力を前記光学部品の前記第1の光軸とほぼ平行に付加する第1のマニピュレータを具え、前記第1の力は、応力複屈折を前記光学部品内に誘起するような強度を有してなる光学装置において、
    前記光学部品を第1の光学部品として、少なくとも1つの光学面と第2の光軸とを有する第2の光学部品を設けるとともに、前記第2の光学部品内の応力を変化させる第2の力を前記第2の光学部品の前記第2の光軸とほぼ平行に付加する第2のマニピュレータをさらに設け、前記第2の力は、結像特性に対するスカラ量的効果を少なくとも大部分において前記第2の光学部品内に誘起するような強度を有していることを特徴とする光学装置。
  2. 前記第2の力は前記第1の力と異なることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
  3. 前記第1の光学部品が、前記第2の光学部品よりも歪光学係数が低い材料で形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
  4. 前記第1の光学部品が、前記第2の光学部品の形状と異なる形状を有することを特徴とする請求項1に記載の光学装置。
  5. 前記第1の光学部品が第1のレンズであり、前記第2の光学部品が第2のレンズであり、前記第2のレンズが前記第1のレンズの厚さとは異なる厚さを有し、前記第1のレンズの屈折力は前記第2のレンズの屈折力と少なくともほぼ同等であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  6. 光軸を有する、マイクロリソグラフィ投影露光装置の少なくとも1つ光学部品の偏光状態に影響を及ぼすための方法であって、
    前記少なくとも1つ光学部品を第1の光学部品として、応力複屈折を前記第1の光学部品内に誘起するように前記第1の光学部品に力を付加するとともに、
    少なくとも第2の光学部品にも、前記第2の光学部品の結像特性に対するスカラ量的効果が前記第2の光学部品に生成されるように力を付加し、このスカラ量的効果は、前記第1の光学部品に付加された力によって誘起されたスカラ量的効果を少なくとも部分的に補償するものであることを特徴とする方法。
  7. 前記第2の光学部品に付加された力は前記第1の光学部品に付加された力より低いか同じであることを特徴とする請求項6に記載の方法。
  8. 前記第1の光学部品が、前記第2の光学部品よりも歪光学係数が低い材料で形成されていることを特徴とする請求項6に記載の方法
  9. 前記第1の光学部品が、前記第2の光学部品の形状と異なる形状を有することを特徴とする請求項6に記載の方法。
  10. 前記第1の光学部品が第1のレンズであり、前記第2の光学部品が第2のレンズであり、前記第2のレンズが前記第1のレンズの厚さとは異なる厚さを有し、前記第1のレンズの屈折力は前記第2のレンズの屈折力と少なくともほぼ同等であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
JP2006135338A 2005-05-16 2006-05-15 光学部品と調整装置とを備えた光学装置、および光学部品の偏光状態に影響を及ぼすための方法 Expired - Fee Related JP4457085B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US68182905P 2005-05-16 2005-05-16

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007005772A JP2007005772A (ja) 2007-01-11
JP2007005772A5 true JP2007005772A5 (ja) 2009-07-02
JP4457085B2 JP4457085B2 (ja) 2010-04-28

Family

ID=37311306

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006135338A Expired - Fee Related JP4457085B2 (ja) 2005-05-16 2006-05-15 光学部品と調整装置とを備えた光学装置、および光学部品の偏光状態に影響を及ぼすための方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7580207B2 (ja)
JP (1) JP4457085B2 (ja)
DE (1) DE102006022957A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006038455A1 (de) * 2006-08-16 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für die Halbleiterlithographie
US8416386B2 (en) * 2007-03-13 2013-04-09 Nikon Corporation Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same
DE102007045975A1 (de) * 2007-09-25 2009-04-09 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einstellbarer Kraftwirkung auf ein optisches Modul
DE102008032853A1 (de) * 2008-07-14 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
US8797660B1 (en) * 2013-01-23 2014-08-05 Hinds Instruments, Inc. Alignment mechanism for photoelastic modulators
JP2017211409A (ja) * 2016-05-23 2017-11-30 キヤノン株式会社 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1269422A (en) 1917-11-24 1918-06-11 American Optical Corp Lens.
US4007471A (en) * 1972-10-25 1977-02-08 Polaroid Corporation System for mounting photographic accessories on a camera
CH626785A5 (ja) 1978-02-06 1981-12-15 Nestle Sa
US5680262A (en) 1993-02-12 1997-10-21 Cummins Power Generation, Inc. Stretched membrane mirror and method of making same
US5774274A (en) 1995-05-12 1998-06-30 Schachar; Ronald A. Variable focus lens by small changes of the equatorial lens diameter
JP2000162542A (ja) * 1998-11-30 2000-06-16 Canon Inc 光照射装置および画像投射装置
DE19859634A1 (de) 1998-12-23 2000-06-29 Zeiss Carl Fa Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie
JP2001284226A (ja) 2000-03-31 2001-10-12 Nikon Corp 光学部材保持装置及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。
JP2003156668A (ja) 2001-11-20 2003-05-30 Canon Inc 光学ユニット、露光装置および光学機器
US7312921B2 (en) * 2004-02-27 2007-12-25 Hamamatsu Photonics K.K. Microscope and sample observation method
JP4643994B2 (ja) * 2005-01-19 2011-03-02 浜松ホトニクス株式会社 固浸レンズホルダ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007005772A5 (ja)
JP2008058445A5 (ja)
SG134294A1 (en) Lithographic apparatus, device manufacturing method and exchangeable optical element
WO2008064859A3 (en) Optical system with an exchangeable, manipulable correction arrangement for reducing image aberrations
WO2008105531A1 (ja) ペリクルフレーム装置、マスク、露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法
JP2006295023A5 (ja)
WO2008037496A3 (en) Projection objective for a microlithography apparatus with improved imaging properties and method for improving the imaging properties of the projection objective
TW200717025A (en) Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by s
WO2006045439A3 (en) A system and a method for generating periodic and/or quasi-periodic pattern on a sample
TW200801628A (en) Lens apparatus focus adjustment support device and focus adjusting method
TW200717039A (en) Reflector, optical element, interferometer system, stage device, exposure apparatus, and device fabricating method
WO2008107105A8 (de) Abbildungsvorrichtung mit einem adaptiven optischen element und holographische projektionseinrichtung
SG11201907482YA (en) Pellicle, exposure original plate, exposure device, and semiconductor device manufacturing method
PT2338088E (pt) Composição, processo de preparação e método de aplicação e de exposição para um papel de formação de imagens através de luz
JP2009036916A5 (ja)
TW200619865A (en) Exposure apparatus and device manufacturing method
JP2015518183A5 (ja)
JP2005532680A5 (ja)
ATE488782T1 (de) Einheit zur korrektur der bildunschärfe, vorrichtung zur korrektur der bildunschärfe und abbildungsvorrichtung
TW200602441A (en) Immersion liquid for liquid immersion lithography process, and resist-pattern forming method using immersion liquid
JP4457085B2 (ja) 光学部品と調整装置とを備えた光学装置、および光学部品の偏光状態に影響を及ぼすための方法
TW201142490A (en) A pellicle for lithography
JP2010516999A5 (ja)
WO2009022506A1 (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2008270491A5 (ja)