JP2017211409A - 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents

保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017211409A
JP2017211409A JP2016102276A JP2016102276A JP2017211409A JP 2017211409 A JP2017211409 A JP 2017211409A JP 2016102276 A JP2016102276 A JP 2016102276A JP 2016102276 A JP2016102276 A JP 2016102276A JP 2017211409 A JP2017211409 A JP 2017211409A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holding
optical element
elastic
holding device
freedom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016102276A
Other languages
English (en)
Inventor
明人 橋本
Akihito Hashimoto
明人 橋本
長植 崔
Choshoku Sai
長植 崔
淳生 遠藤
Atsuo Endo
淳生 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2016102276A priority Critical patent/JP2017211409A/ja
Priority to KR1020170059890A priority patent/KR102198592B1/ko
Priority to CN201710350096.8A priority patent/CN107422608B/zh
Publication of JP2017211409A publication Critical patent/JP2017211409A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/026Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses using retaining rings or springs
    • GPHYSICS
    • G12INSTRUMENT DETAILS
    • G12BCONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B5/00Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

【課題】外部からの振動の影響を受けにくい保持装置を提供する。【解決手段】光学素子300の周縁部に設けられた複数の保持部によって、ベース部材400に光学素子300を保持する保持装置であって、複数の保持部は、光学素子300を6自由度で保持する複数の第1の保持部100と、6自由度のうち光学素子300の光軸の方向の自由度を拘束するように構成される複数の第2の保持部200と、を含み、複数の第2の保持部200が光学素子300の光軸の方向の自由度を拘束する力は、残りの自由度を拘束する力よりも大きい。【選択図】図1

