JP2007001897A - 縮合複素環スルホニル尿素化合物とベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体とを組み合わせてなる除草剤組成物 - Google Patents
縮合複素環スルホニル尿素化合物とベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体とを組み合わせてなる除草剤組成物 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】 全雑草を十分に防除し、水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤の提供。
【解決手段】 下記化合物
（例えば、Ｒ１はＣｌ，Ｒ２はＨ，Ｒ３はＣ３Ｈ７，Ｘ及びＹはＣＨ３Ｏ）で表される化合物又はその塩と、メソトリオン，スルコトリオン等のベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体とを含有することを特徴とする除草剤組成物。
【選択図】なし
【解決手段】 下記化合物
（例えば、Ｒ１はＣｌ，Ｒ２はＨ，Ｒ３はＣ３Ｈ７，Ｘ及びＹはＣＨ３Ｏ）で表される化合物又はその塩と、メソトリオン，スルコトリオン等のベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体とを含有することを特徴とする除草剤組成物。
【選択図】なし
Description
本発明は、除草剤組成物、さらに詳しくは、特に水稲に対して優れた選択性を有し、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に高い除草効果を示す除草剤組成物に関する。
一般に除草剤の施用される場においては多種類の雑草が混在して生育しており、かつそれぞれの個体の出芽や生育時期はそれを取り巻く環境条件によって異なり、一様でない。特に、最近の水稲栽培では移植時期の早期化による雑草の発生期間の長期化により、除草剤の施用は生育段階の異なる多種類の雑草を対象として行われていることになり、スルホニル尿素系除草剤の実用化以降、２種以上の有効成分を含む混合剤として広く使用されてきた。しかしながら、近年、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草の出現により、これら雑草に有効な有効成分を添加し、混合剤中の有効成分数を増加させる防除方法が主であった。このような有効成分数の増加は、土壌残留など環境に好ましからざる問題を提起している。このため、殺草スペクトラムが広く、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に対して満足し得る除草効果を有し、かつ抑草効果持続性の長い、しかも混合剤中の有効成分を減らし得る除草剤が求められている。
特許文献１に記載される縮合複素環スルホニル尿素化合物は水稲に対して高い安全性を示し、既存のスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む一年生、多年生雑草に対して高い効果を示す。しかし、雑草の発生消長、雑草の発生密度、農家による水田の水管理、気象条件等の諸条件により、その効果は他の多くの除草剤のそれと同様に変動する場合がある。
特許文献２に記載される化合物に包含されるベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体もまた水稲に対して高い安全性を示し一年生雑草、多年生雑草に対して高い効果を示すが、一部の雑草種に対する効果は必ずしも十分ではない。また、特許文献３および特許文献４に記載される化合物に包含されるベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体については、畑地用除草剤として優れた効果を有するものの水田用除草剤としての使用について具体的な例について言及されていない。
国際公開第０３／０６１３８８号パンフレット
特表２００２−５２７４１８号公報
特開昭６０−８７２３８公報
特開昭６１−１５２６４２公報
本発明は、１回の施用でスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む全雑草を十分に防除し、有効成分数の少ない、しかも水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた。その結果、上記特許文献１に記載される縮合複素環スルホニル尿素化合物と、同じく上記特許文献２、特許文献３および特許文献４に記載される化合物に包含されるベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体を組み合わせると、これらの課題を改良した、優れた混合剤タイプの除草剤が得られることを見出した。すなわち、殺草スペクトラムが拡大し、それぞれ単独施用では期待できなかった抑制効果の持続作用が示されること、特に水稲田において１回の散布で実質的にすべての雑草の生育を抑制し、かつ前後の除草作業を必要としない程抑制効果が持続することを見出し、さらに研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）式（Ｉ）：
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、
Ｒ３は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンもしくは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
ＸおよびＹは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。）で表される化合物またはその塩と、
式（ＩＩ）：
（式中、Ｒ４、Ｒ５は、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基または−（ＣＨ２）−Ｒ７基を、
Ｒ７は、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルチオ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ベンジルオキシ低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基、低級シクロアルコキシ基、低級シクロアルキル低級アルコキシ基、テトラヒドロフラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロピラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロチエニル低級アルコキシ基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｒ８基を、
Ｒ８は、低級アルコキシ基または（低級アルコキシ）低級アルコキシ基を、
ｐは、１、２または３を、
ｑは、０、１、２または３を示す。）
で表される化合物またはその塩から選ばれる１種または２種以上の化合物とを含有することを特徴とする除草剤組成物、
（２）式（Ｉ）におけるＲ１がハロゲン原子であり、Ｒ２が水素原子であり、Ｒ３がＣ２−４アルキルまたは低級シクロアルキルであり、ＸおよびＹがそれぞれメトキシ基である（１）記載の除草剤組成物、
（３）上記式（Ｉ）で表される化合物が式：
（以下、化合物Ｎｏ．１と称する）で表される化合物である上記（１）記載の除草剤組成物、
（４）式（ＩＩ）の化合物が式：
（以下、化合物Ｎｏ．２と称する）
（以下、化合物Ｎｏ．３と称する）
または
（以下、化合物Ｎｏ．４と称する）
で表される化合物である上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の除草剤組成物、
（５）式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩とを重量比１：０．１〜５０の割合で含有する上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の除草剤組成物、
（６）雑草を防除する方法であり、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を同時に散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物の一方を散布した後にもう一方の除草剤組成物を散布することによる方法、および
（７）水稲田用である上記（１）記載の除草剤組成物を提供するものである。
（１）式（Ｉ）：
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、
Ｒ３は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンもしくは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
ＸおよびＹは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。）で表される化合物またはその塩と、
式（ＩＩ）：
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基または−（ＣＨ２）−Ｒ７基を、
Ｒ７は、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルチオ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ベンジルオキシ低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基、低級シクロアルコキシ基、低級シクロアルキル低級アルコキシ基、テトラヒドロフラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロピラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロチエニル低級アルコキシ基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｒ８基を、
Ｒ８は、低級アルコキシ基または（低級アルコキシ）低級アルコキシ基を、
ｐは、１、２または３を、
ｑは、０、１、２または３を示す。）
で表される化合物またはその塩から選ばれる１種または２種以上の化合物とを含有することを特徴とする除草剤組成物、
（２）式（Ｉ）におけるＲ１がハロゲン原子であり、Ｒ２が水素原子であり、Ｒ３がＣ２−４アルキルまたは低級シクロアルキルであり、ＸおよびＹがそれぞれメトキシ基である（１）記載の除草剤組成物、
（３）上記式（Ｉ）で表される化合物が式：
（４）式（ＩＩ）の化合物が式：
または
で表される化合物である上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の除草剤組成物、
（５）式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩とを重量比１：０．１〜５０の割合で含有する上記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の除草剤組成物、
（６）雑草を防除する方法であり、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を同時に散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物の一方を散布した後にもう一方の除草剤組成物を散布することによる方法、および
（７）水稲田用である上記（１）記載の除草剤組成物を提供するものである。
本発明によれば、１回の施用でスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む全雑草を十分に防除し、有効成分数の少ない、しかも水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤組成物が提供できる。
本発明の除草剤組成物に用いる上記式（Ｉ）で表される化合物は上記特許文献１に記載される縮合複素環スルホニル尿素化合物である。式（Ｉ）中の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基等における「低級」とは、炭化水素部分が１または２〜６個の炭素原子、好ましくは、１または２〜４個の炭素原子によって構成されていることをいう。例えば、直鎖状または分枝鎖状のＣ１-６アルキル基、Ｃ２-６アルケニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ１-６アルキルチオ基等が挙げられる。
Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。
Ｒ１における「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Ｒ１で表される「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」における「低級アルキル基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜４のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、該低級アルキル基は、置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ１で表される「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」における「低級アルコキシ基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜４のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」としては、上記低級アルキル基の場合と同様なものが挙げられ、該低級アルコキシ基は置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ１で表される「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Ｒ１における「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Ｒ１で表される「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」における「低級アルキル基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜４のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、該低級アルキル基は、置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ１で表される「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」における「低級アルコキシ基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜４のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」としては、上記低級アルキル基の場合と同様なものが挙げられ、該低級アルコキシ基は置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ１で表される「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を示し、該「ハロゲン原子」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」ならびに「低級アルキル基」としては、上記Ｒ１におけると同様なものが挙げられ、低級アルキル基は置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ３は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。該「ハロゲン原子」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級シクロアルキル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルケニル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキニル基」ならびに「ハロゲンで置換されてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルコキシ基」としては、上記Ｒ１におけると同様なものが挙げられる。これらの低級アルキル基および低級アルコキシ基も、置換可能な位置で、１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
「ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されてもよい低級シクロアルキル基」における「低級シクロアルキル基」としては、シクロプロピル、シクロブチル等が挙げられ、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルケニル基」における「低級アルケニル基」としては、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１，２−プロパジエニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル等が挙げられ、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキニル基」における「低級アルキニル」としては、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル等が挙げられる。
また、「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記Ｒ１における「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Ｒ３は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。該「ハロゲン原子」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級シクロアルキル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルケニル基」、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキニル基」ならびに「ハロゲンで置換されてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルコキシ基」としては、上記Ｒ１におけると同様なものが挙げられる。これらの低級アルキル基および低級アルコキシ基も、置換可能な位置で、１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
「ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されてもよい低級シクロアルキル基」における「低級シクロアルキル基」としては、シクロプロピル、シクロブチル等が挙げられ、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルケニル基」における「低級アルケニル基」としては、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１，２−プロパジエニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル等が挙げられ、「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキニル基」における「低級アルキニル」としては、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル等が挙げられる。
また、「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記Ｒ１における「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
ＸおよびＹは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。該「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキル基」ならびに「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」ならびに「低級アルコキシ基」、および「ハロゲン原子」としては、上記Ｒ１におけると同様なものが挙げられる。これらの低級アルキル基および低級アルコキシ基も、置換可能な位置で、１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。ＸおよびＹとしてはハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基が好ましく、なかでもメトキシ基がより好ましい。
