JP2006326398A - 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 - Google Patents

噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 Download PDF

Info

Publication number
JP2006326398A
JP2006326398A JP2005149839A JP2005149839A JP2006326398A JP 2006326398 A JP2006326398 A JP 2006326398A JP 2005149839 A JP2005149839 A JP 2005149839A JP 2005149839 A JP2005149839 A JP 2005149839A JP 2006326398 A JP2006326398 A JP 2006326398A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
spray
lower mounting
mounting disk
disk
stock solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005149839A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinya Hashimoto
信也 橋本
Takuo Katayasu
卓雄 潟保
Mare Kenjo
希 見上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP2005149839A priority Critical patent/JP2006326398A/ja
Publication of JP2006326398A publication Critical patent/JP2006326398A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Nozzles (AREA)
  • Glanulating (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

【課題】 粒子の粒径バラツキの抑制が図られた噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機を提供する。
【解決手段】 本発明に係る噴霧盤34においては、上下取付円板50に供給された原液は、上下取付円板50の周縁方向に流れ、噴霧用コロ62の周面62aに沿って上昇して膜状となる。そして、原液は、膜状となった後に、上下取付円板50から外方に噴霧される。ここで、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材64が、上部取付円板52の外縁部52aと下部取付円板54の外縁部54bとの間を覆うように配されている。そのため、上下取付円板50から噴霧された上記所定の径以上の液滴は、このフィルタ部材64に衝突してより小さな径の液滴に破砕される。その結果、比較的大きな径を有する液滴が縮小化されて、液滴全体における径のバラツキが抑制されることとなるため、この噴霧盤34を用いることで、得られる粒子の粒径バラツキの抑制が実現される。
【選択図】 図3

Description

本発明は、遠心式の噴霧装置に用いる噴霧盤、この噴霧盤を用いた噴霧装置、及びこの噴霧装置を用いた噴霧乾燥機に関するものである。
従来、薬剤や食料品などの流体や、セラミックスラリー等である原液を、噴霧盤や加圧ノズルによって液滴状にして高温ガス中に噴霧し、瞬時に乾燥固化させることで原液を粒子化する噴霧乾燥機が一般に知られている。このような噴霧乾燥機は、原液の粒子化の際に、原液のろ過や分離、機械的濃縮等の処理を省略できるという特長があり、多くの場合球状の粒子を得ることができる。
このような噴霧乾燥機のうち、噴霧盤を備えるタイプの噴霧乾燥機は、例えば、下記特許文献1に開示されている。この文献に記載の噴霧盤80は、図6の(a)及び(b)に示すように、上下取付円板82の間に円錐状の噴霧用コロ84が配置された構造を有している。そして、この噴霧盤80を用いて原液の噴霧をおこなう際には、回転する上下取付円板82の中心部付近に、原液供給管86から原液を供給する。すると、原液は遠心力によって上下取付円板82の周縁方向に流れる。そして、原液は、上下取付円板82の周縁に配置された噴霧用コロ84まで達すると、噴霧用コロ84の周面84aに沿って上昇して、噴霧用コロ84の高さ方向に関して略均一厚さの膜状となる。その後、原液は、噴霧用コロ84の周面84aから液滴状になって離脱し、噴霧盤80から噴霧される。このように、噴霧用コロ84によって原液を一旦均一厚さの膜状とすることにより、噴霧される液滴の径の均一化が図られている。その結果、この液滴を乾燥固化して得られる粒子の粒径の均一化も図られている。
特開平9−131550号公報
しかしながら、従来の上記噴霧乾燥機には、次のような課題が存在している。すなわち、噴霧盤に供給された原液を、噴霧用コロの高さ方向に関して厳密に均一厚さの膜状とすることが困難であったため、原液が離脱する噴霧用コロの高さ位置によって、液滴の径にバラツキが生じていた。この液滴の径のバラツキが、この液滴を乾燥固化して得られる粒子の粒径バラツキの原因となっていた。
そこで、本発明は、上述の課題を解決するためになされたもので、粒子の粒径バラツキの抑制が図られた噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機を提供することを目的とする。
本発明に係る噴霧盤は、上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、上部取付円板の上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを備えることを特徴とする。
この噴霧盤においては、上下取付円板の中心部付近に供給された原液は、上下取付円板の周縁方向に流れ、噴霧用コロの周面に沿って上昇して膜状となる。そして、原液は、膜状となった後に、液滴状になって噴霧用コロの周面から離脱し、上下取付円板から外方に噴霧される。ここで、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材が、上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配されている。そのため、上下取付円板から噴霧された上記所定の径以上の液滴は、このフィルタ部材に衝突し、衝突の衝撃によってより小さな径の液滴に破砕される。その結果、比較的大きな径を有する液滴が縮小化されて、液滴全体における径のバラツキが抑制されることとなる。従って、この噴霧盤を用いることで、得られる粒子の粒径バラツキの抑制が実現される。
本発明に係る噴霧装置は、上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、上部取付円板の上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、噴霧盤の上下取付円板を回転させる回転軸と、上下取付円板に、上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段とを備えることを特徴とする。
この噴霧装置においては、噴霧盤の上下取付円板の中心部付近に供給された原液は、上下取付円板の周縁方向に流れ、噴霧用コロの周面に沿って上昇して膜状となる。そして、原液は、膜状となった後に、液滴状になって噴霧用コロの周面から離脱し、上下取付円板から外方に噴霧される。ここで、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材が、上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配されている。そのため、上下取付円板から噴霧された上記所定の径以上の液滴は、このフィルタ部材に衝突し、衝突の衝撃によってより小さな径の液滴に破砕される。その結果、比較的大きな径を有する液滴が縮小化されて、液滴全体における径のバラツキが抑制されることとなる。従って、この噴霧装置を用いることで、得られる粒子の粒径バラツキの抑制が実現される。
本発明に係る噴霧乾燥機は、上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、上部取付円板の上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、噴霧盤の上下取付円板を回転させる回転軸と、上下取付円板に、上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段と、噴霧盤を収容する噴霧乾燥室と、噴霧乾燥室内に、噴霧盤から噴霧される原液を加熱乾燥するための高温ガスを供給するガス供給手段とを備えることを特徴とする。
この噴霧乾燥機においては、噴霧盤の上下取付円板の中心部付近に供給された原液は、上下取付円板の周縁方向に流れ、噴霧用コロの周面に沿って上昇して膜状となる。そして、原液は、膜状となった後に、液滴状になって噴霧用コロの周面から離脱し、上下取付円板から外方に噴霧される。ここで、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材が、上部取付円板の外縁部と下部取付円板の外縁部との間を覆うように配されている。そのため、上下取付円板から噴霧された上記所定の径以上の液滴は、このフィルタ部材に衝突し、衝突の衝撃によってより小さな径の液滴に破砕される。その結果、比較的大きな径を有する液滴が縮小化されて、液滴全体における径のバラツキが抑制されることとなる。従って、この噴霧乾燥機を用いることで、得られる粒子の粒径バラツキの抑制が実現される。
本発明によれば、粒子の粒径バラツキの抑制が図られた噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機が提供される。
以下、添付図面を参照して本発明に係る噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機を実施するにあたり最良と思われる形態について詳細に説明する。なお、同一又は同等の要素については同一の符号を付し、説明が重複する場合にはその説明を省略する。
図1に、本発明の実施形態に係る噴霧乾燥機10の概略構成図を示す。この噴霧乾燥機10は、セラミックスラリー等である原液を液滴状にして噴霧すると共に、液滴状にした原液を乾燥固化することによって、原液から微細な球状の粒子を得るためのものであり、スプレードライヤとも称される。そして、噴霧乾燥機10は、噴霧乾燥室12と、噴霧乾燥室12の頂部に設けられた噴霧装置14と、噴霧装置14の周辺から噴霧乾燥室12内に熱風(すなわち、高温ガス)を供給するガス供給手段16とを備えている。
噴霧乾燥室12は、ガス供給手段16から熱風が吹き込まれて、その熱風によって噴霧装置14から噴霧された液滴を乾燥固化するための容器である。噴霧乾燥室12の底部には、噴霧装置14から噴霧された液滴の乾燥固化によって得られた粒子を回収するための回収ポケット18と、ガス供給手段16から供給された熱風の排気をおこなうための排気口20が設けられている。この排気口20は、排気管22を介して、上記粒子の分離及び回収をおこなうサイクロン24につながっている。
ガス供給手段16は、ガス供給口26とガス供給装置28とによって構成されている。ガス供給口26は、噴霧装置14の周囲から噴霧乾燥室12内に竜巻状の熱風を吹き込むように配されている。ガス供給装置28は、ガス供給口26に熱風を送り込む装置である。
噴霧装置14は、噴霧乾燥室12内に原液の液滴を噴霧するものであり、アトマイザとも称される。この噴霧装置14の具体的な構成は、図2に示したとおりである。すなわち、噴霧装置14は、モータ30と、モータ30によって回転されると共に鉛直下向きに延びる回転軸32と、回転軸32の下端に設けられた噴霧盤34と、噴霧盤34に対して原液を供給する複数本(例えば4本)の原液供給管36とを備えている。そして、噴霧装置14のうち、少なくとも噴霧盤34に関しては、噴霧乾燥室12の内部に収容されている。
ここで、原液供給管36は、本発明における原液供給手段であり、原液供給装置38から原液が送られてくる。なお、必要に応じて、原液供給管36から導入される原液を、液分配器により均一に分配した後に噴霧盤34に供給してもよい。
噴霧装置14は、さらに、2つの軸受け40A,40Bを有すると共に回転軸32を保持するハウジング42と、ハウジング42及び原液供給管36を収容すると共に下方に向かうに従って漸次縮径しているロート状ケーシング44と、モータ30を覆うと共に噴霧装置14全体を釣止するためのモータカバー46とを備えている。
このような構成を有する噴霧装置14においては、モータ30を駆動することにより、回転軸32が回転し、回転軸32に取り付けられた噴霧盤34が回転する。そして、回転している噴霧盤34に対して、原液供給管36から原液を供給すると、噴霧盤34の回転に伴う遠心力により噴霧盤34から原液の液滴が水平方向に沿う方向に噴霧される。そして、噴霧された液滴は、図1に示した噴霧乾燥室12内において瞬時に乾燥固化されて粒子となり、その大部分が沈下して噴霧乾燥室12の底部の回収ポケット18に回収され、その一部は熱風に搬送されて排気口20を通りサイクロン24によって回収される。
次に、上述した噴霧盤34の構成について、図3及び図4を参照しつつ詳しく説明する。図3に示すように、噴霧盤34は、回転軸32と直交する上下取付円板50を有している。この上下取付円板50は、平行に配された上部取付円板52及び下部取付円板54と、上部取付円板52と下部取付円板54とを連結する複数の連結軸56とによって構成されている。下部取付円板54の中央部には、回転軸32と螺合するためのナット部58が形成されており、このナット部58において下部取付円板54と回転軸32とを結合させて袋ナット60で締結することにより上下取付円板50と回転軸32とが一体的に回転する。上部取付円板52は、中央部が空隙となっている環状円板であり、その空隙に上述した原液供給管36が配置される。上部取付円板52の外径(本実施形態では65mm)は、下部取付円板54の外径と略同一となっている。
上部取付円板52と下部取付円板54とを連結する複数本(本実施形態では12本)の連結軸56は、図4に示すように、上下取付円板50の周縁に沿って同心円状に等角度間隔で配置されている。そして、各連結軸56の周りには、噴霧用コロ62が回動自在に設けられている。つまり、この噴霧用コロ62も、連結軸56と同様に、下部取付円板54の周縁(すなわち、上下取付円板50の周縁)に沿って配置されている。この噴霧用コロ62は、下部取付円板54から上部取付円板へ向かって漸次縮径する略円錐状を有している。なお、噴霧用コロ62は、適宜回動しないように連結軸56に固定してもよい。
そして、上下取付円板50を囲む円管状のフィルタ部材64が、上部取付円板52の外縁部52aと下部取付円板54の外縁部54bとの間に架け渡されるように設けられている。このフィルタ部材64は、上下取付円板50の全周に亘って、上部取付円板52の外縁部52aと下部取付円板54の外縁部54bとの間を覆っている。また、フィルタ部材64は、略全体に亘って網目構造となっており、所定の径以下(例えば、80μm以下)の液滴のみが通過可能となっている。
以上のような構成を有する噴霧盤34によって液滴の噴霧をおこなう際には、回転軸32により上下取付円板50を回転させている状態で、原液供給管36によって上下取付円板50の中心部付近に上部取付円板52側から原液を供給する。すると、上下取付円板50に供給された原液は、遠心力によって下部取付円板54の上面54aを上下取付円板50の周縁方向に流れる。そして、原液が噴霧用コロ62まで達すると、噴霧用コロ62の周面62aに沿ってすくい上げられるように上昇して膜状となる。このとき、この膜状の原液の厚さは、噴霧用コロ62の高さ方向に関して略均一となっている。原液は、噴霧用コロ62において膜状となった後、液滴状になって噴霧用コロ62の周面62aから離脱し、図3の矢印Aに示すように上下取付円板50から外方に噴霧される。このように、噴霧用コロ62によって原液を一旦均一厚さの膜状にすることで、噴霧される液滴の径がある程度均一化される。
そして、上下取付円板50から外方に噴霧された原液の液滴は、上下取付円板50の外側に配されたフィルタ部材64に到達する。そして、フィルタ部材64に到達した液滴のうち、径が80μm以下である液滴は、フィルタ部材64の網目構造を通過して、噴霧盤34の外方に飛散する。一方、フィルタ部材64に到達した液滴のうち、径が80μmを超える液滴(以下、粗粒液滴とも称す。)は、フィルタ部材64の網目構造を通過することができずに、フィルタ部材64に衝突する。このようにフィルタ部材64に衝突した粗粒液滴は、衝突の衝撃によってより小さな径の液滴に破砕される。換言すると、上下取付円板50から噴霧される液滴全体の粒度分布は、フィルタ部材64による破砕によって粗粒領域の粒子が微粒領域側に遷移する。それにより、液滴の粒度分布範囲が狭くなって、液滴の径のバラツキが抑制される。なお、破砕されて縮小化(つまり、小径化)された液滴は、その他の液滴と共にフィルタ部材64の網目構造を通過して、噴霧盤34の外方に飛散する。
すなわち、以上で示したようなフィルタ部材64を備えた噴霧盤34によれば、フィルタ部材64において粗粒液滴の破砕がおこなわれるため、フィルタ部材64を備えない従来の噴霧盤80(図6参照)に比べて、噴霧される液滴の径のバラツキの抑制が実現される。そのため、上述した噴霧盤34、噴霧装置14及び噴霧乾燥機10を用いることで、粒子の粒径バラツキが抑制されて粒径の均一化が実現される。
フィルタ部材を備える噴霧盤の効果を明らかなものとするため、以下、実施例及び比較例を用いて説明する。
発明者らは、上述した実施形態に係る噴霧盤34と同様の噴霧盤(以下、噴霧盤Aと称す。)と、従来技術に係る噴霧盤80と同様の噴霧盤(以下、噴霧盤Bと称す。)とを用意して、それぞれの噴霧盤を用いてセラミックスラリーを粒子化する実験をおこなった。そして、両噴霧盤A,Bを比較するために、それぞれの噴霧盤によって粒子化された粒子の粒度分布を測定した。なお、粒径に影響を与える噴霧盤の周速(25m/sec)等の諸条件は、両噴霧盤A,Bにおいて同一にして実験をおこなった。
粒度分布の測定結果は、図5のグラフに示すとおりであった。なお、図5のグラフの横軸は粒径(μm)を示しており、縦軸は累積分率(%)を示している。また、このグラフにおいては、噴霧盤Aで粒子化した粒子の粒度分布(累積度数曲線)は実線で示しており、噴霧盤Bで粒子化した粒子の粒度分布(累積度数曲線)は破線で示している。
このグラフから明らかなように、噴霧盤Aを用いた場合には、噴霧盤Bを用いた場合に比べて、粒径の大きな粒子の低減が図られている。これは、上述したようにフィルタ部材64による粗粒液滴の破砕によるものであると考えられる。その結果、噴霧盤Aにおいては、噴霧盤Bに比べて、粒子の粒径バラツキが抑制されて粒径の均一化が実現されている。
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、フィルタ部材の網目構造の粗さは、入用の粒径に合わせて、適宜変更することが可能である。また、フィルタ部材は、上下取付円板と一体的に形成してもよい。さらに、フィルタ部材は、上下取付円板の周りを完全に覆うものでなくてもよく、一部にスリットや切り欠き等が形成されていてもよい。上述した噴霧乾燥機は、セラミック粒子以外の粒子を作製する際に利用してもよい。
本発明の実施形態に係る噴霧乾燥機の概略構成図である。 図1の噴霧乾燥機の噴霧装置を示した要部拡大断面図である。 図2の噴霧装置の噴霧盤を示した要部拡大断面図である。 図3の噴霧盤の平面図である。 本発明の実施例に係る測定結果を示したグラフである。 従来技術に係る噴霧盤を示した図であり、(a)は断面図、(b)は平面図を示している。
符号の説明
10…噴霧乾燥機、12…噴霧乾燥室、14…噴霧装置、16…ガス供給手段、32…回転軸、34…噴霧盤、36…原液供給管、50…上下取付円板、52…上部取付円板、54…下部取付円板、62…噴霧用コロ、64…フィルタ部材。

Claims (3)

  1. 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、
    前記上部取付円板の前記上部取付円板の外縁部と前記下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、
    前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを備える、噴霧盤。
  2. 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上部取付円板の前記上部取付円板の外縁部と前記下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、
    前記噴霧盤の前記上下取付円板を回転させる回転軸と、
    前記上下取付円板に、前記上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段とを備える、噴霧装置。
  3. 上部取付円板と下部取付円板とを有する上下取付円板と、前記上部取付円板の前記上部取付円板の外縁部と前記下部取付円板の外縁部との間を覆うように配され、所定の径以下の液滴のみ通過可能なフィルタ部材と、前記上下取付円板の間の略周縁に沿って配置された略円錐状の複数の噴霧用コロとを有する噴霧盤と、
    前記噴霧盤の前記上下取付円板を回転させる回転軸と、
    前記上下取付円板に、前記上部取付円板側から原液を供給する原液供給手段と、
    前記噴霧盤を収容する噴霧乾燥室と、
    前記噴霧乾燥室内に、前記噴霧盤から噴霧される原液を加熱乾燥するための高温ガスを供給するガス供給手段とを備える、噴霧乾燥機。
JP2005149839A 2005-05-23 2005-05-23 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機 Pending JP2006326398A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005149839A JP2006326398A (ja) 2005-05-23 2005-05-23 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005149839A JP2006326398A (ja) 2005-05-23 2005-05-23 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006326398A true JP2006326398A (ja) 2006-12-07

Family

ID=37548689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005149839A Pending JP2006326398A (ja) 2005-05-23 2005-05-23 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006326398A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102553276A (zh) * 2011-12-08 2012-07-11 钟元龙 干燥除尘组合塔
CN104251603A (zh) * 2014-09-03 2014-12-31 嘉善圣莱斯绒业有限公司 粉末烘干处理装置
JP2016204903A (ja) * 2015-04-20 2016-12-08 株式会社日立製作所 ダウンホール圧縮装置
JP6094981B1 (ja) * 2015-12-08 2017-03-15 アイエス ジャパン株式会社 Cipアダプタ及びcipシステム
WO2018128041A1 (ja) 2017-01-06 2018-07-12 大川原化工機株式会社 粒子製造装置及び粒子製造方法
KR102101290B1 (ko) * 2019-04-29 2020-04-16 (주)클린에어스 기-액 접촉 효율을 극대화하기 위한 액체 분무디스크
WO2023170962A1 (ja) 2022-03-11 2023-09-14 エム・テクニック株式会社 噴霧乾燥機

