JP5244189B2 - 乾燥製剤を製造するためのシステムおよび方法 - Google Patents
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Description
次いで、溶媒は、収着と脱着との間の平衡を得ながら吸着または吸収によって膜に一時的に吸収されることになる。それによって、プロセス流れから上昇空気ストリームへの拡散能力が増大される。膜スリーブは、異なる極性や他の化学的特性を有する異なる溶媒に適応するために、その吸収能力を改変するように薬剤で処理することができる。1つの例では、膜スリーブは、薄い紙シートであることができる。適切な拡散率および制御された吸着を得るための紙シートは、少なくとも紙が溶媒である場合、1平方メートル当たり約14グラムの比重量を有するライス・ペーパーから作られる。
1)新しく発生されたエアロゾルの静電気帯電を、上記塔のネブライザ端部でPo−210源により中和する。
2)層流の流れ形態を上記塔で使用する。上記塔内部のレイノルズ数は、約30であり、これは、2100での乱流遷移領域の開始よりも十分に低い。環状乾燥空気流の流れ形態もまた、十分、層流の流れ領域にある。
3)ネブライザからの運動エネルギーが散逸しながら、エアロゾル・パフの周りの流れを安定化し、これらを上記塔の中央に置き続けるために、ネブライザにおけるキャリアガスを、ネブライザのマウスピースの周りで上記塔の中に静かに回転させる。
4)上記塔の残部では、新しい径方向シース・エア法を使用する。
202 多孔プロセス・チューブ; 203 膜スリーブ; 204 プロセス流れ;
109,209 ネブライザ; 205 エアロゾル小滴;
206 乾燥空気の上昇流; 207 径方向シース・エア。
Claims (15)
- 薬剤の溶液から乾燥したまたは本質的に無溶媒の粒子の組成物を提供するように構成された噴霧乾燥システムであって、垂直の管式反応器を備え、前記管式反応器は上昇ガス流に対して前記反応器の頂部から下降する溶液のエアロゾル小滴を伴う下降プロセス流れから溶媒の向流除去ができるように構成され,前記反応器は、
(i)溶液の前記エアロゾル小滴を発生させ得るエアロゾル発生デバイスの出口から乾燥粒子捕集デバイスへと前記下降プロセス流れを移送するための多孔プロセス・チューブと、
(ii)前記多孔プロセス・チューブの周囲領域を取り囲み、前記下降プロセス流れから前記上昇ガス流へ気化した溶媒の拡散を許容しつつ、前記上昇ガス流から前記下降プロセス流れを分離する膜スリーブと、
(iii)前記下降プロセス流れを導入及び/又は除去するための手段が設けられる前記多孔プロセス・チューブおよび前記膜スリーブを密封的に覆う反応器ハウジングとを備えることを特徴とする、システム。 - 前記管式反応器の前記頂部に位置される前記エアロゾル発生デバイスは、エアロゾル小滴を前記多孔プロセス・チューブに分注できるように底部に開口を有する下向きに働くメッシュ式ネブライザであることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 薬剤の前記溶液を受け入れる前記メッシュ式ネブライザの液体室は、前記室の周囲圧力より低い圧力を確立する手段と連結されることを特徴とする請求項2に記載のシステム。
- 前記エアロゾル小滴は、4μmから20μmのサイズの範囲にあることを特徴とする請求項2または3に記載のシステム。
- 前記膜スリーブは、前記上昇ガス流に対して前記下降プロセス流れからの前記溶媒の拡散を許容する薄いシートであり制御された溶媒吸収能力を有し、前記シートは1平方メートル当たり約14グラムの比重量を有する紙シートであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載のシステム。
- ガス乾燥塔から前記管式反応器に流入ガスを供給する手段が設けられ、前記手段は、前記多孔プロセス・チューブと前記ガス乾燥塔との間に配置される入口流量測定デバイスを備えていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のシステム。
- 前記システムは、下降するエアロゾル小滴を含む層流プロセス流れを供給するのに適応している前記多孔プロセス・チューブに流入ガスを導入するデバイスを備えることを特徴とする請求項6に記載のシステム。
- 前記デバイスは、断面が概ね環状であり、それによって前記ネブライザ開口を取り囲み、前記多孔プロセス・チューブの径方向中央に向かって前記エアロゾル小滴の移送および方向付けができるようにプロセス流れを発生させるために、前記デバイスの周囲領域に沿って配置される複数の出口オリフィスが設けられることを特徴とする請求項7に記載のシステム。
- 前記オリフィスは、前記流入ガスを導入するデバイスの断面半径に対して主軸オフセットを有する出口チャンネルがある角度に曲げられ、配置されることを特徴とする請求項8に記載のシステム。
- 前記プロセス流れは、前記多孔プロセス・チューブの底部に連結される真空源によって発生される、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のシステム。
- 薬剤の溶液から、本質的に溶媒を含まない乾燥した粒子の組成物を調製する方法であって、
(i) エアロゾルを発生するためのデバイスに薬剤の溶液を供給するステップと、 (ii) 多孔プロセス・チューブ内に低流量を有するエアロゾル化した小滴のガス・ストリームの形の下降する下降プロセス流れを発生させるステップと、
(iii) 前記下降プロセス流れから溶媒の向流除去ができるように上昇ガス流を、前記下降プロセス流れよりも実質的に多い流量で、発生させるステップと、
(iv) 膜を設け、前記下降プロセス流れおよび前記上昇ガス流を分離し、それを通して前記エアロゾルを乾燥するために前記下降プロセス流れから前記上昇ガス流へと気化した溶媒の拡散移送を可能にする、膜を設けるステップと、
(v) 前記下降プロセス流れから前記乾燥した粒子を除去する前に、すべての溶媒蒸気を実質的に除去するのに十分な時間にわたって前記プロセス流れが前記多孔プロセス・チューブ内で下降できるステップとを含むことを特徴とする方法。 - 下降する前記下降プロセス流れと前記上昇ガス流が共に層流であることを特徴とする請求項11に記載の方法。
- 溶媒吸収塔の方に前記膜を通して多くの溶媒を含む上昇ガス流を密封的に移送するステップと、
脱溶媒のために前記溶媒吸収塔を通してこのガス流を移送するステップと、
前記膜を通してガスの径方向流れを発生させることなく前記反応器を通して上昇するために前記膜にこのガス流を再接触させるステップとを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 溶媒吸収塔の方に前記膜を通して前記多くの溶媒を含む上昇ガス流を密封的に移送するステップと、
脱溶媒のために前記溶媒吸収塔を通してこのガス流を移送するステップと、
前記反応器を通して上昇するために前記膜にこのガス流を再接触させるステップと、同時に、前記膜を通してシース・ガスの対応する径方向流入を生じるように溶媒を脱離したガス流に乾燥ガスの制御された流れを導入するステップとを含むことを特徴とする請求項11に記載の方法。 - 前記上昇ガス流は、前記拡散移送の反対方向に前記膜を通る径方向シース・フローを許容するように配置されることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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