JP2006317305A - X線撮像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】結晶の同時反射による被写体の反射像から演算により被写体によって生じた位相シフトの空間微分、及び位相シフトを得、これを用いて被写体の位相コントラスト像を形成する。
【選択図】図10
Description
図10は本発明によるX線撮像装置の構成の一例を示す図である。同図に示すように本装置は、X線源1、被写体ホルダー2、被写体ホルダー保持位置決め機構3、アナライザー結晶4、アナライザー結晶角度調整機構5、画像検出器6及び7、処理部8から主に構成される。
(1)対象とする被写体10の大きさ(厚さ)を測定する。
(2)上記被写体の厚さに対する最適なX線のエネルギー(波長)を算出する。
(3)上記エネルギーに対して、θsが45度に近く、θiが大きく(10度以上)、できる限り低次の格子面を選択する。
の手順で行う。被写体10が厚いほど、透過率を上げるために高エネルギーのX線が必要となるが、式(1)で示したように被写体による屈折角θはλに比例、即ちエネルギーに反比例しているので、高いエネルギーほど屈折角θは小さくなり位相シフトの検出感度が低減してしまう。
本発明の撮像法の特徴である、軽元素に対して特に感度が高く、軽元素から主に構成された生体軟部組織の観察に適しているという点を生かした診断装置の一例として、マモグラフィー装置(乳ガン診断装置)を構成した実施例2を図18に示す。図18(a)は上面から、図18(b)は側面から見た図を模式的に示す図である。診断装置には、X線照射による被爆をできる限り抑える手段、被写体を一度に取得できる広い観察視野、何回測定を行っても同じ像が得られる高い安定性(再現性)が要求される。そこで、実施例2では実施例1の基本的な構成に加えて、X線源1を被験者から分離するX線防護壁23や被写体のみをX線で照射するためのX線防護カバー24を設け、被験者の被写体のX線照射領域以外へのX線照射を防ぐ。X線防護壁23およびX線防護カバー24には、X線の通路となる部分にのみ小さい開口が設けられる。X線ビームを整形・拡大する拡大用非対称結晶プレート25、アナライザー結晶4の角度を1/100秒以下の精度で位置決めしておくための角度フィードバック機構26を新たに設けた。また、アナライザー結晶4での非対称な同時反射による不必要な像の拡大を避けるため、及び画像検出器6及び7の位置決めを容易にするために、図14(a)に示したアナライザー結晶4と結晶プレート20を一体的に構成した構造を採用し、これを結晶ホルダー16で保持するものとした。ただし、結晶のサイズを小さくするために、図15に示したラウエケースで使用してもよい。結晶ホルダー16は角度フィードバック機構26で制御されるものであるとともに、θ回転用のステージ18で制御されるが、これらの構造の具体例は後述する。61は拡大用非対称結晶プレート25の支持部であり、図示しないが、反射角度の制御装置を備える。
Claims (18)
- X線ビームを被写体に照射する手段と、上記被写体を透過した透過X線ビームをX線の同時反射により互いに非平行な複数の反射ビームに分割するアナライザー結晶と、上記複数の反射X線ビームを検出する複数のX線検出器と、上記複数のX線検出器から出力された複数の信号から演算により上記被写体によって生じた上記透過X線ビームの位相シフトの空間的な微分をコントラストとする像を得る処理部から構成されるX線撮像装置。
- 前記複数の反射X線ビームを透過X線ビームとほぼ平行なX線ビームにそれぞれ反射する後置結晶を備えている請求項1記載のX線撮像装置。
- 前記アナライザー結晶と前記後置結晶が単結晶ブロックから一体で形成された対向する面が互いに平行な2枚の結晶プレートである請求項2記載のX線撮像装置。
- 前記アナライザー結晶と前記後置結晶が単結晶ブロックから一体で形成された対向する面が互いに非平行な2枚の結晶プレートである請求項2記載のX線撮像装置。
- 前記アナライザー結晶と前記後置結晶のX線ビームが入射する面と、同時反射による反射X線ビームが出射する面が異なる請求項3または4記載のX線撮像装置。
- X線ビームを被写体に照射する手段と、上記被写体を透過した透過X線ビームをX線の同時反射により互いに非平行な複数の反射X線ビームに分割するアナライザー結晶と、上記複数の反射X線ビームを検出する複数のX線検出器と、上記複数のX線検出器から出力された複数の信号を演算する処理部から構成され、前記アナライザー結晶が透過X線ビームに対して回転する機能を備え、前記処理部は前記アナライザー結晶の各回転角度においてX線検出器で検出した複数の反射X線ビームから被写体によって生じた上記透過X線ビームの位相シフトの空間的な微分、及び位相シフトをコントラストとする像を得ることを特徴とするX線撮像装置。
- 前記被写体の像を得る演算に各反射ビームの強度が最大となる結晶の各角度位置の情報を用いる請求項6記載のX線撮像装置。
- 前記被写体を透過X線ビームに対して回転する機能を備え、前記被写体の各回転角度において取得した位相シフトをコントラストとする像から、被写体によって生じた位相シフトをコントラストとする断面像を得る請求項6または7記載のX線撮像装置。
- 前記X線ビームのエネルギーと同時反射の回折格子面の組み合わせが、7〜15keVとSi(202)、Si(220)、15〜30keVとSi(404)、Si(440)、30keV以上とSi(606)、Si(660)、の何れかである請求項1または6記載のX線撮像装置。
- X線源と、X線源から出射したビームを整形・拡大する手段と、整形・拡大されたビームの光路に被写体を設置する手段と、上記被写体のビーム照射領域以外へのX線照射を防ぐ手段と、上記被写体を透過した透過X線ビームをX線の同時反射により互いに非平行な第1X線ビーム及び第2X線ビームに分割するアナライザー結晶と、上記第1X線ビーム及び第2X線ビームを透過X線ビームとほぼ平行な第3X線ビーム及び第4X線ビームに各々反射する後置結晶と、上記第3X線ビーム及び第4X線ビームを検出するX線検出器と、上記X線検出器から出力された信号から演算により上記被写体によって生じた上記透過X線ビーム位相シフトの空間的な微分をコントラストとする像を得る処理部から構成されることを特徴とするX線撮像装置。
- 前記アナライザー結晶及び後置結晶のX線ビームが入射する面と同時反射による反射X線ビームが出射する面が異なる請求項10記載のX線撮像装置。
- 前記アナライザー結晶及び後置結晶が透過X線ビームに対して一体となって回転する回転機能を備え、各回転角度においてX線検出器で検出した第3X線ビーム及び第4X線ビームの強度から演算により被写体によって生じた上記透過X線ビームの位相シフトの空間的な微分、及び位相シフトをコントラストとする像を得る請求項10または11記載のX線撮像装置。
- 前記回転機能が回転角度のドリフトを抑えるフィードバック機構を備え、角度位置決めの再現性が1/100秒以下である請求項12記載のX線撮像装置。
- 前記被写体の像を得る演算に、第3X線ビーム及び第4X線ビームの強度が最大となる結晶の各角度位置の情報を用いる請求項12記載のX線撮像装置。
- 前記被写体を透過X線ビームに対して回転する機能を備え、前記被写体の各回転角度において取得した密度をコントラストとする像から、被写体によって生じた位相シフトをコントラストとする断面像を得る請求項12記載のX線撮像装置。
