JP2006318862A - 真空ディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】真空パネルの両基板を正確に位置決めして高気密性で封着できる製法を提供する。
【解決手段】アノード基板３の内面に、軟化点が高い第１シール材料で第１パターン６及び台座７を同一高さで形成する。軟化点が低い第２シール材料で第１パターンの上に第２パターン８を形成する。第２パターンの上にカソード基板５を載せ、表示部２と電界放出素子４が所定の位置関係となるように両基板を位置決めする。第２パターンの部分でカソード基板の上面を押圧し、台座に相対する部分でカソード基板の周囲を押圧して撓ませて台座に当接させ、レーザで台座を溶融して両基板を仮固定する。封着炉で第２パターンを溶融させ、排気しながら両基板を封着した後、仮固定した部分を切断除去する。
【選択図】図３

Description

本発明は、蛍光表示管や電界放出型表示装置などの内部が高真空に保持される真空ディスプレイパネルに係り、特に所定間隔をおいて対面するように配置された２枚の基板の間をシール材料で封着してなる真空ディスプレイパネルにおいて、両基板を正確に位置決めした状態で封着することができる製造方法に関するものである。

下記特許文献１には、一対の平板間の位置ずれを起こすことなく貼り合わせて密封空間を構成する密封容器の構造乃至製法が開示されている。この密封容器である表示装置は、一対の平板であるアノード基板とカソード基板との間にフレームガラスを挟持しているが、このフレームガラスの外周部には、一対の平板間を接着してフレームガラスの内側に構成される空間を密封する低融点ガラスが設けられ、さらにその外側には一対の平板間を連結する固定ブロックが設けられている。

上記の構成によれば、一対の平板を位置合わせしてから接合部材によって密封を行うまでの間、固定ブロックによって確実に固定でき、一対の平板を位置ずれなく固定して密封できるので、表示装置としての表示の均一性を向上させることが可能となるものとされている。
特開２００２−８３５３５号

上記特許文献１に記載の構造によれば、最終的に一対の平板間を封着する低融点ガラスは、一対の平板間の寸法を規定している固定ブロックの内側にあるが、この固定ブロックによる一対の平板間の寸法は一定であり、低融点ガラスを溶融させて行う封着工程でも一対の平板間の寸法が変わることはない。よって、溶けた低融点ガラスが押しつぶされて低くなることはなく、低融点ガラスによるシール部分には低融点ガラスの溶融時においても隙間が生じ、容器のシール性に問題が生じる可能性が否定できないという問題がある。また、このような工程では、一対の平板間における平面内での位置決めの効果が不十分であり、例えば一方の平板に設けた表示部と、他方の平板に設けた電子放出部との位置決め精度に問題が生じる可能性もあった。

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、所定間隔をおいて対面するように配置された２枚の基板の間をシールガラスで封着してなる真空ディスプレイパネルにおいて、両基板を正確に位置決めして高い気密性をもって封着することができる製造方法を提供することを目的としている。

請求項１に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法は、
所定間隔をおいて対面するように配置された第１基板と第２基板の間をシール材料で封着して内部を高真空状態とした真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記第１基板の内面に、軟化点が相対的に高い第１シール材料で第１シールパターンと台座を形成する第１工程と、
軟化点が相対的に低い第２シール材料で前記第１シールパターンの上に第２シールパターンを形成する第２工程と、
前記第１基板に設けられた前記第２シールパターンの上に前記第２基板を載せて前記第１基板と前記第２基板を位置決めする第３工程と、
前記第２基板を前記第１基板上の前記台座に当接させた状態で前記台座を溶融させることにより前記台座を介して前記第２基板と前記第１基板を固定する第４工程と、
前記第２シールパターンを溶融させることにより前記第２基板と前記第１基板を封着し、内部を排気する第５工程と、
を有することを特徴としている。

請求項２に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法は、請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記第３工程において、前記第２基板と前記台座との間には前記第２シールパターンの高さに相当する寸法の隙間が生じ、
前記第４工程において、前記台座を溶融させる前に、前記第２シールパターンに対応する前記第２基板の上面の位置を前記第１基板に向けて押圧するとともに、前記台座に相対する前記第２基板の部分を前記台座に向けて押圧することにより前記部分を撓ませて前記台座に当接させることを特徴としている。

