JP2006313279A - マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法であって、表面に前記マイクロレンズの形状に対応した形状の複数個の凹部を有する凹部付き基板と、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点よりも低いガラス転移点のガラス材料で構成された基材とを、加熱した状態で圧接する圧接工程を有し、前記圧接工程において、前記凹部内に前記ガラス材料を充填しつつ、前記凹部付き基板と前記基材とを接合することを特徴とする。前記凹部付き基板の屈折率と、前記ガラス材料の屈折率との差の絶対値が、0.01以上である。
【選択図】なし
Description
このような投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネル(液晶光シャッター)が用いられている。
この液晶パネルは、例えば、各画素を制御する薄膜トランジスタ(TFT)と画素電極とを有する液晶駆動基板(TFT基板)と、ブラックマトリックスや共通電極等を有する液晶パネル用対向基板とが、液晶層を介して接合された構成となっている。
このような構成の液晶パネル(TFT液晶パネル)では、液晶パネル用対向基板の画素となる部分以外のところにブラックマトリックスが形成されているため、液晶パネルを透過する光の領域は制限される。このため、光の透過率が下がる。
このようなマイクロレンズを形成する方法として、例えば、複数のマイクロレンズ形成用凹部を有する凹部付き基板に、未硬化の光硬化性樹脂を供給し、平滑な透明基板(カバーガラス)を接合し、押圧・密着させ、その後、樹脂を硬化させる方法、いわゆる2P法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法であって、
表面に前記マイクロレンズの形状に対応した形状の複数個の凹部を有する凹部付き基板と、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点よりも低いガラス転移点のガラス材料で構成された基材とを、加熱した状態で圧接する圧接工程を有し、
前記圧接工程において、前記凹部内に前記ガラス材料を充填しつつ、前記凹部付き基板と前記基材とを接合することを特徴とする。
これにより、光学特性および耐久性に優れたマイクロレンズ基板を容易に製造することができる。
これにより、マイクロレンズの光学特性をより好適なものとすることができる。
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記加熱は、前記ガラス材料のガラス転移点以上、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点以下の温度で行うことが好ましい。
これにより、凹部内に基材を構成するガラス材料を充填する際に、凹部に損傷を与えるのを十分に防止しつつ、凹部内により確実にガラス材料を充填することができる。
これにより、凹部内に基材を構成するガラス材料を充填する際に、凹部に損傷を与えるのを防止しつつ、凹部内にガラス材料をより確実に充填することができる。
これにより、凹部内にガラス材料を充填する際に、凹部付き基板の凹部に損傷を与えるのを防止しつつ、凹部内に充填されるガラス材料に気泡が入るのを防止し、凹部内により確実にガラス材料を充填することができる。
これにより、凹部付き基板の凹部に損傷を与えるのを防止しつつ、凹部内により確実にガラス材料を充填することができる。
これにより、耐久性に優れたマイクロレンズ基板を提供することができる。
本発明の液晶パネル用対向基板は、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、耐久性に優れた液晶パネル用対向基板を提供することができる。
これにより、耐久性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の液晶パネルは、画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された本発明の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする。
これにより、耐久性に優れた液晶パネルを提供することができる。
これにより、耐久性に優れた液晶パネルを提供することができる。
本発明の投射型表示装置は、本発明の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも1個用いて画像を投射することを特徴とする。
これにより、耐久性に優れた投射型表示装置を提供することができる。
図1は、本発明の液晶パネル用対向基板を示す模式的な縦断面図、図2は、本発明のマイクロレンズ基板を構成する凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図、図3は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
まず、本発明の液晶パネル用対向基板について説明する。
マイクロレンズ基板10は、図1に示すように、凹部付き基板101と、主としてガラス材料で構成されたレンズ層102とで構成されている。
凹部付き基板101を構成するガラスの屈折率と、レンズ層102を構成するガラス材料との屈折率との差の絶対値は、0.01以上であるのが好ましく、0.10以上であるのがより好ましい。これにより、マイクロレンズ8の光学特性をより好適なものとすることができる。なお、凹部付き基板101およびレンズ層102の構成材料については、後に詳述する。
この液晶パネル用対向基板1では、1個のマイクロレンズ8と、ブラックマトリックス11の1個の開口111とが、1画素に対応している。
なお、凹部付き基板101は、例えば反射防止層等の他の構成要素を有していてもよい。
[凹部付き基板の製造]
まず、本発明のマイクロレンズ基板を構成する凹部付き基板の製造方法の一例を、添付図面を参照しながら説明する。
このガラス基板5は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、ガラス基板5は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
ガラス基板5の材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、石英ガラスを用いるのが好ましい。石英ガラスは、機械的強度、耐熱性が高く、また、線膨張係数が非常に低く、熱による形状の変化が少ないことから、後述するようなマイクロレンズ基板の製造方法に好適に用いることができる。また、短波長領域の透過率も高く光エネルギーによる劣化もほとんどないという利点もある。
ガラス基板5を構成する材料のガラス転移点は、具体的には、800℃以上であるのが好ましく、900〜1060℃であるのがより好ましい。ガラス基板5を構成する材料のガラス転移点が前記下限値未満であると、後述するレンズ層102を構成する材料の種類等によっては、最終的に得られるマイクロレンズ基板の耐久性が十分に得られない場合がある。
図2(a)に示すように、用意したガラス基板5の表面に、マスク形成用膜6’を形成する(マスク形成工程)。このマスク形成用膜6’は、後の工程において開口部(初期孔)が形成されることにより、マスクとして機能するものである。
マスク形成用膜6’は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔61を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜6’は、エッチングレートが、ガラス基板5と略等しいか、または、ガラス基板5に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
次に、図2(b)に示すように、マスク形成用膜6’に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔61を形成する(初期孔形成工程)。これにより、所定の開口パターンを有するマスク6が得られる。
初期孔61は、いかなる方法で形成されるものであってもよいが、物理的方法またはレーザ光の照射により形成されるのが好ましい。これにより、例えば、マイクロレンズ基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。
形成された初期孔61は、マスク6の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。
次に、図2(c)に示すように、初期孔61が形成されたマスク6を用いてガラス基板5にエッチングを施し、ガラス基板5上に多数の凹部3を形成する(エッチング工程)。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
このようにウェットエッチング法を用いると、凹部3を好適に形成することができる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸(フッ化水素)を含むエッチング液(フッ酸系エッチング液)を用いると、ガラス基板5をより選択的に食刻することができ、凹部3を好適に形成することができる。
次に、図2(e)に示すように、マスク6を除去する(マスク除去工程)。
マスク6の除去は、例えば、エッチング等によって除去することができる。
以上により、図2(d)に示すように、多数の凹部3を有する凹部付き基板101が得られる。
以上のようにして得られる凹部付き基板101の凹部3の平面視したときの平均径は、5〜100μmであるのが好ましく、10〜50μmであるのがより好ましい。これにより、例えば、このような凹部付き基板101を用いて製造される液晶パネルは、スクリーンに投影される画像において優れた解像度を有するものとなる。
また、凹部3の中心付近での深さは、5〜100μmであるのが好ましく、10〜50μmであるのがより好ましい。これにより、このような凹部3を用いて形成されるマイクロレンズ8の光学特性を特に優れたものとすることができる。
本工程では、前述したような凹部付き基板101と、凹部付き基板101を構成するガラス材料のガラス転移点よりも低いガラス転移点のガラス材料で構成されたガラス基板(基材)102’とを、加熱した状態で圧接する(圧接工程)。圧接することにより、凹部付き基板101の凹部3内部に、軟化したガラス基板102’を構成するガラス材料が充填され、それとともに、凹部付き基板101とガラス基板102’(レンズ層102)とが接合される。
まず、ガラス基板(基材)102’を用意する。
このガラス基板102’は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、ガラス基板102’は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
このガラス基板102’は、前述したように、凹部付き基板101を構成する材料のガラス転移点よりも低いガラス転移点のガラス材料で構成されている。
例えば、凹部付き基板101が石英ガラスで構成される場合、ガラス基板102’としては、低融点ガラスを用いるのが好ましい。これにより、加熱温度をより低温に出来るため省エネルギーという効果が得られる。また、環境的にも鉛ガラスもしくは鉛およびヒ素を少しでも含有しているものは出来る限り使用しないことが望ましい。
次に、図3(a)に示すように、上記のようにして得られた凹部付き基板101の上側に、ガラス基板(基材)102’を設置する。
<2>
次に、凹部付き基板101と、ガラス基板102’とを加熱する。これにより、ガラス基板102’の表面が軟化し、変形しやすい状態となる。
また、このように凹部付き基板101およびガラス基板102’の双方を加熱することにより、凹部3に損傷を与えるのを十分に防止しつつ、凹部3内により容易にガラス材料を充填することができる。
なお、加熱は、ガラス基板102’の凹部付き基板101とは反対側の表面を冷却しつつ行ってもよい。これにより、ガラス基板102’の凹部付き基板101とは反対側の表面の平滑性を保持しつつ、凹部付き基板101の凹部3内にガラス材料を充填することができる。
次に、図3(b)に示すように、加熱した凹部付き基板101と、ガラス基板102’とを接触させる。
<4>
次に、凹部付き基板101と、ガラス基板102’とを、前述したように加熱した状態で圧接し、凹部3内に軟化したガラス材料が充填される。その後、冷却することにより、ガラス基板102’がレンズ層102を形成する。これにより、図3(c)に示すように、凹部付き基板101と、レンズ層102とが接合されたマイクロレンズ基板10(本発明のマイクロレンズ基板)が得られる。
上述したような圧接工程は、減圧雰囲気下で行うのが好ましい。これにより、凹部3内にガラス材料を充填する際に、凹部3内に充填されるガラス材料に気泡が入るのを防止することができる。
また、圧接工程において、圧接工程後のガラス基板102’の凹部付き基板101との接合面における図3(c)に示す平坦部103から接合面とは反対側の面までの厚さ、すなわち、形成されるレンズ層102のマイクロレンズ8が形成されていない部分の厚さを適宜調整することにより、形成されるマイクロレンズ8に入射した光の光路長を最適なものとすることができる。
なお、圧接工程の後に、レンズ層102の表面を、最適な光路長を出すために研磨する研磨工程があってもよい。
<1>
図4(d)に示すように、上記のようにして得られたマイクロレンズ基板10のレンズ層102上に、開口111が形成されたブラックマトリックス11を形成する。
このとき、ブラックマトリックス11は、マイクロレンズ8の位置に対応するように、具体的には、マイクロレンズ8の光軸Qがブラックマトリックス11の開口111を通るように形成する(図1参照)。
ブラックマトリックス11の厚さは、液晶パネル用対向基板1の平坦性に対する影響を抑制する観点等からは、0.03〜1.0μm程度が好ましく、0.05〜0.3μm程度がより好ましい。
なお、開口111が形成されたブラックマトリックス11は、塩素系ガス等を用いたドライエッチングによっても好適に形成することができる。
次に、レンズ層102上に、ブラックマトリックス11を覆うように透明導電膜(共通電極)12を形成する。
これにより、液晶パネル用対向基板1、または、液晶パネル用対向基板1を複数個取りできるウエハーを得ることができる。
透明導電膜12の厚さは、0.03〜1μm程度が好ましく、0.05〜0.30μm程度がより好ましい。
この透明導電膜12は、例えば、スパッタリングにより形成することができる。
最後に、必要に応じて、ダイシング装置等を用いて液晶パネル用対向基板1のウエハーを所定の形状、大きさにカットする。
これにより、図1に示すような液晶パネル用対向基板1を得ることができる。
なお、上記工程<2>で液晶パネル用対向基板1が得られた場合等、カットを行う必要がない場合には、本工程は行わなくてもよい。
なお、液晶パネル用対向基板を製造する場合には、例えば、ブラックマトリックス11を形成せずに、レンズ層102上に直接透明導電膜12を形成してもよい。
図5に示すように、本発明の液晶パネル(TFT液晶パネル)16は、TFT基板(液晶駆動基板)17と、TFT基板17に接合された液晶パネル用対向基板1と、TFT基板17と液晶パネル用対向基板1との空隙に封入された液晶よりなる液晶層18とを有している。
この液晶パネル16では、液晶パネル用対向基板1の透明導電膜(共通電極)12と、TFT基板17の画素電極172とが対向するように、TFT基板17と液晶パネル用対向基板1とが、一定距離離間して接合されている。
画素電極172は、透明導電膜(共通電極)12との間で充放電を行うことにより、液晶層18の液晶を駆動する。この画素電極172は、例えば、前述した透明導電膜12と同様の材料で構成されている。
液晶層18は液晶分子(図示せず)を含有しており、画素電極172の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
この液晶パネル16では、通常、1個のマイクロレンズ8と、かかるマイクロレンズ8の光軸Qに対応したブラックマトリックス11の1個の開口111と、1個の画素電極172と、かかる画素電極172に接続された1個の薄膜トランジスタ173とが、1画素に対応している。
この液晶パネル16は、例えば、公知の方法により製造されたTFT基板17と液晶パネル用対向基板1とを配向処理した後、シール材(図示せず)を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔(図示せず)より液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。その後、必要に応じて、液晶パネル16の入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。
なお、上記液晶パネル16では、液晶駆動基板としてTFT基板を用いたが、液晶駆動基板にTFT基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、TFD基板、STN基板などを用いてもよい。
図6は、本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置300は、光源301と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系(導光光学系)と、赤色に対応した(赤色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)74と、緑色に対応した(緑色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)75と、青色に対応した(青色用の)液晶ライトバルブ(液晶光シャッターアレイ)76と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面711および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面712が形成されたダイクロイックプリズム(色合成光学系)71と、投射レンズ(投射光学系)72とを有している。
光源301から出射された白色光(白色光束)は、インテグレータレンズ302および303を透過する。この白色光の光強度(輝度分布)は、インテグレータレンズ302および303により均一にされる。
インテグレータレンズ302および303を透過した白色光は、ミラー304で図14中左側に反射し、その反射光のうちの青色光(B)および緑色光(G)は、それぞれダイクロイックミラー305で図6中下側に反射し、赤色光(R)は、ダイクロイックミラー305を透過する。
ダイクロイックミラー305で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー307で図6中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー307を透過する。
また、ダイクロイックミラー307を透過した青色光は、ダイクロイックミラー(またはミラー)308で図14中左側に反射し、その反射光は、ミラー309で図6中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ312、313および314により整形され、青色用の液晶ライトバルブ76に入射する。
この際、液晶ライトバルブ74が有する液晶パネル16の各画素(薄膜トランジスタ173とこれに接続された画素電極172)は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路(駆動手段)により、スイッチング制御(オン/オフ)、すなわち変調される。
前記液晶ライトバルブ74により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ74からの赤色光は、面713からダイクロイックプリズム71に入射し、ダイクロイックミラー面711で図6中左側に反射し、ダイクロイックミラー面712を透過して、出射面716から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ76により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ76からの青色光は、面715からダイクロイックプリズム71に入射し、ダイクロイックミラー面712で図6中左側に反射し、ダイクロイックミラー面711を透過して、出射面716から出射する。
このとき、液晶ライトバルブ74、75および76は、前述したような液晶パネル16を備えているので、光源301からの光が液晶ライトバルブ74、75および76を通過する際の減衰は抑制され、スクリーン320上に明るい画像を投影することができる。
例えば、本発明のマイクロレンズの製造方法では、任意の目的の工程が1または2以上追加されてもよい。
また、前述した実施形態では、マスクを施して、エッチングを行う方法について説明したが、マスクを施さずにエッチングを行うものであってもよい。
また、前述した実施形態では、本発明のマイクロレンズ基板を、投射型表示装置に適用した場合について説明したが、透過型スクリーン、リヤ型プロジェクタにも用いることができる。
以下のように、複数の凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
[凹部付き基板の形成工程]
まず、ガラス基板として、厚さ2mmの石英ガラス基板(ガラス転移点:1060℃、屈折率:1.46)を用意した。
この石英ガラス基板を、85℃に加熱した洗浄液(80%硫酸+20%過酸化水素水)に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、多数の初期孔を形成した(図2(b)参照)。
形成された初期孔の平均径は、5μmであった。
次に、石英ガラス基板にウエットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した(図2(d)参照)。
このウエットエッチングのエッチング時間は、72分に設定し、エッチング液には、フッ酸系のエッチング液を用いた。
これにより、石英ガラス基板上に、多数の凹部が規則的に配列した凹部付き基板を得た。なお、形成された凹部の平均径は15μm、曲率半径は7.5μmであった。また、隣接するマイクロレンズ用凹部同士の間隔(凹部同士の中心間平均距離)は15μmであった。
一方、クラウンガラス(ガラス転移点;660℃、屈折率:1.61)で構成された厚さT1:0.1mmの薄板ガラス基板(ガラス基板)を用意した。
このガラス基板を、凹部付き基板の凹部が形成されている面と対向するように設置した(図3(a)参照)。
次に、薄板ガラス基板と凹部付き基板とを圧接し、軟化した薄板ガラスを凹部内に充填した後、冷却した(図3(c)参照)。
実施例1と同様にして得られた凹部付き基板を用いて、下記のようにしてマイクロレンズ基板を製造した。
[圧接工程]
ガラス転移点が660℃、屈折率が1.61の薄板ガラス基板を用意した。このときの薄板ガラスの厚さT1は0.5mmであった。
このガラス基板を、凹部付き基板の凹部が形成されている面と対向するように設置した(図3(a)参照)。
