JP2006319038A - 単電子トランジスタ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】量子サイズ効果が生じるような微小な細線部105の両端に、半導体よりなる細線部105より大きなソース103及びドレイン104が接続された状態とすると、ソース103に存在する電子にとって、細線部105の禁制帯はエネルギーバリアとなる。この状態で、ゲート電極107に正の電圧を印加し、細線部105に電界が印加された状態とすると、細線部105の中央部のエネルギーバリアは小さくなるが、ソース103,ドレイン104と接続している細線部105の両端のエネルギーバリアは変化しない。この結果、細線部105のエネルギーバリアは、放物線的に中央部が小さくなり、ここに等価的に単電子島が形成された状態となる。
【選択図】 図1
Description
Claims (6)
- 基板の上に形成されて互いに離間して配置された半導体からなるソース及びドレインと、
前記ソース及びドレインの間に配置されて前記ソース及び前記ドレインに接続する半導体からなる細線部と、
前記細線部と絶縁分離して配置されたゲート電極と
を少なくとも備え、
前記ソース,前記細線部,及び前記ドレインが配列された第1方向に対して垂直な第2方向の前記細線部の寸法は、前記ソース及びドレインの前記第2方向の寸法より小さく形成され、かつ量子効果が発現される範囲の寸法に形成されている
ことを特徴とする単電子トランジスタ。 - 請求項1記載の単電子トランジスタにおいて、
前記基板の平面の法線方向の前記細線部の寸法は、前記ソース及びドレインの前記第2方向の寸法より小さい
ことを特徴とする単電子トランジスタ。 - 請求項2記載の単電子トランジスタにおいて、
前記基板の平面の方向の前記細線部の寸法は、前記ソース及びドレインの前記第2方向の寸法に等しい
ことを特徴とする単電子トランジスタ。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の単電子トランジスタにおいて、
前記ソースと細線部との間及び前記ドレインと細線部との間に形成されたトンネル接合を備える
ことを特徴とする単電子トランジスタ。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の単電子トランジスタにおいて、
前記基板がゲート電極である
ことを特徴とする単電子トランジスタ。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の単電子トランジスタにおいて、
前記細線部に単電子島が形成される
ことを特徴とする単電子トランジスタ。
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JP2011512668A (ja) * | 2008-02-16 | 2011-04-21 | チュンブク ナショナル ユニヴァーシティ インダストリー−アカデミック コーポレイション ファウンデーション | 常温で動作する単電子トランジスタ及びその製造方法 |
KR101536778B1 (ko) * | 2009-02-09 | 2015-07-16 | 충북대학교 산학협력단 | 상온동작 단전자 트랜지스터 및 그 제조방법 |
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- 2005-05-11 JP JP2005138479A patent/JP4704802B2/ja not_active Expired - Fee Related
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