請求項３に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法は、請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記第４工程において、前記台座の溶融をレーザ光を用いて行うことを特徴としている。

請求項４に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法は、請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記第５工程の後に、前記台座を介して固定された前記第２基板と前記第１基板の一部を切断して除去することを特徴としている。

請求項５に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法は、
アノード電極の上に蛍光体層が設けられた表示部を内面に有するアノード基板と、電界放出素子を内面に有するカソード基板とを、所定間隔をおいて対面するように配置して両基板の間をシール材料で封着し、内部を高真空状態とした真空ディスプレイパネルの製造方法において、
前記アノード基板の内面に、軟化点が相対的に高い第１シール材料で、前記表示部を囲む第１シールパターン及び前記第１シールパターンの外側に位置する台座を、実質的に同一の高さで形成する第１工程と、
軟化点が相対的に低い第２シール材料で前記第１シールパターンの上に第２シールパターンを形成する第２工程と、
前記表示部と前記電界放出素子が対面するように前記アノード基板に設けられた前記第２シールパターンの上に前記カソード基板を載せ、前記表示部と前記電界放出素子とが所定の位置関係となるように前記アノード基板と前記カソード基板を位置決めする第３工程と、
前記第２シールパターンに対応する前記カソード基板の上面の位置を前記アノード基板に向けて押圧するとともに、前記台座に相対する前記カソード基板の部分を前記台座に向けて押圧することにより前記部分を撓ませて前記台座に当接させた状態で、前記台座を溶融させることにより前記台座を介して前記カソード基板と前記アノード基板を固定する第４工程と、
前記第２シールパターンを溶融させることにより前記カソード基板と前記アノード基板を封着し、内部を排気する第５工程と、
を有することを特徴としている。

請求項１に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法によれば、第２基板を第２シールパターンの上に載置した状態で第１基板と第２基板を精密に位置合わせすることができ、さらにその後に第２基板を台座部に当接させて該台座部を溶融させれば、両基板を前記位置決めされた状態で確実に仮固定できる。従って、この仮固定の状態で第２シールパターンを溶融させて両基板の封着を行えば、両基板の位置関係に大きなずれを生じることなく、封着を行うことができる。また、基板が撓み、溶融したシールパターンが押しつぶされる方向に荷重されて封着されることとなるので、得られた真空ディスプレイパネルのシール部分における気密性は高い。また、仮固定には特に別部品や治具等は不要なので、部品点数を増加させることなく製造を行うことができる。さらに、この製法であれば、大型の基板を用いて多数個取りを行うことができ、生産性が向上する。
なお、第１シールパターン及び台座部を構成する第１シールガラスは、第２シールパターンの第２シールガラスよりも軟化点が高いので、第２シールパターンを溶融させる封着工程において、第１シールパターン及び台座部が溶融して高さが変化することはない。

さらに、請求項２に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法によれば、第１基板上で積層された第１シールパターン及び第２シールパターンは台座部よりも高く、第２基板を第２シールパターンの上に載置すると、第２基板と台座との間には第２シールパターンの高さに相当する寸法の隙間が生じる。そこで、上記仮固定においては、第２基板の上面を押圧して第２シールパターンと確実に接触させることで定めた位置を確実に保持しつつ、この状態で第２基板を押圧により撓ませて台座に当接させるので、基板の位置決めにおいてずれが生じにくい。

請求項３に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法によれば、第４工程において台座の溶融をレーザ光を用いて行うので、第１基板又は第２基板を通して台座部に対する照射を行うことができ、台座のみを短時間で効率的に加熱して溶融させることができる。

請求項４に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法によれば、第５工程の後に、製品の最終形態としては不要な部分を容易に除去することができる。