式（Ｉ）としては、（ａ）Ｒ１がハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、Ｒ２が水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、Ｒ３がハロゲン原子、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、ＸおよびＹが、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基を表すものが好ましく、さらに（ｂ）Ｒ１がハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、Ｒ２が水素原子を、Ｒ３がハロゲン原子、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、ＸおよびＹが、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基を表すものがより好ましく、なかでも（ｃ）化合物Ｎｏ．１のような、Ｒ１がハロゲン原子を、Ｒ２が水素原子を、Ｒ３がＣ２−４アルキル基または低級シクロアルキル基を、ＸおよびＹがそれぞれメトキシ基を表すものが特に好ましい。
式（Ｉ）で表される化合物の代表的な例としては、化合物Ｎｏ．１の他に、
（１）Ｒ１がエチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がメチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（２）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（３）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（４）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がメチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（５）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｎ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（６）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（７）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｉ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（８）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｉ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（９）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がシクロプロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（１０）Ｒ１がフッ素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｎ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物が挙げられる。
（１）Ｒ１がエチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がメチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（２）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（３）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（４）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がメチルチオ、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（５）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｎ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（６）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がエチル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（７）Ｒ１がメチル、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｉ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（８）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｉ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（９）Ｒ１が塩素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がシクロプロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物、
（１０）Ｒ１がフッ素原子、Ｒ２が水素原子、Ｒ３がｎ−プロピル、ＸおよびＹがメトキシの化合物が挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開昭６４−３８０９１号および上記特許文献１に記載の方法に従って製造でき、化合物Ｎｏ．１製造の具体的方法を下記の参考例に示す。
式（Ｉ）で表される化合物が結晶の場合、結晶を晶出させる時の条件によって結晶多形や擬似結晶多形となり、同じ核磁気共鳴スペクトルを与える化学構造であっても異なる赤外吸収スペクトルを与える場合がある。本発明においては、この様な結晶多形や擬似結晶多形を示す化合物のそれぞれの結晶形のみならず、それらの混合結晶を用いてもよい。
式（Ｉ）で表される化合物が結晶の場合、結晶を晶出させる時の条件によって結晶多形や擬似結晶多形となり、同じ核磁気共鳴スペクトルを与える化学構造であっても異なる赤外吸収スペクトルを与える場合がある。本発明においては、この様な結晶多形や擬似結晶多形を示す化合物のそれぞれの結晶形のみならず、それらの混合結晶を用いてもよい。
本発明の除草剤組成物は、有効成分として、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と共に、特許文献２、３、４に記載される、式（II）で表されるベンゾイルシクロヘキサンジオン誘導体を含有する。式（II）中の低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基等における「低級」とは、炭化水素部分が１または２〜６個の炭素原子、好ましくは、１または２〜４個の炭素原子によって構成されていることをいう。例えば、直鎖状または分枝鎖状のＣ１-６アルキル基、Ｃ２-６アルケニル基、Ｃ１−６アルコキシ基、Ｃ１-６アルキルチオ基等が挙げられる。
Ｒ４、Ｒ５は、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。
Ｒ４、Ｒ５における「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Ｒ４、Ｒ５で表される「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「低級アルキル基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜６のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、該低級アルキル基は、置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ４、Ｒ５で表される「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「低級アルコキシ基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜６のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」としては、上記低級アルキル基の場合と同様なものが挙げられ、該低級アルコキシ基は置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてよい。
Ｒ４、Ｒ５で表される「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基または−（ＣＨ２）−Ｒ７基を示す。該「ハロゲン原子」、「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」ならびに「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルコキシ基」としては上記Ｒ４およびＲ５におけると同様なものが挙げられ、また「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としても、上記Ｒ４、Ｒ５と同様なものが挙げられる。
Ｒ４、Ｒ５は、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。
Ｒ４、Ｒ５における「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
Ｒ４、Ｒ５で表される「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「低級アルキル基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜６のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、該低級アルキル基は、置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてもよい。
Ｒ４、Ｒ５で表される「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「低級アルコキシ基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数１〜６のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」としては、上記低級アルキル基の場合と同様なものが挙げられ、該低級アルコキシ基は置換可能な位置で１個以上、好ましくは１〜３個のハロゲンによって置換されていてよい。
Ｒ４、Ｒ５で表される「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基または−（ＣＨ２）−Ｒ７基を示す。該「ハロゲン原子」、「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」ならびに「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルコキシ基」としては上記Ｒ４およびＲ５におけると同様なものが挙げられ、また「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としても、上記Ｒ４、Ｒ５と同様なものが挙げられる。
