JP2005126415A - 除草剤組成物 - Google Patents

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JP2005126415A JP2004254172A JP2004254172A JP2005126415A JP 2005126415 A JP2005126415 A JP 2005126415A JP 2004254172 A JP2004254172 A JP 2004254172A JP 2004254172 A JP2004254172 A JP 2004254172A JP 2005126415 A JP2005126415 A JP 2005126415A
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Yasushi Tanaka
易 田中
Yukari Kajiwara
ゆかり 梶原
Takayuki Nishiyama
孝行 西山
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Abstract

【課題】 1回の施用でスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む全雑草を十分に防除し、有効成分数の少ない、しかも水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤を提供する。
【解決手段】 式:
【化1】
Figure 2005126415

〔式中、Qは縮合複素環基を、XおよびYは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基等を示す。〕で表される化合物またはその塩と、(a)カーバメート系除草剤、(b)クロロアセトアニリド系除草剤、(c)トリアジン系除草剤、(d)酸アミド系または尿素系除草剤、および(e)その他の系統の除草剤から選ばれるいずれか1種の化合物とを含有することを特徴とする除草剤組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、除草剤組成物、さらに詳しくは、特に水稲に対して優れた選択性を有し、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に高い除草効果を示す除草剤組成物に関する。
一般に除草剤の施用される場においては多種類の雑草が混在して生育しており、かつそれぞれの個体の出芽や生育時期はそれを取り巻く環境条件によって異なり、一様でない。特に、最近の水稲栽培では移植時期の早期化による雑草の発生期間の長期化により、除草剤の施用は生育段階の異なる多種類の雑草を対象として行われていることになり、スルホニル尿素系除草剤の実用化以降、2種以上の有効成分を含む混合剤として広く使用されてきた。しかしながら、近年、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草の出現により、これら雑草に有効な有効成分を添加し、混合剤中の有効成分数を増加させる防除方法が主であった。このような有効成分数の増加は、土壌残留など環境に好ましからざる問題を提議している。このため、殺草スペクトラムが広く、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に対して満足し得る除草効果を有し、かつ抑草効果持続性の長い、しかも混合剤中の有効成分を減らし得る除草剤が求められている。
本出願人による特許文献1には、このような除草剤として有用な縮合複素環スルホニル尿素化合物が開示されている。
国際公開第03/061388号パンフレット
本発明は、1回の施用でスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む全雑草を十分に防除し、有効成分数の少ない、しかも水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた。その結果、従来の除草剤に比して低薬量で、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む水稲田における広範囲の一年生および多年生雑草をよく抑制し、かつイネに対する安全性が高い選択性除草剤である上記特許文献1に記載される縮合複素環スルホニル尿素化合物と、ノビエ、またはその他の雑草に対して優れた抑制効果を有するもう1種の適当な除草剤化合物とを組み合わせると、これらの課題を改良した、優れた混合剤タイプの除草剤が得られることを見出した。すなわち、それぞれ単独施用では期待できなかった抑制効果の持続作用が示されること、特に水稲田において1回の散布で実質的にすべての雑草の生育を抑制し、かつ前後の除草作業を必要としない程抑制効果が持続すること、およびそれぞれの単独使用における効果の和から予想される以上の相乗効果が得られることを見出し、さらに研究を重ねた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)式(I):
Figure 2005126415
〔式中、Qは、式:
Figure 2005126415
(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
R2は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、
R3は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンもしくは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。)で表される縮合複素環基を、
XおよびYは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。〕で表される化合物またはその塩と、
(a)カーバメート系除草剤、
(b)クロロアセトアニリド系除草剤、
(c)トリアジン系除草剤、
(d)酸アミド系または尿素系除草剤、および
(e)その他の系統の除草剤、