- 前記被写体を透過X線ビームに対して回転する機能を備え、前記被写体の各回転角度において取得した密度をコントラストとする像から、被写体によって生じた位相シフトをコントラストとする断面像を得る請求項13記載のX線撮像装置。
- 前記被写体を透過X線ビームに対して回転する機能を備え、前記被写体の各回転角度において取得した密度をコントラストとする像から、被写体によって生じた位相シフトをコントラストとする断面像を得る請求項14記載のX線撮像装置。
- 前記X線ビームのエネルギーと同時反射の回折格子面の組み合わせが、7〜15keVとSi(202)、Si(220)、15〜30keVとSi(404)、Si(440)、30keV以上とSi(606)、Si(660)、の何れかである請求項10記載のX線撮像装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009008449A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Hitachi Ltd | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
US7499520B2 (en) | 2006-07-20 | 2009-03-03 | Hitachi, Ltd. | X-ray imaging apparatus and method with an X-ray interferometer |
WO2011052419A1 (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-05 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
JP2019174245A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 国立大学法人 東京大学 | X線撮影方法およびx線撮影装置 |
JP2020003415A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 株式会社リガク | X線分析装置及びその光軸調整方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008064633B4 (de) * | 2008-02-06 | 2017-05-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und Verfahren zum Erfassen eines Bildes |
US8477904B2 (en) * | 2010-02-16 | 2013-07-02 | Panalytical B.V. | X-ray diffraction and computed tomography |
US9861330B2 (en) * | 2010-10-19 | 2018-01-09 | Koninklijke Philips N.V. | Differential phase-contrast imaging |
JP2014006247A (ja) * | 2012-05-28 | 2014-01-16 | Canon Inc | 被検体情報取得装置、被検体情報取得方法及びプログラム |
CN104833684A (zh) * | 2015-05-15 | 2015-08-12 | 聂志虎 | 多功能混凝土结构透视仪 |
WO2017199959A1 (ja) * | 2016-05-16 | 2017-11-23 | 新東工業株式会社 | 表面処理加工方法及び表面処理加工装置 |
KR101879169B1 (ko) * | 2016-11-22 | 2018-07-17 | 오주영 | 카메라 영상을 이용한 방사선 촬영 가이드 시스템 및 방법 |
CN111982278B (zh) * | 2020-08-04 | 2021-07-13 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种利用同步辐射偏振性探测束流位置的探测器及方法 |
CN114088749B (zh) * | 2020-08-05 | 2024-04-19 | 中国石油化工股份有限公司 | 快速识别页岩中碎屑石英与生物成因石英的方法及装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09187455A (ja) * | 1996-01-10 | 1997-07-22 | Hitachi Ltd | 位相型x線ct装置 |
JP2000356603A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-12-26 | Nec Corp | X線位相差撮影装置 |
JP2001033406A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-02-09 | Nec Corp | X線位相差撮像方法及びx線位相差撮像装置 |
JP2002082072A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-22 | Hitachi Ltd | X線撮像装置 |
JP2003010162A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-14 | Nagata Seiki Co Ltd | 位相コントラストx線撮像装置 |
JP2003329617A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-11-19 | Masami Ando | 非破壊分析方法および非破壊分析装置、ならびに当該方法・装置による特定物体 |
JP2005265840A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-29 | Seiichi Hayashi | 分析装置 |
JP2005529697A (ja) * | 2002-06-17 | 2005-10-06 | モナッシュ ユニヴァーシティ | 試料分析方法及び装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3446961A (en) * | 1966-02-01 | 1969-05-27 | Research Corp | X-ray interferometer using three spaced parallel crystals |
US5173928A (en) * | 1990-07-09 | 1992-12-22 | Hitachi, Ltd. | Tomograph using phase information of a signal beam having transmitted through a to-be-inspected object |
JP3114247B2 (ja) | 1990-07-09 | 2000-12-04 | 株式会社日立製作所 | 位相型トモグラフィ装置 |