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5810862U (ja) * 1981-07-14 1983-01-24 大川原化工機株式会社 遠心噴霧機における噴霧盤
JPS62277315A (ja) * 1976-06-09 1987-12-02 ア−マ−・フア−マシユ−テイカル・カンパニ− 厚壁の中空マクロ球形粒子製造方法及びその装置
JPS63136702U (ja) * 1987-03-02 1988-09-08
JPH09131550A (ja) * 1995-11-09 1997-05-20 Oogawara Kakoki Kk 噴霧盤、噴霧装置および噴霧乾燥装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62277315A (ja) * 1976-06-09 1987-12-02 ア−マ−・フア−マシユ−テイカル・カンパニ− 厚壁の中空マクロ球形粒子製造方法及びその装置
JPS5810862U (ja) * 1981-07-14 1983-01-24 大川原化工機株式会社 遠心噴霧機における噴霧盤
JPS63136702U (ja) * 1987-03-02 1988-09-08
JPH09131550A (ja) * 1995-11-09 1997-05-20 Oogawara Kakoki Kk 噴霧盤、噴霧装置および噴霧乾燥装置

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102553276A (zh) * 2011-12-08 2012-07-11 钟元龙 干燥除尘组合塔
CN104251603A (zh) * 2014-09-03 2014-12-31 嘉善圣莱斯绒业有限公司 粉末烘干处理装置
JP2016204903A (ja) * 2015-04-20 2016-12-08 株式会社日立製作所 ダウンホール圧縮装置
JP6094981B1 (ja) * 2015-12-08 2017-03-15 アイエス ジャパン株式会社 Cipアダプタ及びcipシステム
JP2017104785A (ja) * 2015-12-08 2017-06-15 アイエス ジャパン株式会社 Cipアダプタ及びcipシステム
WO2018128041A1 (ja) 2017-01-06 2018-07-12 大川原化工機株式会社 粒子製造装置及び粒子製造方法
KR20190099440A (ko) 2017-01-06 2019-08-27 오카와라 카코오키 가부시키 가이샤 입자 제조 장치 및 입자 제조 방법
US11185790B2 (en) 2017-01-06 2021-11-30 Ohkawara Kakohki Co., Ltd. Particle production apparatus and particle production method
KR102101290B1 (ko) * 2019-04-29 2020-04-16 (주)클린에어스 기-액 접촉 효율을 극대화하기 위한 액체 분무디스크
WO2023170962A1 (ja) 2022-03-11 2023-09-14 エム・テクニック株式会社 噴霧乾燥機

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3585654B2 (ja) 2段乾燥式スプレードライヤー装置
JP6283093B2 (ja) 粒子調整装置
EP1185360B1 (en) A process and a plant for spray drying
KR102167487B1 (ko) 사이클론, 미스트 엘리미네이터 및 사용 방법
US20140231555A1 (en) Method for grinding mill material and roller mill
US6463675B1 (en) Process and a plant for spray drying
KR20130100986A (ko) 제트 밀
JPH03135430A (ja) 造粒コーティング方法および装置
JP2006326398A (ja) 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機
TWI670108B (zh) 乾燥噴霧機結構
JP2009537292A (ja) ジェットミルを用いて非常に微細な粒子を生成する方法
JP2006326393A (ja) 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機
US11097214B2 (en) In-line swirl vortex separator
KR20080101559A (ko) 회전형 분무 건조 장치 및 이를 구비한 건조 챔버
WO2019230258A1 (ja) 分離装置
JP4753387B2 (ja) 気流分級装置
JP4548216B2 (ja) 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機
CN103237604B (zh) 粉体的粉碎方法
KR20130043082A (ko) 분체의 분급 방법
JP2017047383A (ja) バイオマスミル
JP2006326396A (ja) 噴霧盤、噴霧装置及び噴霧乾燥機
JP2011050877A (ja) ミストコレクタ
RU2332624C1 (ru) Распылительная сушилка типа взп с инертным носителем
JP5299134B2 (ja) 噴霧乾燥装置および顆粒の製造方法
JP7009349B2 (ja) 分級機能付き粉砕装置及び被処理物の粉砕方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070531

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100304

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20100406

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100803