から選ばれる少なくともいずれか1種の除草剤とを含有することを特徴とする除草剤組成物、
(2)Qが、式Q1で表される基である上記(1)記載の除草剤組成物、
(3)式Q1におけるR1がハロゲン原子であり、R2が水素原子であり、R3がC2−4アルキルまたは低級シクロアルキルであり、XおよびYがそれぞれメトキシ基である(2)記載の除草剤組成物、
(4)上記式(I)で表される化合物が式:
Figure 2005126415
(以下、化合物No.1と称する)で表される化合物である上記(1)記載の除草剤組成物、
(5)(a)カーバメート系除草剤がエスプロカルブ、ピリブチカルブ、(b)クロロアセトアニリド系除草剤がプレチラクロール、(c)トリアジン系除草剤がジメタメトリン、(d)酸アミド系または尿素系除草剤が、メフェナセット、クロメプロップ、ブロモブチド、ダイムロン、エトベンザニド、(e)その他の系統の除草剤がオキサジクロメホン、ペントキサゾン、シハロホップブチル、カフェンストロール、ピリミノバックメチル、フェントラザミド、ベンゾビシクロン、ジチオピル、ピリフタリドから選択される上記(1)記載の除草剤組成物、
(6)式(I)で表される化合物またはその塩と(a)〜(e)から選択される除草剤とを、重量比が1:0.1〜50の割合で含有する上記(1)記載の除草剤組成物、
(7)水稲田用である上記(1)記載の除草剤組成物等を提供するものである。
本発明によれば、1回の施用でスルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草を含む全雑草を十分に防除し、有効成分数の少ない、しかも水稲に対して高度の安全性を有する混合剤タイプの除草剤組成物が提供できる。
本発明の除草剤組成物に用いる上記式(I)で表される化合物は上記特許文献1に記載される縮合複素環スルホニル尿素化合物である。式中の低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基等における「低級」とは、炭化水素部分が1または2〜6個の炭素原子、好ましくは、1または2〜4個の炭素原子によって構成されていることをいう。例えば、直鎖状または分枝鎖状のC1-6アルキル基、C2-6アルケニル基、C1−6アルコキシ基、C1-6アルキルチオ基等が挙げられる。
Qで示される縮合複素環基におけるR1は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。
R1における「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
R1における「低級アルキル基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数1〜4のアルキル基、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基」における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられ、該低級アルキル基は、置換可能な位置で1個以上、好ましくは1〜3個のハロゲンによって置換されていてよい。
R1における「低級アルコキシ基」としては、直鎖または分枝鎖状の炭素数1〜4のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、t−ブトキシ等が挙げられる。「ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基」における「ハロゲン」としては、上記低級アルキル基の場合と同様なものが挙げられ、該低級アルコキシ基は置換可能な位置で1個以上、好ましくは1〜3個のハロゲンによって置換されていてよい。
R1の「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
R2は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を示し、該「ハロゲン原子」、「ハロゲン」および「低級アルキル基」としては、上記R1と同様なものが挙げられ、低級アルキル基は置換可能な位置で1個以上、好ましくは1〜3個のハロゲンによって置換されていてよい。
R3は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。該「ハロゲン原子」、「ハロゲン」、「低級アルキル基」および「低級アルコキシ基」としては、上記R1と同様なものが挙げられる。これらの低級アルキル基および低級アルコキシ基も、置換可能な位置で、1個以上、好ましくは1〜3個のハロゲンによって置換されていてよい。「低級シクロアルキル基」としては、シクロプロピル、シクロブチル等が挙げられ、「低級アルケニル基」としては、エテニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1,2−プロパジエニル、1−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、1,3−ブタジエニル等が挙げられ、「低級アルキニル」としては、エチニル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル等が挙げられる。「低級アルキルチオ基」、「低級アルキルスルフィニル基」、「低級アルキルスルホニル基」、「低級アルキルアミノ基」および「ジ低級アルキルアミノ基」における「低級アルキル」としては、上記R1に記載した「低級アルキル基」と同様なものが挙げられる。
Qで示される縮合複素環基としては、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に対する活性の高さから式Q1で表されるイミダゾ[1,2−b]ピリダジン基、式Q3で表されるピラゾロ[1,5−a]ピリミジン基および式Q4で表されるピラゾ[1,5−b]チアゾール基が好ましい。とりわけ、式Q1で表される基が特に好ましい。
