JP2006521463A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 工程
   ａ）キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層を生成し、
   ｂ）分離剤層（ａ）上に材料と分離剤とを同時に蒸着し、
   ｃ）分離剤から材料を分離すること
   を含む多孔質材料の製造方法。
2. 材料が、金属、金属酸化物または非金属酸化物、特にＳｉＯ_z（式中、０．７０≦ｚ≦２．０）である、請求項１記載の方法。
3. 工程ｂ）で、ＳｉＯ_y／分離剤層を、第１の蒸発器がＳｉとＳｉＯ₂の混合物、ＳｉＯ_y（式中、０．７０≦ｙ≦１．８）またはこれらの混合物を含む装填材料を含有し、第２の蒸発器が分離剤を含む装填材料を含有する、２個の異なる蒸発器から蒸着する、請求項２記載の方法。
4. 方法がさらなる工程、ｄ）ＳｉＯ_yを酸素含有雰囲気中で加熱することによりＳｉＯ_z（式中、１．４０≦ｚ≦２．０）に転化させるか、ＳｉＯ_yを無酸素雰囲気中で加熱することにより（１−ｙ／ｙ＋ａ）ケイ素を含有するＳｉＯ_y+a（式中、０．７０≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０、ｙとａの合計が２以下である）に転化させることを含む、請求項３記載の方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項記載の方法により得られる、多孔質プレート状材料、特にＳｉＯ_z（式中、０．７０≦ｚ≦２．０）、または（１−ｙ／ｙ＋ａ）ケイ素を含有するＳｉＯ_y+a（式中、０．７０≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０、ｙとａの合計が２以下である）。
6. 多孔質ＳｉＯ_zフレーク（式中、０．７０≦ｚ≦２．０）であって、特に、多孔質ＳｉＯ_zの気孔が、ルチルまたはアナターセタイプのＴｉＯ₂のナノ粒子が充填されたか、スズをドープした酸化インジウム、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃またはＩｎ₂Ｏ₃／ＳｎＯ₂が詰め込まれた多孔質ＳｉＯ_zフレーク。
7. 多孔質ＳｉＯ_z層（式中、０．７０≦ｚ≦２．０）、または
   （１−ｙ／ｙ＋ａ）ケイ素を含有する多孔質ＳｉＯ_y+a層（式中、０．７０≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０）
   を含むプレート状顔料。
8. ａ）キャリヤ上に分離剤を蒸着して分離剤層を生成し、
   ｂ）次に、分離剤層（ａ）上に、マトリックス材料とナノ粒子を形成する材料とを同時に蒸着し、
   ｃ）分離剤から材料を分離、特に溶剤中で分離剤を溶解することにより分離し、
   ｄ）場合により、ナノ粒子が装填されたマトリックス材料を溶剤から分離すること
   を含むナノ粒子が装填されたマトリックス材料の製造方法。
9. 請求項８記載の方法により得られる、ナノ粒子を含有するマトリックス材料。
10. （１−ｙ／ｙ＋ａ）ケイ素（ナノ粒子）を含有する、プレート状ＳｉＯ_y+a粒子（マトリックス材料）（式中、０．７０≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０、ｙとａの合計が２以下である）。
11. 支持体と、請求項６記載のまたは請求項１〜４にしたがって得られる多孔質ＳｉＯ_zフレーク（式中、０．７０≦ｚ≦２．０）および親水性バインダーを含有するインク受容層とを含むイメージアブル媒体。
12. 請求項７項記載の顔料の、インクジェット印刷における、生地の染色のための、表面塗装、印刷インク、プラスチック、化粧品、セラミックおよびガラスの艶出しの顔料着色のための使用。