請求項５に記載された真空ディスプレイパネルの製造方法によれば、蛍光体層が設けられた表示部を有するアノード基板と、電界放出素子を有するカソード基板とからなる真空ディスプレイパネルの製造方法において、上記請求項１乃至４に記載した発明と同様の効果が得られるが、特に、シールパターンと台座をアノード基板側に設ければ、特に、大気焼成が困難である電界放出素子を有するカソード電極を焼成せずとも、シールガラスと台座を一度に大気焼成することができ、製造上好都合である上、上述した多数個取りの手法によって発光パターンの位置決め精度が高い電界放出形の真空ディスプレイパネルを効率的に大量生産できる効果がある。

本発明を実施するための最良の形態を図１〜図１０を参照して説明する。
本例の真空ディスプレイパネルは、各内面等に発光表示のための構造が作り込まれた２枚のガラス基板を所定間隔をおいて対面させて配置し、両基板の外周部において両基板の隙間をシール材料で封着し、内部を高真空状態とした薄型パネル状の表示デバイスである。

１．第１実施形態
図１に組立前の状態で示すように、本例の真空ディスプレイパネル１は、アノード電極の上に蛍光体層が設けられた表示部２を内面に有するアノード基板３と、電界放出素子４を内面に有するカソード基板５とを、所定間隔をおいて対面するように配置して両基板３，５の間を封着ガラスで封着し、内部を高真空状態としたものである。なお、カソード基板５には、カソードである電界放出素子４から放出され、アノードである表示部２へ到達する電子の挙動を制御する制御電極等が配設されていてもよい。
以下に、製造工程について説明する。

(1) 基板の製造工程
まず、真空ディスプレイパネル１の組立に先立ち、アノード基板３には所定パターンの表示部２（アノード電極及び蛍光体層等）を形成し、一方カソード基板５には集積回路作成技術により微細構造のカソードとして電界放出素子４や制御電極等を設けておく。なお、本例では、アノード基板３とカソード基板５は共に同一の矩形で材質がガラスであるが、電極等の引出し等の必要に応じて例えばカソード基板５側を大きくしてもよいし、材質も他の材料に変更可能である。

(2) 第１工程
真空ディスプレイパネル１を製造する際には、図１及び図２に示すように、平面視矩形のアノード基板３の内面に、後述する第２シールガラスに比較して軟化点が相対的に高い結晶性ガラス又は非結晶性ガラス等からなるシール材料としての第１シールガラスを用いて、表示部２を囲む略矩形の閉曲線からなる第１シールパターン６を形成する。これと同時に、第１シールパターン６の外側であって、アノード基板３の内面の隅部（本例では４箇所だが、少なくとも２箇所以上が望ましい）に、第１シールパターン６と同一の材料を用いた台座７を第１シールパターン６と同一の高さで形成する。本例の台座７の形状は、略円錐台形である。シールパターンはフリット状のガラスとバインダー等をペースト状とし、印刷やディスペンス等の方法で所定のパターンに形成する。その後、乾燥、大気焼成工程を経てバインダー等の有機物を除去し、ガラス化させる。

(3) 第２工程
前述した第１シールガラスに比較して軟化点が相対的に低い非結晶性ガラス等からなるシール材料としての第２シールガラスを用いて、前記第１シールパターン６の上に同一のパターンで第２シールパターン８を乗せて形成する。第２シールパターン８の高さは、概ね第１シールパターン６の高さと同一とする。第２シールパターン８も前記第１シールパターン６と同様の工程で形成する。

(4) 第３工程
図２に示すように、アノード基板３の表示部２とカソード基板５の電界放出素子４が対面する如く、アノード基板３に設けられた第２シールパターン８の上に、カソード基板５を内面を下向きにして載せる。本工程では、表示部２と電界放出素子４とが所定の位置関係となるように、アノード基板３とカソード基板５の水平面内における位置決めを行う。

このカソード基板５及びアノード基板３には各々位置合わせ用の基準マークが付されており、この基準マークを顕微鏡で観察しながら、アノード基板３をカソード基板５に対して相対移動させて、カソード基板５の基準マークとアノード基板３の基準マークとを一致させることにより、カソード基板５とアノード基板３の相対位置を決めることができる。

(5) 第４工程
図３に示すように、第２シールパターン８に対応するカソード基板５の上面の位置を、アノード基板３に向けて固定ヘッド９で下方に押圧する。固定ヘッド９は、第２シールパターン８に対応した略矩形周状の押圧部９ａで第２シールパターン８の真上に当たるカソード基板５の上面に当接することができ、適当な押圧力でシールパターン６，８に対応した位置でカソード基板５とアノード基板３を押さえつけ、次に行う仮固定の作業中に基板相互の位置関係にずれが生じないように保持する。

上記の状態において、アノード基板３の台座７に相対しているカソード基板５の外周の一部分を、カソード基板５の上面側から外周ヘッド１０により下方の台座７に向けて押圧する。これにより、前記一部分は下方に向けてわずかに撓み、このたわんだ部分の下面が台座７の上面に当接する。
なお、図３他の図では、この基板５の撓み変形やシールパターン６，８及び台座７の寸法等を誇張して表しており、実際には前記基板５の撓みは非常に微少な変形であり、両基板３，５の位置決めに誤差等の不都合をもたらす、または基板を破損させるものであってはならないことはもちろんである。

そして、図３に示すように、カソード基板５の上方からカソード基板５を通して台座７にレーザ照射装置１１を以てレーザ光を照射し、台座７を熱で溶融させれば、台座７の再固化によってカソード基板５とアノード基板３が位置決めされた位置関係で固定される。もちろん、これでパネルの組立が完了したわけではなく、これから封着等の製造工程が継続して両基板３，５が最終的に固定される意味から、上記固定はあくまで製造上の便宜のための仮固定乃至仮止めである。

本例のカソード基板５はガラス製でレーザ光に対して透明であり、一方台座７を構成する第１シールガラスを鉛を含有するシールガラスとしておけば、その色は灰色もしくは黒っぽい色となり、レーザ光はカソード基板５を透過して、台座７に収束されてこれを局部的に加熱する。これにより、台座７は局部的に溶融して、アノード基板３とカソード基板５の外周部が複数箇所において溶着され、仮止めが行なわれる。この仮止めは少なくとも２ケ所行うことが好ましく、本例では矩形の両基板３，５の４隅について行っている。

しかしながら、レーザ光の照射により、カソード基板５及びアノード基板３は局部的に加熱されるため、冷却された場合に熱歪みが残留する場合が考えられる。この様な熱歪みが残留しないようにするため、図示はしないが、レーザ光が照射される部分の近傍においてアノード基板３の裏側にヒータ、ホットプレート等を配置し、加熱できるようにしてもよいし、基板全体の環境温度を適当に設定して割れ対策としても良い。このようにすれば、残留熱歪みの発生を極力防止することができるが、さらに、残留熱歪みを防止する他の手段として、仮止め時のレーザ光のパルス波形を、その波高が最初は高く、漸次減少するようなパルス波形としてもよい。このようにすれば、レーザ光の照射部分が徐々に冷却されるようになるため、熱歪みの残留をより減少させることができる。

本例で使用可能なレーザ照射装置としては、炭酸ガス（ＣＯ₂ ）などのガスを用いたガスレーザ照射装置やＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザなどの固体レーザ照射装置やその他のレーザ照射装置があるが、ガラスは透過するがシールガラスは透過しない波長のレーザ光を出力する適宜のレーザ照射装置であればいずれのレーザ照射装置でも採用することが可能である。特に、ＹＡＧレーザ照射装置のレーザ光はその波長が約１．０６μｍであり、透明な物体たとえば透明ガラスなどは透過することができるので、アノード基板３あるいはカソード基板５を介してシールガラスを加熱する際に、レーザ光は透明なアノード基板３あるいはカソード基板５に吸収されず、アノード基板３あるいはカソード基板５は発熱しない。その結果、シールガラスからなる台座７だけを効率良く加熱することができるので、ＹＡＧレーザ照射装置が本発明においては最適である。

(6) 第５工程
以上のようにして仮固定されたアノード基板３及びカソード基板５を、封着炉内に収納して加熱する。この加熱により、第２シールパターン８の全体が溶融し、アノード基板３とカソード基板５が封着される。この際第１シールパターン６及び台座７は溶融しない。上記封着工程において、封着炉内は高真空状態に排気されるので、加熱によって第２シールパターン８等から放出されるガスはその他のガスとともに炉外に排出され、これによって図４に示すような内部が高真空状態となるように密封された真空ディスプレイパネル１が組み立てられる。なお、図１に示すようにカソード基板に排気穴５ａを設けておき、上記加熱封着工程の後に、別工程で当該排気穴５ａよりパネル内を排気し、図示しない蓋部材で封止してもよい。

(7) 第６工程
前記第５工程の後に、台座７を介して固定されたアノード基板３とカソード基板５の台座７による固定部分を、図４中に一点鎖線にて示した切断線において切断し、除去する。これによって、図５に示すように、アノード基板３とカソード基板５が正確に位置決めされた真空ディスプレイパネル１が最終製品として得られる。

以上の説明においては、真空ディスプレイパネル１はガラス製の基板で構成されるものとしたが、パネルを構成する少なくとも一方の基板のみがガラス製であればよく、他方の基板はガラスに替えて金属または半導体で形成するようにしてもよい。

また、前記の説明においてレーザ光はカソード基板５を介して第１シールガラスの台座７に照射されている。しかしながら、ＣＯ₂ レーザ照射装置におけるレーザ光の場合には、その波長が約１０．６μｍであり、ガラス製の基板をレーザ光は透過しがたくなり、レーザ光が照射された部分が発熱するようになる。このため、効率的にシールガラスを発熱させることが困難となることから、ＣＯ₂ レーザ照射装置を用いる場合は、パネルの側面側から直接台座７にレーザ光を照射して溶融させ、仮止めすればよい。

また、基板の仮止め用の台座７は基板の４隅４ケ所としたが、これに限らず、カソード基板５とアノード基板３が位置ずれしない様に、少なくとも２ヵ所以上、特に対角線上に２ヵ所以上あればよく、その数は適宜変更可能である。また、台座７を構成するシールガラスに混入されるものは鉛に限らず、レーザ光により発熱する金属粒子であればどのようなものでも良い。

また、前記の説明においては両基板３，５を仮固定するために台座７を加熱する局部加熱手段としてレーザによる加熱手段を用いているが、本発明はこれに限らず、局部的に加熱することのできる抵抗コイルヒータ、高周波加熱ヒータ、ハンダごて等の加熱手段のいずれの加熱手段でも用いることができる。

また、図６（ｃ）に示すように、本例の台座７の形状は頂面が平坦な円錐台形であり、広い面積の頂面で基板に確実に接触することができたが、図６にさらに例示するような多様な形状が採用可能である。図６（ａ）に示す台座７ａは、頂部がドーム状とされており、この形状であっても基板との接触が確実である。図６（ｂ）に示す台座７ｂは、中央に空洞を有するドーナツ状であり、基板と接触する環状の稜線でレーザにより固定するものであり、図６（ａ）に示すドーム状よりも固定面積が広く仮固定が安定し、図６（ｃ）に示す頂面が平坦な円錐台形に比べて基板との接触面積は小さいが基板の状態に係わらず確実な接触が得られる。

なお、本例では仮止め後封着炉内に搬入して封着するようにしたが、これに限らず仮止め後に第２シールパターン８を全周に渡りレーザにより溶融して封着するようにしてもよい。

さらに、本例の製造方法は、ＦＥＤを利用した表示素子だけでなく、ＶＦＤや大画面用発光セル、さらに内部に特定雰囲気を充填したプラズマディスプレイなどの表示装置の容器の製造にも適用可能である。さらに、基板の一方をガラス製とし他方の基板を半導体製の基板とすると、内部から光を放出できるもの、および外部から光を受光できるものの容器とすることができ、例えば半導体レーザやＣＣＤ等の容器の製造にも適用可能である。

このように、本例によれば、両基板３，５の位置関係に大きなずれを生じずに封着を行うことができる。また、基板が撓み、溶融したシールパターンが押しつぶされる方向に荷重されて封着されるので、得られた真空ディスプレイパネル１のシール部分における気密性が高い。また、仮固定には特に固定し続けるためのクリップのような別部品や治具等は不要なので、部品点数を増加させることなく製造できる。

２．第２実施形態
図７に示す本例の真空ディスプレイパネル１の製造方法は、第１の例のように１個ずつ製造するのではなく、大型の基板用ガラス板を用いて同時に多数個の真空ディスプレイパネル１を製造するいわゆる多数個取りの製造方法である。

図７に示すように、最終的には切り分けられてアノード基板３となる大型のアノード用ガラス板３０の内面（図では上面）に、適当な配置で各真空ディスプレイパネル１の表示部２とこれを囲む第１及び第２シールパターン６，８を形成する。台座７は、必ずしも各真空ディスプレイパネル１ごとに設ける必要はなく、本例では大型のアノード用ガラス板３０の４隅と中央の合計５箇所に設けた。

図７に示すように、最終的には切り分けられてカソード基板５となる大型のカソード用ガラス板５０の内面（図では下面）に、大型のアノード用ガラス板３０の各表示部２に対応した配置で各真空ディスプレイパネル１の電界放出素子４を形成する。各電界放出素子４ごとに、前記シールパターンの内側になるような配置でカソード用ガラス板５０に排気孔５１を設け、封着工程で各真空ディスプレイパネル１の内部が排気されるようになっている。

工程は第１の例と同様であり、第１例における第５工程が終了すれば、図示の例では８個の真空ディスプレイパネル１が作り込まれた一対の封着された大型のカソード用ガラス板５０及びアノード用ガラス板３０が得られる。あとは、第６工程として、８個の各真空ディスプレイパネル１を適当な位置において切断し、個々別体の８個の各真空ディスプレイパネル１とすればよい。

このように、大型のカソード用ガラス板５０及びアノード用ガラス板３０の間に複数の真空ディスプレイパネル１を作り込み、後で切断して個々の製品に分ける本例の方法によれば、基板の位置ずれのない気密性に優れた第１例のような真空ディスプレイパネル１を一度に多数生産することができるので、生産性が向上する。

３．各実施形態における位置ずれ改善の効果
以上説明した本発明の各実施形態によって得られる位置ずれ改善の効果について説明する。
図８は、本発明の実施形態の第３工程において、アノード基板３とカソード基板５の位置決めを行う際の状態を示す平面図であり、この例ではアノード基板３よりもカソード基板５の方が大きく、アノード基板３はカソード基板５の１隅に寄せて位置決めされる。そして、アノード基板３及びカソード基板５の一対の対角位置には、それぞれ位置合せマーク６０が設けてあり、両基板３，５の対応する位置決めマーク６０同士が一致するように顕微鏡等で観察しながら一方の基板に対して他方の基板を移動させ、位置決めを行う。

ここで、両基板３，５の位置合せ完了後（封着前）の位置合せマーク６０の相対的位置、例えばカソード基板５の位置合せマーク６０を基準としたアノード基板３の位置合せマーク６０のＸ方向（基板の長辺方向）及びＹ方向（基板の短辺方向）の距離を、測長顕微鏡で測定する。同様に、封着後の位置合せマーク６０の相対的位置を測定する。

Ｘ方向及びＹ方向について、封着前の測定値と封着後の測定値の差をずれ量としてそれぞれ計算する。本発明の実施形態について前記ずれ量を計算して図示したのが図９であり、台座７による仮固定のない従来技術について前記ずれ量を計算して図示したのが図１０である。図１０に示す従来技術においては、ずれ量の絶対値の最大がＸ方向で６８．８μｍ、Ｙ方向で７８．９μｍ、標準偏差はＸ方向で２６．６μｍ、Ｙ方向で２６．０μｍである。これに対し、図９に示す本例においては、ずれ量の絶対値の最大がＸ方向で１３．２５μｍ、Ｙ方向で１０．５μｍ、標準偏差はＸ方向で８．６μｍ、Ｙ方向で４．５μｍである。

このように、ずれ量の最大値で比較すると、本願発明のずれ量は従来技術の約１／５にまで低減しており、標準偏差で比較しても本願発明は従来技術に対してＸ方向で約１／３、Ｙ方向で約１／５に低減している。従って、絶対的なずれ量及び各サンプルのばらつき共に本願発明はずれ解消の明確な効果が認められる。