式(I)において、XおよびYは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。これらの「ハロゲン」、「低級アルキル基」、「低級アルコキシ基」および「ハロゲン原子」としても、上記R1と同様なものが挙げられる。これらの低級アルキル基および低級アルコキシ基も、置換可能な位置で、1個以上、好ましくは1〜3個のハロゲンによって置換されていてよい。XおよびYとしてはハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基が好ましく、なかでもメトキシ基がより好ましい。
式(I)としては、QがQ1を表し、(a)R1がハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、R2が水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、R3がハロゲン原子、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、XおよびYが、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基を表すものが好ましく、さらに(b)R1がハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、R2が水素原子を、R3がハロゲン原子、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、XおよびYが、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基を表すものがより好ましく、なかでも(c)化合物No.1のような、R1がハロゲン原子を、R2が水素原子を、R3がC2−4アルキル基または低級シクロアルキル基を、XおよびYがそれぞれメトキシ基を表すものが特に好ましい。
式(I)で表される化合物の代表的な例としては、化合物No.1の他に、
(1)QがQ1、R1がエチル、R2が水素原子、R3がメチルチオ、XおよびYがメトキシの化合物、
(2)QがQ1、R1がメチル、R2が水素原子、R3がエチル、XおよびYがメトキシの化合物、
(3)QがQ1、R1がメチル、R2が水素原子、R3がエチルチオ、XおよびYがメトキシの化合物、
(4)QがQ1、R1がメチル、R2が水素原子、R3がメチルチオ、XおよびYがメトキシの化合物、
(5)QがQ2、R1がメチル、R2がエトキシ、XおよびYがメトキシの化合物、
(6)QがQ3、R1がメチル、R2が水素原子、R3がメトキシ、XおよびYがメトキシの化合物、
(7)QがQ3、R1がメチル、R2が水素原子、R3がエトキシ、XおよびYがメトキシの化合物、
(8)QがQ4、R1がメチルスルホニル、XおよびYがメトキシの化合物、
(9)QがQ1、R1がメチル、R2が水素原子、R3がn−プロピル、XおよびYがメトキシの化合物、
(10)QがQ1、R1が塩素原子、R2が水素原子、R3がエチル、XおよびYがメトキシの化合物、
(11)QがQ1、R1がメチル、R2が水素原子、R3がi−プロピル、XおよびYがメトキシの化合物、
(12)QがQ1、R1が塩素原子、R2が水素原子、R3がi−プロピル、XおよびYがメトキシの化合物、
(13)QがQ1、R1が塩素原子、R2が水素原子、R3がシクロプロピル、XおよびYがメトキシの化合物、
(14)QがQ1、R1がフッ素原子、R2が水素原子、R3がn−プロピル、XおよびYがメトキシの化合物が挙げられる。
式(I)で表される化合物は、光学異性体、ジアステレオマーおよび/または幾何異性体が存在する場合があるが、本発明ではそれぞれの異性体およびそれらの混合物を用いてもよい。
式(I)で表される化合物は、分子中の置換分中のスルホ基、カルボキシル基等の酸性基が無機塩基、有機塩基等と農業化学的に許容されうる塩基塩を形成することができ、また、分子中の塩基性の窒素原子および置換分中のアミノ酸基等の塩基性基が無機酸、有機酸等と農業化学的に許容されうる酸付加塩を形成することができる。無機塩基塩としては、例えば、アルカリ金属(例、ナトリウム、カリウムなど)、アルカリ土類金属(例、カルシウムなど)、アンモニアなどの塩、また、有機塩基塩としては、例えば、ジメチルアミン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピリジン、2−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセンなどとの塩などが用いられる。式(I)で表される化合物の無機酸付加塩としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸などとの塩が、式(I)で表される化合物の有機酸付加塩としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、コハク酸、安息香酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などとの塩が用いられる。
式(I)で表される化合物は、例えば、特開昭64−38091号および上記特許文献1に記載の方法に従って製造でき、化合物No.1製造の具体的方法を下記の参考例に示す。
式(I)で表される化合物が結晶の場合、結晶を晶出させる時の条件によって結晶多形や擬似結晶多形となり、同じ核磁気共鳴スペクトルを与える化学構造であっても異なる赤外吸収スペクトルを与える場合がある。本発明においては、この様な結晶多形や擬似結晶多形を示す化合物のそれぞれの結晶形のみならず、それらの混合結晶を用いてもよい。
本発明の除草剤組成物は、有効成分として、式(I)で表される化合物またはその塩と共に、(a)カーバメート系除草剤、(b)クロロアセトアニリド系除草剤、(c)トリアジン系除草剤、(d)酸アミド系または尿素系除草剤、および(e)その他の系統の除草剤から選ばれる少なくともいずれか1種の除草剤を含有する。(a)〜(e)から選ばれる2種以上の除草剤を式(I)で表される化合物またはその塩と混合してもよいが、通常は1種類との混合が好ましい。
