JP2007001840A - 誘電体セラミックスおよびその製造方法 - Google Patents
誘電体セラミックスおよびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007001840A JP2007001840A JP2005186496A JP2005186496A JP2007001840A JP 2007001840 A JP2007001840 A JP 2007001840A JP 2005186496 A JP2005186496 A JP 2005186496A JP 2005186496 A JP2005186496 A JP 2005186496A JP 2007001840 A JP2007001840 A JP 2007001840A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- barium titanate
- powder
- dielectric ceramic
- based powder
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
ック電子部品において有利に用いられ得る、誘電体セラミックスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒子径が10〜90nmであり、600〜900℃における質量変化率が0.1〜0.5%であるチタン酸バリウム系粉末を焼成して得られる誘電体セラミックスを得る。
【選択図】図1
Description
性にも問題が生じてくる。
b 炭酸バリウム化合物
Claims (9)
- 平均粒子径が10〜90nmであり、600〜900℃における質量変化率が0.1〜0.5%であるチタン酸バリウム系粉末を焼成して得たことを特徴とする誘電体セラミックス。
- 前記チタン酸バリウム系粉末の最大粒子径が300nm以下である請求項1に記載の誘電体セラミックス。
- 前記チタン酸バリウム系粉末は、ペロブスカイト構造のc軸/a軸比が1.005〜1.010である請求項1または2に記載の誘電体セラミックス。
- 結晶中のOH基量が1質量%以下である請求項1乃至3のいずれかに記載の誘電体セラミックス。
- 湿式法により合成された前駆体粉末を二酸化炭素分圧が400〜1000ppmの雰囲気中において加熱して、平均粒子径が10〜90nmであり、600〜900℃における質量変化率が0.1〜0.5%であるチタン酸バリウム系粉末を調製する工程と、前記チタン酸バリウム系粉末を焼成する工程とを備えることを特徴とする誘電体セラミックスの製造方法。
- 前記チタン酸バリウム系粉末の最大粒子径が300nm以下である請求項5に記載の誘電体セラミックスの製造方法。
- 前記チタン酸バリウム系粉末は、ペロブスカイト構造のc軸/a軸比が1.003〜1.010である請求項5または6に記載の誘電体セラミックスの製造方法。
- 前記チタン酸バリウム系粉末は、結晶中のOH基量が1質量%以下である請求項5乃至7のうちいずれかに記載の誘電体セラミックスの製造方法。
- 前記湿式法が、蓚酸塩法、共沈法、加水分解法、水熱合成法およびゾルゲル法のうちいずれか1種である請求項5乃至8のいずれかに記載の誘電体セラミックスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005186496A JP5025100B2 (ja) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005186496A JP5025100B2 (ja) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007001840A true JP2007001840A (ja) | 2007-01-11 |
JP5025100B2 JP5025100B2 (ja) | 2012-09-12 |
Family
ID=37687774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005186496A Expired - Fee Related JP5025100B2 (ja) | 2005-06-27 | 2005-06-27 | チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5025100B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101838141A (zh) * | 2009-03-13 | 2010-09-22 | 株式会社村田制作所 | 钛酸钡系电介体原料粉末及其制造方法、陶瓷胚片的制造方法及层叠陶瓷电容器的制造方法 |
US8315037B2 (en) | 2009-01-30 | 2012-11-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielectric ceramic and laminated ceramic capacitor |
US8560639B2 (en) | 2009-04-24 | 2013-10-15 | Microsoft Corporation | Dynamic placement of replica data |
US8769055B2 (en) * | 2009-04-24 | 2014-07-01 | Microsoft Corporation | Distributed backup and versioning |
US8935366B2 (en) | 2009-04-24 | 2015-01-13 | Microsoft Corporation | Hybrid distributed and cloud backup architecture |
US20150083978A1 (en) * | 2013-09-23 | 2015-03-26 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Composite perovskite powder, preparation method thereof, and paste composition for internal electrode having the same |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03159903A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-09 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ペロブスカイト系セラミック粉末の製造方法 |
JPH05139744A (ja) * | 1991-11-21 | 1993-06-08 | Titan Kogyo Kk | 易焼結性チタン酸バリウム微細粒子粉末およびその製法 |
JP2001316114A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-11-13 | Murata Mfg Co Ltd | ペロブスカイト構造を有する酸化物、チタン酸バリウムおよびその製造方法ならびに誘電体セラミックおよびセラミック電子部品 |
JP2002234771A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-23 | Murata Mfg Co Ltd | 正方晶ペロブスカイト構造を有する酸化物粉末およびその製造方法、誘電体セラミックならびに積層セラミックコンデンサ |
JP2004123431A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ペロブスカイト型チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
JP2004521850A (ja) * | 2001-02-22 | 2004-07-22 | サムスン ファイン ケミカルズ カンパニー リミテッド | 高品質チタン酸バリウム系パウダーの製造方法 |
JP2004339040A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-12-02 | Tomoshi Wada | 誘電体材料およびその製造方法 |
JP2006265067A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末およびその製法、並びにチタン酸バリウム焼結体 |
JP2006306632A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末の製法、チタン酸バリウム粉末、およびチタン酸バリウム焼結体 |
JP2006327890A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末の製法およびチタン酸バリウム粉末、並びにチタン酸バリウム焼結体 |
-
2005
- 2005-06-27 JP JP2005186496A patent/JP5025100B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03159903A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-09 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ペロブスカイト系セラミック粉末の製造方法 |