次に、薄板ガラス基板と凹部付き基板とを圧接し、軟化した薄板ガラスを凹部内に充填した後、冷却した(図3(c)参照)。これにより、凹部内にマイクロレンズが形成された。接合された薄板ガラス基板(レンズ層)のマイクロレンズが形成されていない部分の厚さT2は0.35mmであった。
次に、接合した薄板ガラス基板を研削、研磨して、マイクロレンズが形成されていない部分の厚さを0.05mmとした。
その後、スクラブ洗浄装置を用いて研磨面を洗浄し、マイクロレンズ基板を得た。
前記実施例1と同様にして形成された凹部付き基板の凹部が形成された面に、未重合(未硬化)の紫外線(UV)硬化型エポキシ樹脂(屈折率1.59)を付与した。
次に、石英ガラスで構成されたカバーガラスで、UV硬化型エポキシ樹脂を押圧した。この際、カバーガラスとUV硬化型エポキシ樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。
次に、この接合したカバーガラスを、研削、研磨して、カバーガラスの厚さを50μmとした。
その後、スクラブ洗浄装置を用いてカバーガラスの研磨面を洗浄した。
実施例1〜2と比較例における凹部付き基板の凹部の平均径、凹部の曲率半径、凹部の深さ、屈折率、凹部付き基板およびガラス基板を構成するガラス材料の種類およびガラス転移点、屈折率、樹脂基板の厚さT1、製造されたマイクロレンズ基板のマイクロレンズの平均径、マイクロレンズの曲率半径、レンズ層の厚さT2、T2/T1を表1に示す。
実施例1〜2では、比較例に比べ、容易にマイクロレンズ基板を製造することができた。
また、各実施例および比較例の方法を用いて、連続して、マイクロレンズ基板を製造したところ、実施例1〜2では、安定した品質のマイクロレンズ基板を生産性良く製造することができた。これに対して、比較例では、不良品を生じ極めて歩留に劣っていた。
得られた投射型表示装置を5000時間連続駆動させ、駆動後5000時間の投射画像とを観察したところ、実施例1〜2のマイクロレンズ基板を用いた投射型表示装置は、鮮明な投射画像が観察された。これに対して、比較例の投射型表示装置では、駆動直後の投射画像は鮮明であったが、駆動時間に伴い、投射画像の鮮明度が明らかに低下した。これは、マイクロレンズ基板を構成する樹脂材料が、光や駆動による熱で劣化し、透過率等が低下したためであると考えられる。
Claims (12)
- 複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法であって、
表面に前記マイクロレンズの形状に対応した形状の複数個の凹部を有する凹部付き基板と、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点よりも低いガラス転移点のガラス材料で構成された基材とを、加熱した状態で圧接する圧接工程を有し、
前記圧接工程において、前記凹部内に前記ガラス材料を充填しつつ、前記凹部付き基板と前記基材とを接合することを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。 - 前記凹部付き基板の屈折率と、前記ガラス材料の屈折率との差の絶対値が、0.01以上である請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記加熱は、前記ガラス材料のガラス転移点以上、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点以下の温度で行う請求項1または2に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記ガラス材料のガラス転移点をTg1[℃]、前記凹部付き基板を構成する材料のガラス転移点をTg2[℃]としたとき、Tg2−Tg1≧50の関係を満足する請求項1ないし3のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記圧接は、減圧雰囲気下にて行う請求項1ないし4のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 前記圧接工程前の前記基材の厚さをT1[mm]、前記圧接工程後の前記基材の前記凹部付き基板との接合面における平坦部から、前記接合面とは反対側の面までの厚さをT2[mm]としたとき、0.5≦T2/T1≦0.95の関係を満足する請求項1ないし5のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
- 請求項1ないし6のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
- 請求項7に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする液晶パネル用対向基板。
- 請求項8に記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
- 画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された請求項8に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。
- 前記液晶駆動基板は、マトリックス状に配設された前記画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜トランジスタとを有するTFT基板である請求項10に記載の液晶パネル。
- 請求項9ないし11のいずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも1個用いて画像を投射することを特徴とする投射型表示装置。
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