Description

本発明は、保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
半導体デバイス等の製造に用いられるリソグラフィ装置や天体望遠鏡などに用いられる光学素子を、その位置および姿勢を調整可能に、且つ意図しない変形を起こさないように保持する技術が要求されている。特許文献1のレンズマウントは、光学素子へのクランプ力を抑えつつ6自由度で制御している。
米国特許第6873478号明細書
しかしながら、上記レンズマウントは、クランプ力が抑えられていることから、外部の振動の影響を受けやすい。振動の影響を抑えるためにクランプ力を強くする(過拘束)と光学素子が変形し、光学素子を脱着したときの位置再現性が低下する。
本発明は、例えば、外部からの振動の影響を受けにくい保持装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、光学素子の周縁部に設けられた複数の保持部によって、ベース部材に光学素子を保持する保持装置であって、複数の保持部は、光学素子を6自由度で保持する複数の第1の保持部と、6自由度のうち光学素子の光軸の方向の自由度を拘束するように構成される複数の第2の保持部と、を含み、複数の第2の保持部が光学素子の光軸の方向の自由度を拘束する力は、残りの自由度を拘束する力よりも大きい、
ことを特徴とする。
本発明によれば、例えば、外部からの振動の影響を受けにくい保持装置を提供することができる。
第1実施形態に係る保持装置の概略図である。 第1の保持部の詳細を示す図である。 第2の保持部の詳細を示す図である。 第1実施形態に係る保持装置をZ方向から見た図である。 保持された光学素子の振動の様子を示した図である。 第2実施形態に係る第2の保持部を示す図である。 第3実施形態に係る第2の保持部を示す図である。
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る保持装置の概略図である。保持装置は、第1の保持部100と、第2の保持部200と、を有し、光学素子300を保持する。第1の保持部100および第2の保持部200の一方は光学素子300の周縁部に固定され、他方は支持部(ベース部材)400に固定される。本実施形態では、光学素子300として円形状のものを用いているが矩形や多角形など他の形状でも適用可能である。また、保持装置は、露光装置、インプリント装置などのリソグラフィ装置や天体望遠鏡などに適用しうる。支持部400は、露光装置に適用する場合は、露光光を投影する光学系の内部に設けられうる。また、支持部400は、固有振動数を高く保つ(振動し難くする)ため鋳物や定盤などが好ましい。
図2は、第1の保持部100の詳細を示す図である。第1の保持部100は、フレーム110および111、弾性部112および113のセットを1つの脚とするバイポッド型の保持部であり、光学素子300の6自由度の姿勢変化を許容する、いわゆるかわし機構である。ここで、光学素子300の表面に垂直な方向をZ方向、それに垂直な方向をX方向およびY方向とする。第1の保持部100の一端は、光学素子300に固定されたフランジ310に取り付けられる。フランジ310は、第1の保持部100と一体化していてもよく、この場合は、フランジ310を光学素子300に取り付ける。光学素子300を水平に支えるため、各脚のなす角は、フランジ310の中心線が角の2等分線となるように構成されている。また、本実施形態では、第1の保持部100を光学素子300の中心基準で120度ずつずれた3箇所の位置に光学素子300を囲むように設けている。なお、各脚のなす角や、第1の保持部100の配置は、光学素子300の厚みや重心位置などで調整しうる。
第1の保持部100は、上述の構成に加え、脚をつなぐマウント114と、マウント114とフランジ310とをつなぐ連結部115と、を有する。この構成により、光学素子300の半径方向(Y方向)の膨張により第1の保持部100が受ける力を除去することができる。
図3は、第2の保持部200の詳細を示す図である。第2の保持部200は、弾性部210と、取付部220と、を有する。弾性部210は開口部OPが設けられている。弾性部210と、取付部220とは、一体の部材であってもよい。本実施形態では、弾性部210として板ばねを用いる。弾性部210は、Z方向に長く、X方向に短い矩形の板ばねであり、Y方向の長さ(厚み)はX方向の長さよりも小さい。板ばねの材質としては、熱変形を考慮して、SUS304等のオーステナイト系ステンレス鋼を用いることができる。
本実施形態では、第2の保持部200をねじで光学素子300に固定する。これに対応して、開口部OPの形状は、ねじがX方向で当接するように、また、Z方向の任意の箇所でねじを締めることが可能なようにする。すなわち、開口部OPはZ方向に長い形状とする。支持部400に固定された光学素子300は、搬送時に位置ずれが起こりうる。特に光学素子300の光軸方向(Z方向)のずれは、光学特性への影響が大きい。上記構成によれば、Z方向の位置の調整をしてずれを補正することができる。また、Z方向の過拘束を緩めて変形を抑えることもできる。取付部220は、厚みを持ったブロック形状となっており、支持部400に対して固定もしくは摩擦により保持されている。
第2の保持部200は、上記の構成により、Z方向の移動を制限する拘束力を保ちながら、X方向ならびにY方向への移動を制限する拘束力は、弾性部210の弾性力によってZ方向の拘束力に比べて弱いものになる。これにより、光学素子300と第1の保持部100とから成る系の固有振動数を向上(振動し難く)しつつ、光学素子300に対して過拘束による変形および位置再現性の低下を抑えることができる。
図4は、第1実施形態に係る保持装置をZ方向から見た図である。図で示すように、第2の保持部200は、光学素子300の円周方向に沿って、第1の保持部100の間に、光学素子300の側面に複数個取り付けられている。第2の保持部200の個数は、これに限るものではなく、1個または複数、必要かつスペースの制限が許容する限り配置が可能である。
図5は、本実施形態の保持装置により保持された光学素子の振動の様子を示した図である。第1の保持部100および第2の保持部200に保持された光学素子300をY方向から見た図となっている。説明の簡単のため、複数の各保持部のうち、一部の保持部のみ図示している。ここでは、光学素子300の光学性能に対する寄与が大きい振動成分である、X方向の振動Vx、Z方向の振動Vz、Y軸を回転軸とした振動Vθy、について説明する。
第1の保持部100は、光学素子300の6自由度の姿勢の変化を許容しているため、第1の保持部100のみによる保持では、外部からの振動等によりZ方向の位置ずれが起こりやすい。本実施形態では、第2の保持部200を追加することで光学素子300に対し、Z方向の移動を制限する拘束力を付与している。これにより、Z方向の振動Vzを抑えることができる。さらに、Z方向の振動Vzの抑制力は、X方向の振動Vxおよび、Y軸を回転軸とした振動Vθyを抑えることにも寄与する。
また、光学素子300の変形に関しては、上述の通り、第2の保持部200は、X方向ならびにY方向への移動を制限する拘束力がZ方向の拘束力に比べて弱いため、光学素子300を過拘束することなく変形は抑えられる。本実施形態によれば、外部からの振動の影響を受けにくい保持装置を提供することができる。
(第2実施形態)
第2の保持部200は、Z方向の拘束力が強く、その他方向の拘束力がZ方向の拘束力よりも弱いものであればよい。図6は、第2実施形態に係る第2の保持部500を示す図である。図6に示す第2の保持部500は、取付部510と、弾性ヒンジ520および540と、フレーム530および550と、を含む。取付部510には、上述の開口部OPと同様の開口部OPが設けられている。第2の保持部500は、取付部510を介して光学素子300に固定され、フレーム550を介して支持部400に固定される。弾性ヒンジ520は、取付部510とフレーム530とをZ方向の相対距離が変わらないように接続し、弾性ヒンジ540は、フレーム530と550とをZ方向の相対距離が変わらないように接続する。そして、弾性ヒンジ520および540は、X方向やY方向の移動、Z軸周りの回転は拘束しない。以上のような第2の保持部500を用いることでも、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(第3実施形態)
図7は、第3実施形態に係る第2の保持部600を示す図である。図7に示す第2の保持部600は、取付部610と、弾性ロッド(弾性棒)部620と、フレーム630と、を含む。取付部610には、上述の開口部OPと同様の開口部OPが設けられている。第2の保持部600は、取付部610を介して光学素子300に固定され、フレーム630を介して支持部400に固定される。弾性ロッド部620は、取付部610とフレーム630とをZ方向の相対距離が変わらないように接続し、X方向やY方向の移動、Z軸周りの回転は拘束しない。以上のような第2の保持部600を用いることでも、第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
なお、第1の保持部100は、バイポッド型の保持部に限らず、6自由度の姿勢変化を許容する保持部であればよい。また、上記実施形態では、光学素子300を直接保持する場合について説明したが、光学素子300を固定する固定部を保持するような、光学素子300を間接的に保持する場合にも適用できる。固定部は、熱による変形を抑えるため低熱膨張材を用いるのが好ましい。
(物品製造方法に係る実施形態)
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記保持装置により保持された光学素子を備えた露光装置を用いてパターンを基板に形成する(露光する)工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工(現像)する工程とを含む。露光装置ではなくインプリント装置を用いる場合は、現像する工程の代わりに、例えば残膜を除去する工程を含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変更が可能である。
100 第1の保持部
200 第2の保持部
300 光学素子
400 ベース部材

Claims (10)

  1. 光学素子の周縁部に設けられた複数の保持部によって、ベース部材に前記光学素子を保持する保持装置であって、
    前記複数の保持部は、
    前記光学素子を6自由度で保持する複数の第1の保持部と、前記6自由度のうち前記光学素子の光軸の方向の自由度を拘束するように構成される複数の第2の保持部と、を含み、
    前記複数の第2の保持部が前記光学素子の前記光軸の方向の自由度を拘束する力は、残りの自由度を拘束する力よりも大きい、
    ことを特徴とする保持装置。
  2. 前記複数の第2の保持部は、前記光学素子に固定されるために用いられる開口部を有し、当該開口部は、前記光軸の方向の長さが前記周縁部に沿う方向の長さよりも大きい、ことを特徴とする請求項1に記載の保持装置。
  3. 前記複数の第2の保持部は、前記開口部を介してねじにより前記光学素子に固定され、前記開口部の前記光軸の方向の長さは、前記ねじの径よりも大きい、ことを特徴とする請求項2に記載の保持装置。
  4. 前記複数の第2の保持部は、弾性部を有し、当該弾性部は、前記光軸の方向の弾性力を備えない板ばねである、ことを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
  5. 前記複数の第2の保持部は、弾性部を有し、当該弾性部は、弾性ヒンジを有する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
  6. 前記複数の第2の保持部は、弾性部を有し、当該弾性部は、弾性棒を有する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の保持装置。
  7. 前記複数の第1の保持部は、弾性部を介して前記ベース部材につながっている複数の第1部材と、前記光学素子につながっている第2部材と、を含む、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の保持装置。
  8. 前記複数の第1の保持部は、前記光学素子の重心位置に基づいて前記周縁部に設けられる、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の保持装置。
  9. 前記光学素子を含む光学系を備えるリソグラフィ装置であって、
    前記光学素子の少なくとも1つを請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の保持装置により保持することを特徴とするリソグラフィ装置。
  10. 請求項9に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
    前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
    を有することを特徴とする物品の製造方法。
JP2016102276A 2016-05-23 2016-05-23 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 Pending JP2017211409A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016102276A JP2017211409A (ja) 2016-05-23 2016-05-23 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
KR1020170059890A KR102198592B1 (ko) 2016-05-23 2017-05-15 보유 디바이스, 리소그래피 디바이스 및 물품 제조 방법
CN201710350096.8A CN107422608B (zh) 2016-05-23 2017-05-18 保持装置、光刻设备和制品制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016102276A JP2017211409A (ja) 2016-05-23 2016-05-23 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017211409A true JP2017211409A (ja) 2017-11-30