JPH05139744A (ja) * | 1991-11-21 | 1993-06-08 | Titan Kogyo Kk | 易焼結性チタン酸バリウム微細粒子粉末およびその製法 |
JP2001316114A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-11-13 | Murata Mfg Co Ltd | ペロブスカイト構造を有する酸化物、チタン酸バリウムおよびその製造方法ならびに誘電体セラミックおよびセラミック電子部品 |
JP2002234771A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-23 | Murata Mfg Co Ltd | 正方晶ペロブスカイト構造を有する酸化物粉末およびその製造方法、誘電体セラミックならびに積層セラミックコンデンサ |
JP2004521850A (ja) * | 2001-02-22 | 2004-07-22 | サムスン ファイン ケミカルズ カンパニー リミテッド | 高品質チタン酸バリウム系パウダーの製造方法 |
JP2004123431A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ペロブスカイト型チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
JP2004339040A (ja) * | 2003-03-20 | 2004-12-02 | Tomoshi Wada | 誘電体材料およびその製造方法 |
JP2006265067A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末およびその製法、並びにチタン酸バリウム焼結体 |
JP2006306632A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末の製法、チタン酸バリウム粉末、およびチタン酸バリウム焼結体 |
JP2006327890A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Kyocera Corp | チタン酸バリウム粉末の製法およびチタン酸バリウム粉末、並びにチタン酸バリウム焼結体 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8315037B2 (en) | 2009-01-30 | 2012-11-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Dielectric ceramic and laminated ceramic capacitor |
CN101838141A (zh) * | 2009-03-13 | 2010-09-22 | 株式会社村田制作所 | 钛酸钡系电介体原料粉末及其制造方法、陶瓷胚片的制造方法及层叠陶瓷电容器的制造方法 |
KR101237256B1 (ko) * | 2009-03-13 | 2013-02-27 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 티탄산바륨계 유전체 원료 분말, 그 제조방법, 세라믹 그린시트의 제조방법, 및 적층 세라믹 콘덴서의 제조방법 |
US8560639B2 (en) | 2009-04-24 | 2013-10-15 | Microsoft Corporation | Dynamic placement of replica data |
US8769055B2 (en) * | 2009-04-24 | 2014-07-01 | Microsoft Corporation | Distributed backup and versioning |
US8935366B2 (en) | 2009-04-24 | 2015-01-13 | Microsoft Corporation | Hybrid distributed and cloud backup architecture |
US20150083978A1 (en) * | 2013-09-23 | 2015-03-26 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Composite perovskite powder, preparation method thereof, and paste composition for internal electrode having the same |
US9842696B2 (en) * | 2013-09-23 | 2017-12-12 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Composite perovskite powder, preparation method thereof, and paste composition for internal electrode having the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5025100B2 (ja) | 2012-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3780851B2 (ja) | チタン酸バリウムおよびその製造方法ならびに誘電体セラミックおよびセラミック電子部品 | |
TWI402872B (zh) | 電介質瓷器及疊層陶瓷電容器以及它們的製造方法 | |
JP2007031273A (ja) | 低温焼成用の誘電体磁器組成物及びこれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
JPH11273985A (ja) | 誘電体セラミックおよびその製造方法、ならびに、積層セラミック電子部品およびその製造方法 | |
JP4658689B2 (ja) | チタン酸バリウム粉末の製法およびチタン酸バリウム粉末、並びにチタン酸バリウム焼結体 | |
JP2009035431A (ja) | 誘電体磁器、その製造方法及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
JP4522025B2 (ja) | 誘電体磁器及び積層型電子部品並びに積層型電子部品の製法 | |
JP2017114751A (ja) | 誘電体磁器組成物およびそれを含むセラミック電子部品 | |
JP2007001840A (ja) | 誘電体セラミックスおよびその製造方法 | |
JP4582973B2 (ja) | 誘電体磁器及び積層型電子部品並びに積層型電子部品の製法 | |
JP5153069B2 (ja) | 誘電体磁器 | |
JP2006306632A (ja) | チタン酸バリウム粉末の製法、チタン酸バリウム粉末、およびチタン酸バリウム焼結体 | |
JP2002234771A (ja) | 正方晶ペロブスカイト構造を有する酸化物粉末およびその製造方法、誘電体セラミックならびに積層セラミックコンデンサ | |
JP2008222522A (ja) | チタン酸バリウム粉末とその製造方法およびそれを用いた積層セラミックコンデンサ | |
JP2006206365A (ja) | セラミック粉末の製法、セラミック粉末、セラミック焼結体並びに電子部品 | |
JP4830216B2 (ja) | ペロブスカイト構造を有する酸化物粉末の製造方法、ペロブスカイト構造を有する酸化物粉末、誘電体セラミックおよびセラミック電子部品 | |
JP2005008471A (ja) | 複合酸化物粉末の製造方法、複合酸化物粉末、誘電体磁器組成物、及び積層型電子部品 | |
JP2020152630A (ja) | 低い誘電損失を有する誘電体の製造方法及びそれによって製造される誘電体 | |
JP2006041370A (ja) | 積層セラミックコンデンサおよびその製法 | |
JP2006298680A (ja) | 誘電体セラミック及び積層セラミックコンデンサ | |
JP2006041371A (ja) | 積層セラミックコンデンサおよびその製法 | |
JP2006327846A (ja) | チタン酸バリウム粉末およびその製法、並びにチタン酸バリウム焼結体 | |
KR100703080B1 (ko) | 저온 소성용 유전체 분말의 제조 방법과 이를 이용한 적층세라믹 콘덴서의 제조 방법 | |
JP4836509B2 (ja) | 誘電体磁器 | |
JP5142468B2 (ja) | チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080303 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100906 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110621 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110804 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120323 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120522 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120619 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150629 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |