JP2008166287A - ガラス基板の密封システム及び密封方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前記ガラス基板の間に配置された複数のディスプレイパッケージに沿って配置されたシーリング材を加熱溶融して気密密封部を形成するためのレーザー加工組立体と、前記レーザー加工組立体の下方に配置された作業テーブルに前記ガラス基板を供給するための移送組立体と、前記作業テーブルに前記移送組立体を通じて連続的にガラス基板が供給されるように前記ガラス基板を保有するバッファー組立体とを含み、前記作業テーブルは、前記移送組立体が前記ガラス基板を配置する際に前記ガラス基板を1次整列する仮位置整列手段と、前記ガラス基板と2次整列するための精密整列手段と、前記レーザー加工組立体から照射されるビーム照射方向に対向する方向に空気を噴射する複数の噴射口とを含む。
【選択図】図2
Description
12 反射部材
13 第1結合レンズ
14 マルチ出力ヘッド部
15 フレキシブルチャンネル
20 ガイド突起部
30 制御基台
40 作業テーブル
41 マスクホルダー
43 O−リング
45 中空部
45a 噴射口
60 制御器
100 密封システム
101、102 ガラス基板
103 ディスプレイパッケージ
105 マスク組立体
106 シーリング材
110 レーザー加工組立体
120 移送組立体
130 クリーンルーム組立体
140 バッファー組立体
Claims (8)
- 複数のディスプレイパッケージを有するガラス基板の密封システムにおいて、
前記ガラス基板の間に配置された複数のディスプレイパッケージに沿って配置されたシーリング材を加熱溶融して気密密封部を形成するためのレーザー加工組立体と、
前記レーザー加工組立体の下方に配置された作業テーブルに前記ガラス基板を供給するための移送組立体と、
前記作業テーブルに、前記移送組立体を通じて連続的にガラス基板が供給されるように、前記ガラス基板を保有するバッファー組立体を含み、
前記作業テーブルは、前記移送組立体が前記ガラス基板を配置する際に前記ガラス基板を1次整列する仮位置整列手段と、前記ガラス基板と2次整列するための精密整列手段と、前記レーザー加工組立体から照射されるビーム照射方向に対向する方向に空気を噴射する複数の噴射口とを含む、ガラス基板の密封システム。 - 前記作業テーブルは、その上面の周縁に沿ってO−リングが配置される、請求項1に記載のガラス基板の密封システム。
- 前記噴射口は、前記ガラス基板を前記作業テーブル上に精密整列時、前記ガラス基板上の複数のディスプレイパッケージに沿って配置されたシーリング材に対応して配置される、請求項1に記載のガラス基板の密封システム。
- 前記噴射口は、マトリックスパターンに配置される、請求項1に記載のガラス基板の密封システム。
- 前記整列手段は、前記作業テーブルの周縁に突出配置された複数のガイド突起部である、請求項1に記載のガラス基板の密封システム。
- 前記精密整列手段は、前記作業テーブルの下方に配置されたx、y、及びθ軸に精密整列可能な制御基台である、請求項1に記載のガラス基板の密封システム。
- 一対のガラス基板の間に配置された複数のディスプレイパッケージに沿って配置された各々のシーリング材に沿って、レーザー加工組立体を利用してレーザービームを照射することによって気密密封部を形成するガラス基板の密封方法において、
前記レーザー加工組立体の下方に配置された作業テーブルに、移送組立体によって前記ガラス基板が配置される際に1次整列され、
前記ガラス基板がマスク組立体と2次整列される際に、前記レーザー加工組立体からビームが照射され、
前記照射されるビームに対向して、前記作業テーブルの噴射口から上方へ空気が噴射されるガラス基板の密封方法。 - 前記噴射口は、複数のディスプレイパッケージに沿って配置された各々のシーリング材に沿って網パターンに形成され、前記網パターンの噴射口の空気圧は、同時に所定の圧力に上昇する段階と、所定の圧力まで上昇した空気圧を下降させながら微細調整する、請求項7に記載のガラス基板の密封方法。
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