本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの組立前の状態を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの製造における第３工程を主として示す断面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの製造における第４工程を示す断面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの製造における第４工程乃至第５工程を示す断面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの製造における第６工程及び完成した真空ディスプレイパネルの構造を示す断面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの台座の構造例（ａ）（ｂ）（ｃ）を示す平面図、正面図、断面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの他の製造工程例における組立前の状態を示す斜視図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの製造工程例における基板の位置決めの様子を示す平面図である。 本発明の実施形態に係る真空ディスプレイパネルの基板ずれ量を示すグラフである。 従来技術に係る真空ディスプレイパネルの基板ずれ量を示すグラフである。

符号の説明

１…真空ディスプレイパネル
２…表示部
３…第１基板としてのアノード基板
４…電界放出素子
５…第２基板としてのカソード基板
５ａ…排気穴
６…第１シールパターン
７，７ａ，７ｂ…台座
８…第２シールパターン
１１…レーザ照射装置

Claims (5)

1. 所定間隔をおいて対面するように配置された第１基板と第２基板の間をシール材料で封着して内部を高真空状態とした真空ディスプレイパネルの製造方法において、
   前記第１基板の内面に、軟化点が相対的に高い第１シール材料で第１シールパターンと台座を形成する第１工程と、
   軟化点が相対的に低い第２シール材料で前記第１シールパターンの上に第２シールパターンを形成する第２工程と、
   前記第１基板に設けられた前記第２シールパターンの上に前記第２基板を載せて前記第１基板と前記第２基板を位置決めする第３工程と、
   前記第２基板を前記第１基板上の前記台座に当接させた状態で前記台座を溶融させることにより前記台座を介して前記第２基板と前記第１基板を固定する第４工程と、
   前記第２シールパターンを溶融させることにより前記第２基板と前記第１基板を封着し、内部を排気する第５工程と、
   を有することを特徴とする真空ディスプレイパネルの製造方法。
2. 前記第３工程において、前記第２基板と前記台座との間には前記第２シールパターンの高さに相当する寸法の隙間が生じ、
   前記第４工程において、前記台座を溶融させる前に、前記第２シールパターンに対応する前記第２基板の上面の位置を前記第１基板に向けて押圧するとともに、前記台座に相対する前記第２基板の部分を前記台座に向けて押圧することにより前記部分を撓ませて前記台座に当接させることを特徴とする請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法。
3. 前記第４工程において、前記台座の溶融をレーザ光を用いて行うことを特徴とする請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法。
4. 前記第５工程の後に、前記台座を介して固定された前記第２基板と前記第１基板の一部を切断して除去することを特徴とする請求項１記載の真空ディスプレイパネルの製造方法。
5. アノード電極の上に蛍光体層が設けられた表示部を内面に有するアノード基板と、電子放出素子を内面に有するカソード基板とを、所定間隔をおいて対面するように配置して両基板の間をシール材料で封着し、内部を高真空状態とした真空ディスプレイパネルの製造方法において、
   前記アノード基板の内面に、軟化点が相対的に高い第１シール材料で、前記表示部を囲む第１シールパターン及び前記第１シールパターンの外側に位置する台座を、実質的に同一の高さで形成する第１工程と、
   軟化点が相対的に低い第２シール材料で前記第１シールパターンの上に第２シールパターンを形成する第２工程と、
   前記表示部と前記電子放出素子が対面するように前記アノード基板に設けられた前記第２シールパターンの上に前記カソード基板を載せ、前記表示部と前記電子放出素子とが所定の位置関係となるように前記アノード基板と前記カソード基板を位置決めする第３工程と、
   前記第２シールパターンに対応する前記カソード基板の上面の位置を前記アノード基板に向けて押圧するとともに、前記台座に相対する前記カソード基板の部分を前記台座に向けて押圧することにより前記部分を撓ませて前記台座に当接させた状態で、前記台座を溶融させることにより前記台座を介して前記カソード基板と前記アノード基板を固定する第４工程と、
   前記第２シールパターンを溶融させることにより前記カソード基板と前記アノード基板を封着し、内部を排気する第５工程と、
   を有することを特徴とする真空ディスプレイパネルの製造方法。

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