JP2006326395A - 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 - Google Patents
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- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 63
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 claims abstract description 46
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 28
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 77
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る噴霧盤34においては、上部取付円板52に形成された貫通孔52aを介して上下取付円板50に原液が供給されると、原液は上下取付円板50の周縁方向に流れ、噴霧用コロ62の周面62aに沿って上昇して膜状となる。膜状となった後、原液は、液滴状となって噴霧用コロ62の周面62aから離脱し、上下取付円板50から外方に噴霧される。なお、上部取付円板52の上面52bには貫通孔52aを囲むように壁部55が立設されているので、この壁部55によって貫通孔52aへ向かう空気の流れが遮られる。それにより、上下取付円板50内に流入する空気の量が抑制される。そのため、浮遊粒子の上下取付円板50内への吸い込みが抑制され、噴霧盤34から噴霧される液滴に浮遊粒子が付着する事態が抑制される。
【選択図】 図5
Description
この噴霧盤80を用いて原液の噴霧をおこなう際には、高速回転する上下取付円板81に、上部取付円板82側から、上記貫通孔82aを介して原液供給管86による原液の供給をおこなう。すると、原液は遠心力によって上下取付円板81の周縁方向に流れる。そして、原液は、上下取付円板81の周縁に配置された噴霧用コロ84まで達すると、噴霧用コロ84の周面84aに沿って上昇した後、液滴状になって噴霧される。
Claims (3)
- 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを備え、
前記上下取付円板の前記上部取付円板の中央部には貫通孔が形成されており、且つ、前記上部取付円板の上面には、前記貫通孔を囲むように立設された壁部が形成されている、噴霧盤。 - 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、
前記噴霧盤の上方に位置し、前記噴霧盤の前記上下取付円板を回転させる回転軸と、前記上下取付円板に前記上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段と、を収容したケーシングとを備え、
前記噴霧盤の前記上下取付円板の前記上部取付円板の中央部には、前記原液供給手段が配置される貫通孔が形成されており、且つ、前記上部取付円板の上面には、前記貫通孔を囲むと共に前記ケーシングの外面に沿うように立設された壁部が形成されている、噴霧装置。 - 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、
前記噴霧盤の上方に位置し、前記噴霧盤の前記上下取付円板を回転させる回転軸と、前記上下取付円板に前記上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段と、を収容したケーシングと、
前記噴霧盤を収容する噴霧乾燥室と、
前記噴霧乾燥室内に、前記噴霧盤から噴霧される原液を加熱乾燥するための高温ガスを供給するガス供給手段とを備え、
前記噴霧盤の前記上下取付円板の前記上部取付円板の中央部には、前記原液供給手段が配置される貫通孔が形成されており、且つ、前記上部取付円板の上面には、前記貫通孔を囲むと共に前記ケーシングの外面に沿うように立設された壁部が形成されている、噴霧乾燥機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005149782A JP4548216B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2005149782A JP4548216B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006326395A true JP2006326395A (ja) | 2006-12-07 |
JP4548216B2 JP4548216B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=37548686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005149782A Expired - Fee Related JP4548216B2 (ja) | 2005-05-23 | 2005-05-23 | 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4548216B2 (ja) |
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