Ｒ６における「−（ＣＨ２）−Ｒ７基」におけるＲ７は、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルチオ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ベンジルオキシ低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基、低級シクロアルコキシ基、低級シクロアルキル低級アルコキシ基、テトラヒドロフラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロピラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロチエニル低級アルコキシ基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｒ８基を示す。該「ハロゲンで置換されてもよい低級アルコキシ基」ならびに「ハロゲンで置換されてもよい低級アルキルチオ基」における「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルキルチオ基」としては上記Ｒ４、Ｒ５におけると同様なものが挙げられる。「ベンジルオキシ低級アルコキシ基」、「低級シクロアルコキシ基」、「低級シクロアルキル低級アルコキシ基」、「テトラヒドロフラニル低級アルコキシ基」、「テトラヒドロピラニル低級アルコキシ基」および「テトラヒドロチエニル低級アルコキシ基」における「低級アルコキシ基」としては上記Ｒ４、Ｒ５におけると同様なものが挙げられる。「低級シクロアルキル基」および「低級シクロアルキル低級アルコキシ基」における「低級シクロアルキル基」としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる。「低級シクロアルコキシ基」としては、シクロプロポキシ、シクロブロキシ、シクロペントキシ、シクロヘキシルオキシ等が挙げられる。
Ｒ７における「−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｒ８基」におけるＲ８は、低級アルコキシ基または（低級アルコキシ）低級アルコキシ基を示す。該「低級アルコキシ基」および「（低級アルコキシ）低級アルコキシ基」における「低級アルコキシ」および「低級アルコキシ基」としてはＲ４、Ｒ５における「低級アルコキシ基」と同様なものが挙げられる。ｐは１、２または３を、ｑは０、１、２または３を示す。
式（ＩＩ）で表される化合物の代表的な例としては、上記の化合物Ｎｏ．２である２−［４−（メチルスルホニル）−２−ニトロベンゾイル］−１，３−シクロヘキサンジオン（一般名メソトリオン）、化合物Ｎｏ．３である２−｛２−クロロ−４−（メチルスルホニル）−３−［（テトラヒドロ−２−フラニルメトキシ）メチル］ベンゾイル｝−１，３−シクロヘキサンジオン（試験名ＡＶＨ−３０１）および化合物Ｎｏ．４である２−［２−クロロ−４−（メチルスルホニル）ベンゾイル］−１，３−シクロヘキサンジオン（一般名スルコトリオン）が挙げられる。
式（Ｉ）および式（ＩＩ）で表される化合物は、光学異性体、ジアステレオマーおよび／または幾何異性体が存在する場合があるが、本発明ではそれぞれの異性体およびそれらの混合物を用いてもよい。
式（Ｉ）および式（ＩＩ）で表される化合物は、分子中の置換分中のスルホ基、カルボキシル基等の酸性基が無機塩基、有機塩基等と農業化学的に許容されうる塩基塩を形成することができ、また、分子中の塩基性の窒素原子および置換分中のアミノ酸基等の塩基性基が無機酸、有機酸等と農業化学的に許容されうる酸付加塩を形成することができる。無機塩基塩としては、例えば、アルカリ金属（例、ナトリウム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（例、カルシウムなど）、アンモニアなどの塩、また、有機塩基塩としては、例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン、２−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、１，８−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデセンなどとの塩などが用いられる。式（Ｉ）で表される化合物の無機酸付加塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸などとの塩が、式（Ｉ）で表される化合物の有機酸付加塩としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、コハク酸、安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などとの塩が用いられる。
式（Ｉ）および式（ＩＩ）で表される化合物は、分子中の置換分中のスルホ基、カルボキシル基等の酸性基が無機塩基、有機塩基等と農業化学的に許容されうる塩基塩を形成することができ、また、分子中の塩基性の窒素原子および置換分中のアミノ酸基等の塩基性基が無機酸、有機酸等と農業化学的に許容されうる酸付加塩を形成することができる。無機塩基塩としては、例えば、アルカリ金属（例、ナトリウム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（例、カルシウムなど）、アンモニアなどの塩、また、有機塩基塩としては、例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン、２−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、１，８−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデセンなどとの塩などが用いられる。式（Ｉ）で表される化合物の無機酸付加塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸などとの塩が、式（Ｉ）で表される化合物の有機酸付加塩としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、コハク酸、安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などとの塩が用いられる。
式（Ｉ）で表される化合物と式（ＩＩ）で表される化合物の除草剤組成物に対して、これに、さらに、（ａ）カーバメート系除草剤、（ｂ）クロロアセトアニリド系除草剤、（ｃ）トリアジン系除草剤、（ｄ）酸アミド系または尿素系除草剤、および（ｅ）その他の系統の除草剤から選ばれる少なくともいずれか１種の除草剤を混合してもよい。
カーバメート系除草剤としては、例えば、ジアレート(di-allate)、ブチレート(butylate)、トリアレート(tri-allate)、フェンメディファム(phenmedipham)、クロロプロファム(chlorpropham)、アシュラム(asulam)、フェニソファム(phenisopham)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、モリネート(molinate)、エスプロカルブ(esprocarb)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)等が挙げられる。
クロロアセトアニリド系除草剤としては、例えば、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、アラクロール(alachlor)、アセトクロール(acetochlor)、メトラクロール(metolachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(theny1ch1or)等が挙げられる。
トリアジン系除草剤としては、例えば、シマジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、プロパジン(propazine)、シアナジン(cyanazine)、アメトリン(ametoryn)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)等が挙げられる。
酸アミド系または尿素系除草剤としては、例えば、イソキサベン(Isoxaben)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、フルオメツロン(fluometuron)、ジフェノクスロン(difenoxuron)、メチルダイムロン(methyl-daimuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンゾチアズウロン(methabenzthiazuron)、プロパニル(propanil)、メフェナセット(mefenacet)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)、ブロモブチド(bromobutide)、ダイムロン(daimuron)、クミルロン(cumy1uron)、エトベンザニド(etobenzanid)等が挙げられる。
その他の系統の除草剤としては、例えば、ベンタゾン(bentazon)、トリジファン(tridiphane)、インダノファン(indanofan)、アミトロール(amitrole)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazon-ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazon)、フェンクロラゾールエチル(fenchlorazole-ethyl)、フェントラザミド(fentrazamide)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、クロマゾン(clomazone)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、ピリチオバック(pyrithiobac)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、メトリブジン(metribuzin)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、シンメチリン(cinmethylin)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac-pentyl)、シニドンエチル(cinidon-ethyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルチアセットメチル(fluthiacet-methyl)、アザフェニジン(azafenidin)、べンフレセート(benfuresate)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargy1)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ピラクロニル（pyraclonil）、シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、カフェンストロール(cafenstrole)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methy1)、ビスビリバックナトリウム(bispyribac-sodium)、ピリミメスルファン（pyrimesulfan）、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド（pyriftalid）、フェントラザミド（fentrazamide）、インダノファン（indanofan）、ACN、ベンゾビシクロン（bennzobicyclon）、ジチオピル(dithiopyr)、ダラポン(da1apon)、クロルチアミド(chlorthiamid)、ペノキススラム（penoxsulam）等が挙げられる。
カーバメート系除草剤としては、例えば、ジアレート(di-allate)、ブチレート(butylate)、トリアレート(tri-allate)、フェンメディファム(phenmedipham)、クロロプロファム(chlorpropham)、アシュラム(asulam)、フェニソファム(phenisopham)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、モリネート(molinate)、エスプロカルブ(esprocarb)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)等が挙げられる。
クロロアセトアニリド系除草剤としては、例えば、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、アラクロール(alachlor)、アセトクロール(acetochlor)、メトラクロール(metolachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(theny1ch1or)等が挙げられる。
トリアジン系除草剤としては、例えば、シマジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、プロパジン(propazine)、シアナジン(cyanazine)、アメトリン(ametoryn)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)等が挙げられる。
酸アミド系または尿素系除草剤としては、例えば、イソキサベン(Isoxaben)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、フルオメツロン(fluometuron)、ジフェノクスロン(difenoxuron)、メチルダイムロン(methyl-daimuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンゾチアズウロン(methabenzthiazuron)、プロパニル(propanil)、メフェナセット(mefenacet)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)、ブロモブチド(bromobutide)、ダイムロン(daimuron)、クミルロン(cumy1uron)、エトベンザニド(etobenzanid)等が挙げられる。
その他の系統の除草剤としては、例えば、ベンタゾン(bentazon)、トリジファン(tridiphane)、インダノファン(indanofan)、アミトロール(amitrole)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazon-ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazon)、フェンクロラゾールエチル(fenchlorazole-ethyl)、フェントラザミド(fentrazamide)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、クロマゾン(clomazone)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、ピリチオバック(pyrithiobac)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、メトリブジン(metribuzin)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、シンメチリン(cinmethylin)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac-pentyl)、シニドンエチル(cinidon-ethyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルチアセットメチル(fluthiacet-methyl)、アザフェニジン(azafenidin)、べンフレセート(benfuresate)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargy1)、ペントキサゾン(pentoxazone)、ピラクロニル（pyraclonil）、シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、カフェンストロール(cafenstrole)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methy1)、ビスビリバックナトリウム(bispyribac-sodium)、ピリミメスルファン（pyrimesulfan）、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド（pyriftalid）、フェントラザミド（fentrazamide）、インダノファン（indanofan）、ACN、ベンゾビシクロン（bennzobicyclon）、ジチオピル(dithiopyr)、ダラポン(da1apon)、クロルチアミド(chlorthiamid)、ペノキススラム（penoxsulam）等が挙げられる。
本発明の除草剤組成物は、一般の農薬のとりうる形態、すなわち、上記有効成分を適当な液体担体に溶解するか分散させるか、または適当な固体担体と混合するか吸着させ、例えば、乳剤、油剤、噴霧剤、水和剤、粉剤、ＤＬ(ドリフトレス)型粉剤、粒剤、微粒剤、微粒剤Ｆ、フロアブル剤、ドライフロアブル剤、ジャンボ粒剤、錠剤などの製剤として使用する。これらの製剤は必要に応じ、乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法で調製することができる。
使用する液体担体（溶剤）としては、例えば、水、アルコール類（例、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エテレングリコール等）、ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、脂肪族炭化水素類（例、ケロシン、燃料油、機械油等）、芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、酸アミド類（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、エステル類（例、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等）、ニトリル類（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）などの溶媒が適当であり、これらは１種または２種以上を適当な割合で混合して使用する。固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末（例、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等）、鉱物性粉末（例、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレイ類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉等のシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当であり、これらは１種または２種以上を適当な割合で混合して使用する。該液体担体または固体担体は、製剤全体に対して通常約１〜９９重量％程度、好ましくは約１〜８０重量％程度用いることができる。
使用する液体担体（溶剤）としては、例えば、水、アルコール類（例、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エテレングリコール等）、ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、脂肪族炭化水素類（例、ケロシン、燃料油、機械油等）、芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、酸アミド類（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、エステル類（例、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等）、ニトリル類（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）などの溶媒が適当であり、これらは１種または２種以上を適当な割合で混合して使用する。固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末（例、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等）、鉱物性粉末（例、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレイ類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉等のシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当であり、これらは１種または２種以上を適当な割合で混合して使用する。該液体担体または固体担体は、製剤全体に対して通常約１〜９９重量％程度、好ましくは約１〜８０重量％程度用いることができる。