カーバメート系除草剤としては、例えば、ジアレート(di-allate)、ブチレート(butylate)、トリアレート(tri-allate)、フェンメディファム(phenmedipham)、クロロプロファム(chlorpropham)、アシュラム(asulam)、フェニソファム(phenisopham)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、モリネート(molinate)、エスプロカルブ(esprocarb)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)等が挙げられ、エスプロカルブ(以下、化合物Aと称する)、ピリブチカルブ(以下、化合物Bと称する)が好ましい。
クロロアセトアニリド系除草剤としては、例えば、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、アラクロール(alachlor)、アセトクロール(acetochlor)、メトラクロール(metolachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(theny1ch1or)等が挙げれられ、プレチラクロール(以下、化合物Cと称する)が好ましい。
トリアジン系除草剤としては、例えば、シマジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、プロパジン(propazine)、シアナジン(cyanazine)、アメトリン(ametoryn)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)等が挙げられ、ジメタメトリン(以下、化合物Dと称する)が好ましい。
酸アミド系または尿素系除草剤としては、例えば、イソキサベン(Isoxaben)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、フルオメツロン(fluometuron)、ジフェノクスロン(difenoxuron)、メチルダイムロン(methyl-daimuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、メタベンゾチアズウロン(methabenzthiazuron)、プロパニル(propanil)、メフェナセット(mefenacet)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)、ブロモブチド(bromobutide)、ダイムロン(daimuron)、クミルロン(cumy1uron)、エトベンザニド(etobenzanid)等が挙げられ、メフェナセット(以下、化合物Eと称する)、クロメプロップ(以下、化合物Fと称する)、ブロモブチド(以下、化合物Gと称する)、ダイムロン(以下、化合物Hと称する)、エトベンザニド(以下、化合物Iと称する)が好ましい。
その他の系統の除草剤としては、例えば、ベンタゾン(bentazon)、トリジファン(tridiphane)、インダノファン(indanofan)、アミトロール(amitrole)、カルフェントラゾンエチル(carfentrazon-ethyl)、スルフェントラゾン(surfentrazon)、フェンクロラゾールエチル(fenchlorazole-ethyl)、フェントラザミド(fentrazamide)、イソキサフルトール(isoxaflutole)、クロマゾン(clomazone)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、ピリチオバック(pyrithiobac)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、メトリブジン(metribuzin)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、シンメチリン(cinmethylin)、フルミクロラックペンチル(flumiclorac-pentyl)、シニドンエチル(cinidon-ethyl)、フルミオキサジン(flumioxazin)、フルチアセットメチル(fluthiacet-methyl)、アザフェニジン(azafenidin)、べンフレセート(benfuresate)、オキサジアゾン(oxadiazon)、オキサジアルギル(oxadiargy1)、ペントキサゾン(pentoxazone)、シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、カフェンストロール(cafenstrole)、ピリミノバックメチル(pyriminobac-methy1)、ビスビリバックナトリウム(bispyribac-sodium)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリフタリド(pyriftalid)、フェントラザミド(fentrazamide)、インダノファン(indanofan)、ACN、ベンゾビシクロン(bennzobicyclon)、ジチオピル(dithiopyr)、ダラポン(da1apon)、クロルチアミド(chlorthiamid)等が挙げられ、オキサジクロメホン(以下、化合物Jと称する)、ペントキサゾン(以下、化合物Kと称する)、シハロホップブチル(以下、化合物Lと称する)、カフェンストロール(以下、化合物Mと称する)、ピリミノバックメチル(以下、化合物Nと称する)、フェントラザミド(以下、化合物Oと称する)、ベンゾビシクロン(以下、化合物Pと称する)、ジチオピル(以下、化合物Qと称する)、ピリフタリド(以下、化合物Rと称する)が好ましい。
本発明の除草剤組成物は、一般の農薬のとりうる形態、すなわち、上記有効成分を適当な液体担体に溶解するか分散させるか、または適当な固体担体と混合するか吸着させ、例えば、乳剤、油剤、噴霧剤、水和剤、粉剤、DL(ドリフトレス)型粉剤、粒剤、微粒剤、微粒剤F、フロアブル剤、ドライフルアブル剤、ジャンボ粒剤、錠剤などの製剤として使用する。これらの製剤は必要に応じ、乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤などを添加してもよく、自体公知の方法で調製することができる。
使用する液体担体(溶剤)としては、例えば、水、アルコール類(例、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、エテレングリコール等)、ケトン類(例、アセトン、メチルエチルケトン等)、エーテル類(例、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)、脂肪族炭化水素類(例、ケロシン、燃料油、機械油等)、芳香族炭化水素類(例、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレン等)、ハロゲン化炭化水素類(例、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等)、酸アミド類(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、エステル類(例、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等)、ニトリル類(例、アセトニトリル、プロピオニトリル等)などの溶媒が適当であり、これらは1種または2種以上を適当な割合で混合して使用する。固体担体(希釈・増量剤)としては、植物性粉末(例、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等)、鉱物性粉末(例、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレイ類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉等のシリカ類等)、アルミナ、硫黄粉末、活性炭などが適当であり、これらは1種または2種以上を適当な割合で混合して使用する。該液体担体または固体担体は、製剤全体に対して通常約1〜99重量%程度、好ましくは約1〜80重量%程度用いることができる。
乳化剤、展着剤、浸透剤、分散剤等として使用される界面活性剤としては、必要に応じて石鹸類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類(例・ノイゲンTM、イー・エー142(E・A142TM、TMは登録商標であることを示す。以下同様);第一工業製薬(株)製)、ポリオキシエチレンアリールエステル類(例、ノナールTM;東邦化学(株)製)、アルキル硫酸塩類(例、ユマール10TM、ユマール40TM;花王石鹸(株)製)、アルキルスルホン酸塩類(例、ネオゲンTM、ネオゲンTTM;第一工業製薬(株)製、ネオペレックスTM;花王石鹸(株)製)、ポリエチレングリコールエーテル類(例、ノニポール85TM、ノニポール100TM、ノニポール160TM;三洋化成(株)製)、多価アルコールエステル類(例、ツイーン20TM、ツイーン80TM;花王石鹸(株)製)などの非イオン系およびアニオン系界面活性剤が用いられる。該界面活性剤は、製剤全体に対して、通常0.1〜約50重量%程度、好ましくは約0.1〜25重量%程度用いることができる。
式(I)で表される化合物またはその塩の除草剤組成物中の配合量は乳剤、水和剤などは1から90重量%程度が適当であり、油剤、粉剤、DL(ドリフトレス)型粉剤などとしては0.01〜10重量%程度が適当であり、微粒剤F、粒剤としては0.05〜10重量%程度が適当である。
また、(a)〜(e)の除草剤組成物中の配合量も組成物の剤形により変わるが、通常、式(I)で表される化合物またはその塩:(a)〜(e)の除草剤を重量比1:0.1〜50、好ましくは、1:0.5〜30の割合で配合することにより所望の相乗効果が得られる。
乳剤、水和剤などは使用に際して、水などで適宜希釈増量(例えば100〜100,000倍)して散布する。
本発明の除草剤組成物は、特に、水稲の湛水直播時、乾田直播時、または直播後、水稲移植時または移植後に施用することにより水稲に対して極めて優れた選択性を有し、スルホニル尿素系除草剤抵抗性雑草に高い除草効果を示す。また、畑地雑草用としても使用でき、発芽前土壌処理あるいは茎葉兼土壌処理剤として、例えば、本発明の除草剤組成物は2〜3週間後でも薬害が発現することなく安全に使用できる。
本発明の除草剤組成物を用いる場合の使用量は、適用場面、適用時期、施用方法、対象雑草、栽培作物等により異なるが一般に有効成分(式(I)で表される化合物またはその塩と(a)〜(e)の除草剤の合計)として水田1アール当たり0.1gから250g程度、好ましくは0.2gから150g程度、畑地1アール当たり0.08gから200g程度、好ましくは0.16gから100g程度である。
本発明の除草剤組成物は、必要に応じて、植物生長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤等と同時に施用することができる。また、植物生長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤等を配合し、混合使用することもできる。
植物生長調節剤(植物生長調節活性成分)としては、例えば、ヒメキサゾール(hymexazo1)、パクロブトラゾール(pac1obutrazo1)、ウニコナゾール−P(uniconazole-P)、イナベンフィド(inabenfide)、プロヘキサジオンカルシウム(prohexadione-ca1cium)等が挙げられる。殺菌剤(殺菌活性成分)としては、例えば、(1)ポリハロアルキルチオ系殺菌剤[キャプタン(captan)等]、(2)有機リン系殺菌剤[IBP、EDDP、トルクロフォスメチル(tolc1ofos-methy1)等]、(3)ベンズイミダゾール系殺菌剤[べノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チオファネートメチル(thiophanate-methy1)等]、(4)カルボキシアミド系殺菌剤[メプロニル(meproni1)、フルトラニル(f1uto1anil)、チフルザミド(thifluzamid)、フラメトピル(furametpyr)、テクロフタラム(tec1oftha1am)、ペンシクロン(Pencycuron)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(dic1ocymet)等]、(5)アシルアラニン系殺菌剤[メタラキシル(metalaxy1)等]、(6)アゾール系殺菌剤[トリフルミゾール(triflumizo1e)、イプコナジール(ipconazo1e)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プログロラズ(proch1oraz)等]、(7)メトキシアクリル酸系殺菌剤[アゾキシストロビン(azoxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)等]、(8)抗生物質系殺菌剤[バリダマイシンA(validamycin