US5259013A (en) * | 1991-12-17 | 1993-11-02 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Hard x-ray magnification apparatus and method with submicrometer spatial resolution of images in more than one dimension |
WO1995005725A1 (en) | 1993-08-16 | 1995-02-23 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Improved x-ray optics, especially for phase contrast imaging |
DE69730550T2 (de) * | 1996-03-29 | 2005-11-10 | Hitachi, Ltd. | Phasenkontrast-Röntgenabbildungssystem |
JP3548664B2 (ja) | 1996-03-29 | 2004-07-28 | 株式会社日立製作所 | 位相コントラストx線撮像装置 |
US5864599A (en) * | 1996-04-26 | 1999-01-26 | Cowan Paul Lloyd | X-ray moire microscope |
US5812629A (en) * | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
US6577708B2 (en) * | 2000-04-17 | 2003-06-10 | Leroy Dean Chapman | Diffraction enhanced x-ray imaging of articular cartilage |
US6870896B2 (en) * | 2000-12-28 | 2005-03-22 | Osmic, Inc. | Dark-field phase contrast imaging |
JP4445397B2 (ja) * | 2002-12-26 | 2010-04-07 | 敦 百生 | X線撮像装置および撮像方法 |
CN1282892C (zh) * | 2003-10-20 | 2006-11-01 | 南京大学 | 基于光学干涉和色散原理的偏振分波的方法和装置 |
JP4704675B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2011-06-15 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及び撮像方法 |
US7076025B2 (en) * | 2004-05-19 | 2006-07-11 | Illinois Institute Of Technology | Method for detecting a mass density image of an object |
-
2005
- 2005-05-13 JP JP2005140746A patent/JP4676244B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-01-27 CN CN2006100022735A patent/CN1860997B/zh not_active Expired - Fee Related
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- 2006-01-27 EP EP06001756A patent/EP1722216A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09187455A (ja) * | 1996-01-10 | 1997-07-22 | Hitachi Ltd | 位相型x線ct装置 |
JP2000356603A (ja) * | 1999-06-14 | 2000-12-26 | Nec Corp | X線位相差撮影装置 |
JP2001033406A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-02-09 | Nec Corp | X線位相差撮像方法及びx線位相差撮像装置 |
JP2002082072A (ja) * | 2000-09-05 | 2002-03-22 | Hitachi Ltd | X線撮像装置 |
JP2003010162A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-14 | Nagata Seiki Co Ltd | 位相コントラストx線撮像装置 |
JP2003329617A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-11-19 | Masami Ando | 非破壊分析方法および非破壊分析装置、ならびに当該方法・装置による特定物体 |
JP2005529697A (ja) * | 2002-06-17 | 2005-10-06 | モナッシュ ユニヴァーシティ | 試料分析方法及び装置 |
JP2005265840A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-29 | Seiichi Hayashi | 分析装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7499520B2 (en) | 2006-07-20 | 2009-03-03 | Hitachi, Ltd. | X-ray imaging apparatus and method with an X-ray interferometer |
JP2009008449A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Hitachi Ltd | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
WO2011052419A1 (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-05 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
JP5256352B2 (ja) * | 2009-10-29 | 2013-08-07 | 株式会社日立製作所 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
JP2019174245A (ja) * | 2018-03-28 | 2019-10-10 | 国立大学法人 東京大学 | X線撮影方法およびx線撮影装置 |
JP7078815B2 (ja) | 2018-03-28 | 2022-06-01 | 秀和 三村 | X線撮影方法およびx線撮影装置 |
JP2020003415A (ja) * | 2018-06-29 | 2020-01-09 | 株式会社リガク | X線分析装置及びその光軸調整方法 |
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