乳化剤、展着剤、浸透剤、分散剤等として使用される界面活性剤としては、必要に応じて石鹸類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類（例、ノイゲンＴＭ、イー・エー１４２ＴＭ（Ｅ・Ａ１４２ＴＭ、ＴＭは登録商標であることを示す。以下同様）；第一工業製薬（株）製）、ポリオキシエチレンアリールエステル類（例、ノナールＴＭ；東邦化学（株）製）、アルキル硫酸塩類（例、ユマール１０ＴＭ、ユマール４０ＴＭ；花王（株）製）、アルキルスルホン酸塩類（例、ネオゲンＴＭ、ネオゲンＴＴＭ；第一工業製薬（株）製、ネオペレックスＴＭ；花王（株）製）、ポリエチレングリコールエーテル類（例、ノニポール８５ＴＭ、ノニポール１００ＴＭ、ノニポール１６０ＴＭ；三洋化成（株）製）、多価アルコールエステル類（例、ツイーン２０ＴＭ、ツイーン８０ＴＭ；花王（株）製）などの非イオン系およびアニオン系界面活性剤が用いられる。該界面活性剤は、製剤全体に対して、通常０．１〜約５０重量％程度、好ましくは約０．１〜２５重量％程度用いることができる。
式（Ｉ）で表される化合物またはその塩の除草剤組成物中の配合量は乳剤、水和剤などは１から９０重量％程度が適当であり、油剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）型粉剤などとしては０．０１〜１０重量％程度が適当であり、微粒剤Ｆ、粒剤としては０．０５〜１０重量％程度が適当である。
また、式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩の除草剤組成物中の配合量も組成物の剤形により変わるが、通常、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩とを重量比１：０．１〜５０、好ましくは、１：０．２〜１０の割合で配合することにより所望の効果が得られる。
乳剤、水和剤などは使用に際して、水などで適宜希釈増量（例えば１００〜１００,０００倍）して散布する。
式（Ｉ）で表される化合物またはその塩の除草剤組成物中の配合量は乳剤、水和剤などは１から９０重量％程度が適当であり、油剤、粉剤、ＤＬ（ドリフトレス）型粉剤などとしては０．０１〜１０重量％程度が適当であり、微粒剤Ｆ、粒剤としては０．０５〜１０重量％程度が適当である。
また、式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩の除草剤組成物中の配合量も組成物の剤形により変わるが、通常、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩とを重量比１：０．１〜５０、好ましくは、１：０．２〜１０の割合で配合することにより所望の効果が得られる。
乳剤、水和剤などは使用に際して、水などで適宜希釈増量（例えば１００〜１００,０００倍）して散布する。
本発明の除草剤組成物は、特に、水稲の湛水直播時、乾田直播時、または直播後、水稲移植時または移植後に施用することにより水稲に対して極めて優れた選択性を有し、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に高い除草効果を示す。また、畑地雑草用としても使用でき、発芽前土壌処理あるいは茎葉兼土壌処理剤として、例えば、本発明の除草剤組成物は処理後２〜３週間後でも薬害が発現することなく安全に使用できる。
本発明の除草剤組成物を用いる場合の使用量は、適用場面、適用時期、施用方法、対象雑草、栽培作物等により異なるが一般に有効成分（式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩との合計）として水田１アール当たり０．１ｇから１００ｇ程度、好ましくは０．２ｇから５０ｇ程度、畑地１アール当たり０．０８ｇから２００ｇ程度、好ましくは０．１６ｇから１００ｇ程度である。
本発明の除草剤組成物を用いる場合の使用量は、適用場面、適用時期、施用方法、対象雑草、栽培作物等により異なるが一般に有効成分（式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩との合計）として水田１アール当たり０．１ｇから１００ｇ程度、好ましくは０．２ｇから５０ｇ程度、畑地１アール当たり０．０８ｇから２００ｇ程度、好ましくは０．１６ｇから１００ｇ程度である。
本発明の除草剤組成物は、必要に応じて、植物生長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤等と同時に施用することができる。また、植物生長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤等を配合し、混合使用することもできる。
植物生長調節剤(植物生長調節活性成分)としては、例えば、ヒメキサゾール(hymexazo1)、パクロブトラゾール(pac1obutrazo1)、ウニコナゾール−P(uniconazole-P)、イナベンフィド(inabenfide)、プロヘキサジオンカルシウム(prohexadione-ca1cium)等が挙げられる。
殺菌剤(殺菌活性成分)としては、例えば、（１）ポリハロアルキルチオ系殺菌剤[キャプタン(captan)等]、（２）有機リン系殺菌剤［IBP、EDDP、トルクロフォスメチル(tolc1ofos-methy1)等］、（３）ベンズイミダゾール系殺菌剤[べノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チオファネートメチル(thiophanate-methy1)等]、（４）カルボキシアミド系殺菌剤[メプロニル(meproni1)、フルトラニル(f1uto1anil)、チフルザミド(thifluzamid)、フラメトピル(furametpyr)、テクロフタラム(tec1oftha1am)、ペンシクロン(Pencycuron)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(dic1ocymet)等]、（５）アシルアラニン系殺菌剤[メタラキシル(metalaxy1)等]、（６）アゾール系殺菌剤[トリフルミゾール(triflumizo1e)、イプコナジール(ipconazo1e)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プログロラズ(proch1oraz)等]、（７）メトキシアクリル酸系殺菌剤[アゾキシストロビン(azoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)等]、（８）抗生物質系殺菌剤[バリダマイシンA(validamycin A)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(po1yoxin)等]、（９）その他の殺菌剤[フサライド(fthalide)、プロベナゾール(probenazo1e)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、トリジクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroqui1n)、フェリムゾン(ferimzone)、アシベンゾラルSメチル(acibnzolar S-methy1)、ジクロメジン(dic1omezine)、オキソリニック酸(oxo1inic acid)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、TPN、イプロジオン(iprodione)等]等が挙げられる。
殺虫剤(殺虫活性成分)としては、例えば、（１）有機リン系殺虫剤[フェンチオン(fenthion)、フエニトロチオン(fenitrothion)、ピリミホスメチル(pirimiphos-methy1)、ダイアジノン(diazinon)、キナルホス(quinalphos)、イソキサチオン(isoxathion)、ピリダフェンチオン(Pyridafenthion)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos-methyl)、バミドチオン(vamidothion)、マラチオン(malathion)、フェントエート(phenthoate)、ジメトエート(dimethoate)、ジスルホトン(disulfoton)、モノクロトホス(monocrotophos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、プロパホス(propaphos)、アセフェート(acephate)、トリクロルホン(trichlorphon)、EPN、ピラクロホス(pyraclorfos)等]、（２）カルバメート系殺虫剤[カルバリル(carbary1)、メトルカルブ(metolcarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、BPMC、プロポキスル(propoxur)、XMC、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、ベンフラガルブ(benfuracarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、メソミル(methomyl)、チオジカルブ(thiodicarb)等]、（３）合成ピレスロイド系殺虫剤[シクロプロトリン(cycloprothrin)、エトフェンプロックス(ethofenprox)等]、（４）ネライストキシン系殺虫剤[カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)等]、（５）ネオニコチノイド系殺虫剤[イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド（thiacloprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、クロチアニジン（clothianidin）等]、（６）その他の殺虫剤[ブプロフェジン(buprofezin)、テブフェノジド(tebufenozide)、フィプロニル(fiproni1)、エチプロール（ethiprole）、ピリダリル（pyridalyl）等]等が挙げられる。
殺ダニ剤(殺ダニ活性成分)としては、例えば、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、ピリダベン(pyridaben)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、エトキサゾール(etoxazole)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)等が挙げられる。
殺線虫剤(殺線虫活性成分)としては、例えば、フォスチアゼート(fosthiazate)等が挙げられる。
このような他の農薬活性成分(例、植物生長調節活性成分、殺菌活性成分、殺虫活性成分、殺ダニ活性成分、殺線虫活性成分など)は組成物全体に対して通常約０．1〜２０重量％程度、好ましくは約０．１〜１０重量％程度用いることができる。
本発明の除草剤組成物には、さらに共力剤(例、ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)等)、誘引剤(例、オイゲノール(eugenol)等)、忌避剤(例、クレオソート(creosote)等)、色素(例、食用青色1号等)、肥料(例、尿素等)等を適宜混合してもよい。
本発明においては、式（Ｉ）で表される化合物と式（ＩＩ）で表される化合物を混合して１つの製剤として散布してもよく、両有効成分を混合しないで、個別に製剤化し、同時に散布してもよく、一方の有効成分を先に散布し他方の有効成分を後で散布してもよい。
両方の化合物を１つの製剤としたものに加えて、このような、個別に製剤化したものも、組み合わせて使用するための製剤は、本発明範囲のものである。
植物生長調節剤(植物生長調節活性成分)としては、例えば、ヒメキサゾール(hymexazo1)、パクロブトラゾール(pac1obutrazo1)、ウニコナゾール−P(uniconazole-P)、イナベンフィド(inabenfide)、プロヘキサジオンカルシウム(prohexadione-ca1cium)等が挙げられる。
殺菌剤(殺菌活性成分)としては、例えば、（１）ポリハロアルキルチオ系殺菌剤[キャプタン(captan)等]、（２）有機リン系殺菌剤［IBP、EDDP、トルクロフォスメチル(tolc1ofos-methy1)等］、（３）ベンズイミダゾール系殺菌剤[べノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チオファネートメチル(thiophanate-methy1)等]、（４）カルボキシアミド系殺菌剤[メプロニル(meproni1)、フルトラニル(f1uto1anil)、チフルザミド(thifluzamid)、フラメトピル(furametpyr)、テクロフタラム(tec1oftha1am)、ペンシクロン(Pencycuron)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(dic1ocymet)等]、（５）アシルアラニン系殺菌剤[メタラキシル(metalaxy1)等]、（６）アゾール系殺菌剤[トリフルミゾール(triflumizo1e)、イプコナジール(ipconazo1e)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プログロラズ(proch1oraz)等]、（７）メトキシアクリル酸系殺菌剤[アゾキシストロビン(azoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)等]、（８）抗生物質系殺菌剤[バリダマイシンA(validamycin A)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(po1yoxin)等]、（９）その他の殺菌剤[フサライド(fthalide)、プロベナゾール(probenazo1e)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、トリジクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroqui1n)、フェリムゾン(ferimzone)、アシベンゾラルSメチル(acibnzolar S-methy1)、ジクロメジン(dic1omezine)、オキソリニック酸(oxo1inic acid)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、TPN、イプロジオン(iprodione)等]等が挙げられる。
殺虫剤(殺虫活性成分)としては、例えば、（１）有機リン系殺虫剤[フェンチオン(fenthion)、フエニトロチオン(fenitrothion)、ピリミホスメチル(pirimiphos-methy1)、ダイアジノン(diazinon)、キナルホス(quinalphos)、イソキサチオン(isoxathion)、ピリダフェンチオン(Pyridafenthion)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos-methyl)、バミドチオン(vamidothion)、マラチオン(malathion)、フェントエート(phenthoate)、ジメトエート(dimethoate)、ジスルホトン(disulfoton)、モノクロトホス(monocrotophos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、プロパホス(propaphos)、アセフェート(acephate)、トリクロルホン(trichlorphon)、EPN、ピラクロホス(pyraclorfos)等]、（２）カルバメート系殺虫剤[カルバリル(carbary1)、メトルカルブ(metolcarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、BPMC、プロポキスル(propoxur)、XMC、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、ベンフラガルブ(benfuracarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、メソミル(methomyl)、チオジカルブ(thiodicarb)等]、（３）合成ピレスロイド系殺虫剤[シクロプロトリン(cycloprothrin)、エトフェンプロックス(ethofenprox)等]、（４）ネライストキシン系殺虫剤[カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)等]、（５）ネオニコチノイド系殺虫剤[イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド（thiacloprid）、ジノテフラン（dinotefuran）、クロチアニジン（clothianidin）等]、（６）その他の殺虫剤[ブプロフェジン(buprofezin)、テブフェノジド(tebufenozide)、フィプロニル(fiproni1)、エチプロール（ethiprole）、ピリダリル（pyridalyl）等]等が挙げられる。
殺ダニ剤(殺ダニ活性成分)としては、例えば、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、ピリダベン(pyridaben)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、エトキサゾール(etoxazole)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)等が挙げられる。
殺線虫剤(殺線虫活性成分)としては、例えば、フォスチアゼート(fosthiazate)等が挙げられる。
このような他の農薬活性成分(例、植物生長調節活性成分、殺菌活性成分、殺虫活性成分、殺ダニ活性成分、殺線虫活性成分など)は組成物全体に対して通常約０．1〜２０重量％程度、好ましくは約０．１〜１０重量％程度用いることができる。
本発明の除草剤組成物には、さらに共力剤(例、ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)等)、誘引剤(例、オイゲノール(eugenol)等)、忌避剤(例、クレオソート(creosote)等)、色素(例、食用青色1号等)、肥料(例、尿素等)等を適宜混合してもよい。
本発明においては、式（Ｉ）で表される化合物と式（ＩＩ）で表される化合物を混合して１つの製剤として散布してもよく、両有効成分を混合しないで、個別に製剤化し、同時に散布してもよく、一方の有効成分を先に散布し他方の有効成分を後で散布してもよい。
両方の化合物を１つの製剤としたものに加えて、このような、個別に製剤化したものも、組み合わせて使用するための製剤は、本発明範囲のものである。
以下に、参考例、実施例および試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中、部とあるは、いずれも重量部を意味する。
２−クロロ−６−ｎ−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジンの合成
窒素気流下、100 ml 三口フラスコに、２，６−ジクロロイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン (1.6 g, 8.5 mmol)、［１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ニッケル（II）ジクロリド（触媒量）および脱水テトラヒドロフラン (20 ml)をいれ氷冷下撹拌し、プロピルマグネシウムクロリドテトラヒドロフラン溶液 (2M,6.4 ml, 12.8 mmol)を１０℃以下で滴下した。滴下終了後、同温度で１時間、室温で１時間、５０〜６０℃で２時間撹拌した。反応終了後、反応液を放冷し、水 (50 ml)をいれ撹拌後、酢酸エチルで抽出した (20 ml×2)。有機相を合して水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、目的物を橙色結晶（少量の不純物を含む）として得た。収量 0.8 g(48.2 %)
1H NMR (CDCl3, δ): 1.01 (3H,t,J=7.3 Hz), 1.7-1.9 (2H,m), 2.79 (2H,t,J=7.6 Hz), 6.96 (1H,d,J=9.3 Hz), 7.75 (1H,d,J=9.3 Hz), 8.19 (1H,d,J=9.4 Hz)
1H NMR (CDCl3, δ): 1.01 (3H,t,J=7.3 Hz), 1.7-1.9 (2H,m), 2.79 (2H,t,J=7.6 Hz), 6.96 (1H,d,J=9.3 Hz), 7.75 (1H,d,J=9.3 Hz), 8.19 (1H,d,J=9.4 Hz)
２−クロロ−６−ｎ−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン−３−スルホンアミドの合成
２００ｍＬナスフラスコに、２−クロロ−６−ｎ−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン（０．８ｇ、４．１ｍｍｏｌ）およびジクロロエタン（１０ｍＬ）を入れ、室温で撹拌し、クロロスルホン酸（０．５４ｇ、４．５ｍｍｏｌ）を一気に加え、４時間加熱還流下撹拌した。反応液を７０℃付近まで冷却し、トリエチルアミン（０．５ｇ、５ｍｍｏｌ）を一気に加え、固体が溶解するまで撹拌した後、オキシ塩化リン（０．７９ｇ、５ｍｍｏｌ）を一気に加え、２時間加熱還流下撹拌した。反応終了後、反応液を放冷し、水（５０ｍＬ）を加えて有機相を分取した。有機相を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣にアセトニトリル（１０ｍｌ）および２８％アンモニア水（４ｍＬ）を入れ、室温で２時間撹拌した。反応終了後、水（１００ｍＬ）を加え、希塩酸でｐＨ＝２位に調節し、生成している結晶を濾取、水およびクロロホルムで洗浄後、減圧下で乾燥して、目的物を淡褐色結晶として得た。収量０．４９ｇ（４３．５％）
ｍｐ１７４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），２．８−３．０（２Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．８２（２Ｈ，ｂｒｓ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ，ｃｍ−１）：３３７７，３３２４，３１８９，１５４５，１３６４，１３２２，１１８７，１１６６，８２１，６８０，５９７
ｍｐ１７４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），２．８−３．０（２Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），７．８２（２Ｈ，ｂｒｓ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ，ｃｍ−１）：３３７７，３３２４，３１８９，１５４５，１３６４，１３２２，１１８７，１１６６，８２１，６８０，５９７
１−（２−クロロ−６−ｎ−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン−３−イルスルホニル）−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）ウレア（化合物Ｎｏ．１）の合成
２５ｍＬナスフラスコに、２−クロロ−６−ｎ−プロピルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン−３−スルホンアミド（０．４９ｇ、１．７８ｍｍｏｌ）、フェニルＮ−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カーバメート（０．５５ｇ、２ｍｍｏｌ）およびアセトニトリル（５ｍＬ）を入れ、室温で撹拌し、ＤＢＵ（０．３１ｇ、２ｍｍｏｌ）を一気に加え、室温で３時間撹拌した。反応終了後、反応液を水（５０ｍＬ）にあけ、希塩酸でｐＨ＝２位に調節すると結晶が生成した。これを濾取し、水、アセトン、エーテルで順次洗浄した後減圧下で乾燥して目的物を淡褐色結晶として得た。収量０．７１ｇ（８９．５％）
ｍｐ１９９−２０１℃（ｄｅｃ．）
１Ｈ ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４−１．５（２Ｈ，ｍ），２．６−２．７（２Ｈ，ｍ），３．９７（６Ｈ，ｓ），６．０８（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），１０．６８（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．４−１３．５（１Ｈ，ｍ）．
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ，ｃｍ−１）：３６４３，１７２０，１７０３，１６０７，１５７３，１４５３，１３５９，１３２４，１２９０，１１９９，１１６２，１０１６，８８８，８４０，６２９，５８９，５１４．
ｍｐ１９９−２０１℃（ｄｅｃ．）
１Ｈ ＮＭＲ （ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：０．７０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．４−１．５（２Ｈ，ｍ），２．６−２．７（２Ｈ，ｍ），３．９７（６Ｈ，ｓ），６．０８（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），１０．６８（１Ｈ，ｂｒｓ），１３．４−１３．５（１Ｈ，ｍ）．
ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ，ｃｍ−１）：３６４３，１７２０，１７０３，１６０７，１５７３，１４５３，１３５９，１３２４，１２９０，１１９９，１１６２，１０１６，８８８，８４０，６２９，５８９，５１４．
小型ニーダーに化合物Ｎｏ．１ １．０部、化合物Ｎｏ．２ ０．６部、ネオコールＹＳＫ ０．５部、トキサノンＧＲ３１Ａ ２．０部、クニゲルＶ１ ３０．０部、炭酸カルシウム ６５．９部を投入後、混合、練合し、押し出し式造粒機（ＲＧ−５Ｍ、菊水製作所製）により造粒し、流動層乾燥機（ＭＤＢ−４００、不二パウダル製）で乾燥後、１６〜４８メッシュで篩過し、粒剤を製造した。
化合物Ｎｏ．１ １．９部、化合物Ｎｏ．３ ６．３部、エチレングリコール ９．０部、アンチホームＥ−２０ ０．３部、ソルビン酸 ０．１部、イソエリートＬ １０．０部、ニューカルゲンＤ−１５１８ ３．０部、アグリゾールＦＬ−２０１７ ２．０部を水６７．４部と混合し、ホモミキサーにて分散した後、これら混合物をダイノミル（シンマルエンタープライゼス製、１．０ｍｍガラスビーズ、充填率８５％、周速１０ｍ／ｓ）を用いて湿式粉砕（１パス）した。
化合物Ｎｏ．１ ２．４部、化合物Ｎｏ．３ ８．０部、マイクロスフィアＦ−８０Ｅ（プラスチック中空体） ２．４部、オルフィンＥ１０１０ ３．０部、トキサノンＧＲ−３１Ａ ２．０部、トリポリリン酸ナトリウム ５．０部、セロゲン７Ａ ３．０部、クニゲルＶ１ １０．０部、炭酸カルシウム ６４．２部を混合し、所定量の水を加え練合し、１．５ｍｍのスクリーンを装着した押し出し式造粒機（ＲＧ−５Ｍ、菊水製作所製）により造粒し、流動層乾燥機（ＭＤＢ−４００、不二パウダル製）で乾燥し、粒剤を得た。
タイヌビエに対する除草効果（温室内ポット試験）
５０ｃｍ２発泡スチロールポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き、タイヌビエが２．０〜２．５葉期になったときに、湛水を５ｃｍとした後、化合物を含む薬剤希釈液を１アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物１．０ｇを、界面活性剤ツイーン２０ＴＭ２％（Ｗ／Ｖ）を含むアセトン２Ｌに溶解し、水で希釈して全量を１０Ｌとしたものである。
薬剤処理３週間後にタイヌビエに対する効果を表１に示す基準によって評価する。
５０ｃｍ２発泡スチロールポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き、タイヌビエが２．０〜２．５葉期になったときに、湛水を５ｃｍとした後、化合物を含む薬剤希釈液を１アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物１．０ｇを、界面活性剤ツイーン２０ＴＭ２％（Ｗ／Ｖ）を含むアセトン２Ｌに溶解し、水で希釈して全量を１０Ｌとしたものである。
薬剤処理３週間後にタイヌビエに対する効果を表１に示す基準によって評価する。
結果を表２に示す。
イヌホタルイに対する除草効果（温室内ポット試験）
５０ｃｍ２発泡スチロールポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き、タイヌビエが２．０葉期になったときに、湛水を５ｃｍとした後、化合物を含む薬剤希釈液を１アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物１．０ｇを、界面活性剤ツイーン２０ＴＭ２％（Ｗ／Ｖ）を含むアセトン２Ｌに溶解し、水で希釈して全量を１０Ｌとしたものである。
薬剤処理３週間後にイヌホタルイに対する効果を表１に示す基準によって評価する。
結果を表３に示す。
５０ｃｍ２発泡スチロールポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き、タイヌビエが２．０葉期になったときに、湛水を５ｃｍとした後、化合物を含む薬剤希釈液を１アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物１．０ｇを、界面活性剤ツイーン２０ＴＭ２％（Ｗ／Ｖ）を含むアセトン２Ｌに溶解し、水で希釈して全量を１０Ｌとしたものである。
薬剤処理３週間後にイヌホタルイに対する効果を表１に示す基準によって評価する。
結果を表３に示す。
Claims (7)
- 式（Ｉ）：
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、
Ｒ３は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンもしくは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
ＸおよびＹは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。）で表される化合物またはその塩と、
式（ＩＩ）：
Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノ基または−（ＣＨ２）−Ｒ７基を、
Ｒ７は、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキルチオ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基、ベンジルオキシ低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基、低級シクロアルコキシ基、低級シクロアルキル低級アルコキシ基、テトラヒドロフラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロピラニル低級アルコキシ基、テトラヒドロチエニル低級アルコキシ基または−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ−Ｏ−（ＣＨ２）ｑ−Ｒ８基を、
Ｒ８は、低級アルコキシ基または（低級アルコキシ）低級アルコキシ基を、
ｐは、１、２または３を、
ｑは、０、１、２または３を示す。）
で表される化合物またはその塩から選ばれる１種または２種以上の化合物とを含有することを特徴とする除草剤組成物。 - 式（Ｉ）において、Ｒ１がハロゲン原子であり、Ｒ２が水素原子であり、Ｒ３がＣ２−４アルキルまたは低級シクロアルキルであり、ＸおよびＹがそれぞれメトキシ基である請求項１記載の除草剤組成物。
- 上記式（Ｉ）で表される化合物が式：
- 式（ＩＩ）の化合物が式：
または
で表される化合物である請求項１〜３のいずれか１つに記載の除草剤組成物。 - 式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩とを重量比１：０．１〜５０の割合で含有する請求項１〜３のいずれか１つに記載の除草剤組成物。
- 雑草を防除する方法であり、式（Ｉ）で表される化合物またはその塩と式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物を同時に散布するか、あるいは式（Ｉ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物および式（ＩＩ）で表される化合物またはその塩を含有する除草剤組成物の一方を散布した後にもう一方の除草剤組成物を散布することによる方法。
- 水稲田用である請求項１記載の除草剤組成物。
Priority Applications (1)
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-
2005
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