A)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(po1yoxin)等]、(9)その他の殺菌剤[フサライド(fthalide)、プロベナゾール(probenazo1e)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、トリジクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroqui1n)、フェリムゾン(ferimzone)、アシベンゾラルSメチル(acibnzolar S-methy1)、ジクロメジン(dic1omezine)、オキソリニック酸(oxo1inic acid)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、TPN、イプロジオン(iprodione)等]等が挙げられる。殺虫剤(殺虫活性成分)としては、例えば、(1)有機リン系殺虫剤[フェンチオン(fenthion)、フエニトロチオン(fenitrothion)、ピリミホスメチル(pirimiphos-methy1)、ダイアジノン(diazinon)、キナルホス(quinalphos)、イソキサチオン(isoxathion)、ピリダフェンチオン(Pyridafenthion)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos-methyl)、バミドチオン(vamidothion)、マラチオン(malathion)、フェントエート(phenthoate)、ジメトエート(dimethoate)、ジスルホトン(disulfoton)、モノクロトホス(monocrotophos)、テトラクロルビンホス(tetrach1orvinphos)、クロルフェンビンホス(ch1orfenvinphos)、プロパホス(propaphos)、アセフェート(acephate)、トリクロルホン(trichlorphon)、EPN、ピラクロホス(pyraclorfos)等]、(2)カルバメート系殺虫剤[カルバリル(carbary1)、メトルカルブ(metolcarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、BPMC、プロポキスル(propoxur)、XMC、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、ベンフラガルブ(benfuracarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、メソミル(methomyl)、チオジカルブ(thiodicarb)等]、(3)合成ピレスロイド系殺虫剤[シクロプロトリン(cycloprothrin)、エトフェンプロックス(ethofenprox)等]、(4)ネライストキシン系殺虫剤[カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensu1tap)、チオシクラム(thiocyclam)等]、(5)ネオニコチノイド系殺虫剤[イミダクロプリド(imidac1oprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、チアクロプリド(thiacloprid)、ジノテフラン(dinotefuran)、クロチアニジン(clothianidin)等]、(6)その他の殺虫剤[ブプロフェジン(buprofezin)、テブフェノジド(tebufenozide)、フィプロニル(fiproni1)、エチプロール(ethiprole)等]等が挙げられる。殺ダニ剤(殺ダニ活性成分)としては、例えば、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、ピリダベン(pyridaben)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、エトキサゾール(etoxazole)、ピリミジフェン(Pyrimidifen)等があげられる。殺線虫剤(殺線虫活性成分)としては、例えば、フォスチアゼート(fosthiazate)等が挙げられる。このような他の農薬活性成分(例、植物生長調節活性成分、殺菌活性成分、殺虫活性成分、殺ダニ活性成分、殺線虫活性成分など)は組成物全体に対して通常約0.1〜20重量%程度、好ましくは約0.1〜10重量%程度用いることができる。
本発明の除草剤組成物には、さらに共力剤(例、ピペロニルブトキシド(piperonyl butoxide)等)、誘引剤(例、オイゲノール(eugenol)等)、忌避剤(例、クレオソート(creosote)等)、色素(例、食用青色1号等)、肥料(例、尿素等)等を適宜混合してもよい。
以下に、参考例、実施例および試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中、部とあるのは、いずれも重量部を意味する。
参考例1
2−クロロ−6−n−プロピルイミダゾ[1,2−b]ピリダジンの合成
Figure 2005126415
窒素気流下、100 ml 三口フラスコに、2,6−ジクロロイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(1.6 g, 8.5 mmol)、[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)ジクロリド(触媒量)および脱水テトラヒドロフラン(20 ml)をいれ氷冷下撹拌し、プロピルマグネシウムクロリドテトラヒドロフラン溶液(2M,6.4 ml, 12.8 mmol)を10℃以下で滴下した。滴下終了後、同温度で1時間、室温で1時間、50〜60℃で2時間撹拌した。反応終了後、反応液を放冷し、水(50 ml)をいれ撹拌後、酢酸エチルで抽出した(20 ml×2)。有機相を合して水洗後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)で精製して、目的物を橙色結晶(少量の不純物を含む)として得た。収量 0.8 g(48.2 %)
1H NMR (CDCl3, δ): 1.01 (3H,t,J=7.3 Hz), 1.7-1.9 (2H,m), 2.79 (2H,t,J=7.6 Hz), 6.96 (1H,d,J=9.3 Hz), 7.75 (1H,d,J=9.3 Hz), 8.19 (1H,d,J=9.4 Hz)
参考例2
2−クロロ−6−n−プロピルイミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−スルホンアミドの合成
Figure 2005126415
200 ml ナスフラスコに、2−クロロ−6−n−プロピルイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(0.8 g, 4.1 mmol)およびジクロロエタン(10 ml)をいれ室温で撹拌し、クロロスルホン酸(0.54 g, 4.5 mmol)を一気に加え、4時間加熱還流下撹拌した。反応液を70℃付近まで冷却し、トリエチルアミン(0.5 g, 5 mmol)を一気に加え固体が溶解するまで撹拌した後、オキシ塩化リン(0.79 g, 5 mmol)を一気に加え、2時間加熱還流下撹拌した。反応終了後、反応液を放冷し、水(50 ml)を加えて有機相を分取した。有機相を飽和食塩水で洗浄した後硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮し、残渣にアセトニトリル(10 ml)および28%アンモニア水(4 ml)をいれ、室温で2時間撹拌した。反応終了後、水(100 ml)を加え、希塩酸でpH=2位に調節し、生成している結晶を濾取、水およびクロロホルムで洗浄後、減圧下で乾燥して、目的物を淡褐色結晶として得た。収量 0.49 g(43.5%)
mp 174-5℃
1H NMR (DMSO-d6, δ): 0.96 (3H,t,J=7.4 Hz), 1.7-1.9 (2H,m), 2.8-3.0 (2H,m), 7.53 (1H,d,J=9.5 Hz), 7.82 (2H,brs), 8.19 (1H,d,J=9.4 Hz)
IR (Nujol, cm-1) : 3377, 3324, 3189, 1545, 1364, 1322, 1187, 1166, 821, 680, 597
参考例3
1−(2−クロロ−6−n−プロピルイミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イルスルホニル)−3−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)ウレア(化合物No.1)の合成
Figure 2005126415
25 ml ナスフラスコに、2−クロロ−6−n−プロピルイミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−スルホンアミド(0.49 g, 1.78 mmol)、フェニル N−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)カーバメート(0.55 g, 2 mmol)およびアセトニトリル(5 ml)をいれ室温で撹拌し、DBU (0.31 g, 2 mmol)を一気に加え、室温で3時間撹拌した。反応終了後、反応液を水(50 ml)にあけ、希塩酸でpH=2位に調節すると結晶が生成した。これを濾取し、水、アセトン、エーテルで順次洗浄した後減圧下で乾燥して目的物を淡褐色結晶として得た。収量 0.71 g(89.5%)
mp 199-201℃(dec.)
1H NMR (DMSO-d6, δ): 0.70(3H, t, J=7.3 Hz), 1.4-1.5(2H, m), 2.6-2.7(2H, m), 3.97(6H, s), 6.08(1H, s), 7.57(1H, d, J=9.4 Hz), 8.26(1H, d, J=9.4 Hz), 10.68(1H, brs), 13.4-13.5(1H, m).
IR (Nujol, cm-1) : 3643, 1720, 1703, 1607, 1573, 1453, 1359, 1324, 1290, 1199, 1162, 1016, 888, 840, 629, 589, 514.
小型ニーダーに化合物No.1 0.9部、化合物P 2.0部、ネオコールYSK 0.5部、トキサノンGR31A 2.0部、クニゲルV1 30.0部、炭酸カルシウム 64.6部を投入後、混合、練合し、押し出し式造粒機(RG−5M、菊水製作所製)により造粒し、流動層乾燥機(MDB−400、不二パウダル製)で乾燥後、16〜48メッシュで篩過し、粒剤を製造した。
小型ニーダーに化合物No.1 0.9部、化合物G 8.0部、ネオコールYSK 0.5部、トキサノンGR31A 2.0部、クニゲルV1 30.0部、炭酸カルシウム 58.6部を投入後、混合、練合し、押し出し式造粒機(RG−5M、菊水製作所製)により造粒し、流動層乾燥機(MDB−400、不二パウダル製)で乾燥後、16〜48メッシュで篩過し、粒剤を製造した。
小型ニーダーに化合物No.1 0.9部、化合物M 3.0部、ネオコールYSK 0.5部、トキサノンGR31A 2.0部、クニゲルV1 30.0部、炭酸カルシウム 63.6部を投入後、混合、練合し、押し出し式造粒機(RG−5M、菊水製作所製)により造粒し、流動層乾燥機(MDB−400、不二パウダル製)で乾燥後、16〜48メッシュで篩過し、粒剤を製造した。
ニューカルゲンRX−B 1.0部、アエロジルCOK84 2.0部、アンチホームE−20 0.2部、エチレングリコール 8.0部、ニューカルゲンFS−100 3.0部、ニューカルゲンFS−3GE 4.0部、ソルビン酸 0.1部、化合物No.1 10部、化合物P 4.0部、アグリゾールFL−104FA 10.0部を水57.7部と混合し、ホモミキサーにて分散した後、これら混合物をダイノミル(シンマルエンタープライゼス製、1.0mmガラスビーズ、充填率80%、周速10m/s)を用いて湿式粉砕(1パス)した。
ニューカルゲンRX−B 1.0部、アエロジルCOK84 2.0部、アンチホームE−20 0.2部、エチレングリコール 8.0部、ニューカルゲンFS−100 3.0部、ニューカルゲンFS−3GE 4.0部、ソルビン酸 0.1部、化合物No.1 10部、化合物K 8.0部、アグリゾールFL−104FA 10.0部を水53.7部と混合し、ホモミキサーにて分散した後、これら混合物をダイノミル(シンマルエンタープライゼス製、1.0mmガラスビーズ、充填率80%、周速10m/s)を用いて湿式粉砕(1パス)した。
化合物No.1 0.9部、化合物P 2.0部、MicrosphereF−30E(純度10%、プラスチック中空体) 17.0部、デキストリン 5.0部、トキサノンGR31A 2.0部、ベントナイト 10.0部、オルフィンE1010 3.0部、ホワイトカーボン 5.0部、炭酸カルシウム 55.1部を混合し、所定量の水を加え練合し、1.5mmのスクリーンを装着した押し出し式造粒機(RG−5M、菊水製作所製)により造粒し、流動層乾燥機(MDB−400、不二パウダル製)で乾燥し、粒剤を得た。
試験例1
タイヌビエに対する除草効果(温室内ポット試験)
200cmワグネルポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き、タイヌビエ2.9葉期に達したとき、湛水を5cmとした後、化合物を含む薬剤希釈液を1アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物1.5gを、界面活性剤ツイーン20TM2%(W/V)を含むアセトン2Lに溶解し、水で希釈して全量を10Lとしたものである。
薬剤処理4週間後にタイヌビエに対する効果を表1に示す基準によって評価する。
Figure 2005126415
結果を表2に示す。
Figure 2005126415
試験例2
タイヌビエに対する除草効果
200cmワグネルポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ種子を播き,タイヌビエ2.9葉期に達したとき,湛水を5cmとした後、化合物を含む薬剤希釈液を1アール当たり所定薬量になるようにポット中にそれぞれ施用する。薬剤希釈液は化合物1.5gを、界面活性剤ツイーン20TM2%(W/V)を含むアセトン2Lに溶解し、水で希釈して全量を10Lとしたものである。
薬剤処理直後より3日間、2cm/日の割合でポット下部より漏水操作を行い、4週間後にタイヌビエに対する効果を表1に示す基準によって評価する.
結果を表3に示す。
Figure 2005126415

Claims (7)

  1. 式(I):
    Figure 2005126415
    〔式中、Qは、式:
    Figure 2005126415

    (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を、
    R2は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基を、
    R3は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンもしくは低級アルキル基で置換されていてもよい低級シクロアルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、アミノ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級アルキルアミノ基を示す。)で表される縮合複素環基を、
    XおよびYは、同一または異なって、それぞれハロゲンで置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲンで置換されていてもよい低級アルコキシ基またはハロゲン原子を示す。〕で表される化合物またはその塩と、
    (a)カーバメート系除草剤、
    (b)クロロアセトアニリド系除草剤、
    (c)トリアジン系除草剤、
    (d)酸アミド系または尿素系除草剤、および
    (e)その他の系統の除草剤、
    から選ばれる少なくともいずれか1種の除草剤とを含有することを特徴とする除草剤組成物。
  2. Qが、式Q1で表される基である請求項1記載の除草剤組成物。
  3. 式Q1におけるR1がハロゲン原子であり、R2が水素原子であり、R3がC2−4アルキルまたは低級シクロアルキルであり、XおよびYがそれぞれメトキシ基である請求項2記載の除草剤組成物。
  4. 上記式(I)で表される化合物が式:
    Figure 2005126415
    で表される化合物である請求項1記載の除草剤組成物。
  5. (a)カーバメート系除草剤がエスプロカルブ、ピリブチカルブ、(b)クロロアセトアニリド系除草剤がプレチラクロール、(c)トリアジン系除草剤がジメタメトリン、(d)酸アミド系または尿素系除草剤が、メフェナセット、クロメプロップ、ブロモブチド、ダイムロン、エトベンザニド、(e)その他の系統の除草剤がオキサジクロメホン、ペントキサゾン、シハロホップブチル、カフェンストロール、ピリミノバックメチル、フェントラザミド、ベンゾビシクロン、ジチオピル、ピリフタリドから選択される請求項1記載の除草剤組成物。
  6. 式(I)で表される化合物またはその塩と(a)〜(e)から選択される除草剤とを、重量比が1:0.1〜50の割合で含有する請求項1記載の除草剤組成物。
  7. 水稲田用である請求項1記載の除草剤組成物。
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