Family

ID=60424693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016102276A Pending JP2017211409A (ja) 2016-05-23 2016-05-23 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2017211409A (ja)
KR (1) KR102198592B1 (ja)
CN (1) CN107422608B (ja)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1744193A1 (en) * 2000-08-18 2007-01-17 Nikon Corporation Optical element holding device with drive mechanism allowing movement of the element along three coordinate axes
DE10053899A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-08 Zeiss Carl Vorrichtung zur Lagerung eines optischen Elementes
US20030234916A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Nikon Corporation Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror
JP4574206B2 (ja) * 2003-04-25 2010-11-04 キヤノン株式会社 駆動装置、それを用いた露光装置、デバイスの製造方法
DE102006022957A1 (de) * 2005-05-16 2006-11-23 WITTE, WELLER & PARTNER Patentanwälte Optische Vorrichtung mit einem optischen Bauelement und mit einer Verstelleinrichtung und Verfahren zur Beeinflussung eines Polarisationszustands des optischen Bauelements
DE102005057860A1 (de) * 2005-12-03 2007-06-06 Carl Zeiss Smt Ag Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Halbleiterlithographie
CN101004555A (zh) * 2006-01-16 2007-07-25 中国科学院电工研究所 可调节反射式光学物镜装调系统
JP5043468B2 (ja) * 2007-02-23 2012-10-10 キヤノン株式会社 保持装置
JP2008261985A (ja) * 2007-04-11 2008-10-30 Topcon Corp 光学素子保持装置
JP5535108B2 (ja) * 2011-02-18 2014-07-02 ギガフォトン株式会社 極端紫外光源装置
CN102279454B (zh) * 2011-07-27 2013-04-17 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种光刻投影物镜中镜片的支撑装置
DE102015101387B3 (de) * 2015-01-30 2015-12-17 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Fassung mit wenigstens einer Klemmeinheit mit einer Membranfeder

Also Published As

Publication number Publication date
KR102198592B1 (ko) 2021-01-06
KR20170132086A (ko) 2017-12-01
CN107422608B (zh) 2021-04-16
CN107422608A (zh) 2017-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6867848B2 (en) Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US8416386B2 (en) Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same
JP4934131B2 (ja) 光学要素の支持装置
JP5284502B2 (ja) リソグラフィ装置および投影アセンブリ
KR20100018581A (ko) 광학 소자 유지 장치, 경통 및 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법
JP6741739B2 (ja) 粒子ビーム装置
JP7378453B2 (ja) リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法
JP6316973B2 (ja) ステージ位置決めシステムおよびリソグラフィ装置
JP6360177B2 (ja) 光学結像装置モジュール及びその構成要素の支持方法
JP2014225639A (ja) ミラーユニット及び露光装置
US10520838B2 (en) Mounting arrangement for an optical imaging arrangement
JP2007072272A (ja) レンズ駆動装置
US10095120B2 (en) Vibration-compensated optical system, lithography apparatus and method
TWI631430B (zh) Optical device, projection optical system, exposure device, and article manufacturing method
JP5243957B2 (ja) 液浸リソグラフィー用オブジェクティブ
JP2017211409A (ja) 保持装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP7022621B2 (ja) 制振装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
US11243476B2 (en) Stage apparatus, lithographic apparatus, control unit and method
US7583453B2 (en) Optical element holding structure, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2011145688A (ja) 光学要素の支持構造、それを用いた露光装置及び半導体デバイスの製造方法
US20160026097A1 (en) Vibration control device, lithography apparatus, and article manufacturing method
KR102165797B1 (ko) 광학 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법
JP2010271457A (ja) 光学素子位置調整機構、光学素子位置調整機構を備えた露光装置及び光学素子位置調整方法
JP2011059475A (ja) 支持装置、光学装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP6736371B2 (ja) 位置調整機構、露光装置及び物品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190318

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191107

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191119

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200116

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20200303

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200529

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20200529

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20200609

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20200616

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20200814

C211 Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211

Effective date: 20200818

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20201013

C13 Notice of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C13

Effective date: 20210105

C22 Notice of designation (change) of administrative judge

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C22

Effective date: 20210323

C23 Notice of termination of proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C23

Effective date: 20210406

C03 Trial/appeal decision taken

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C03

Effective date: 20210511

C30A Notification sent

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C3012

Effective date: 20210511