JP2011059230A - マイクロレンズアレイおよびマイクロレンズアレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の一方の面側に複数のマイクロレンズに対応する複数の凹部を有する凹部付き基板と、前記凹部付き基板の前記凹部に充填されるレンズ基材と、前記凹部付き基板の少なくとも前記凹部形成面を覆う表層とを含み、前記凹部付き基板は、前記マイクロレンズに囲まれ形成される突起部を有しているマイクロレンズアレイ。
【選択図】図1
Description
(第1実施形態)
次に上述のマイクロレンズアレイ10の製造方法の一形態について図4および図5に基づいて説明する。
〔凹部付き基板の製造〕
<マスク形成用膜形成工程>
まず凹部付き基板12を製造する。図4に凹部付き基板12の製造方法の一例を示す。図4(a)に示すように、まず均一な厚さで傷が無く、表面を清浄化したガラス基板20を用意し、ガラス基板20の表面にマスク形成用膜21を形成する。このマスク形成用膜21は、後の工程において開口部(初期孔)が形成されることにより、マスクとして機能するものである。後述するが、マスク形成用膜21はレーザー照射により初期孔22が形成され、続いてエッチングにより初期孔22よりガラス基板20へ凹部を形成する。従って、マスク形成用膜21は、エッチングに対する耐性を有するものであることが好ましい。すなわち、マスク形成用膜21のエッチングレートはガラス基板20に比べて小さくなるように構成されることが好ましい。
マスク形成用膜21がガラス基板20の表面に形成された後、図4(b)に示すように、マスク形成用膜21に、後述するエッチングの際のマスク開口となる初期孔22を、対応するマイクロレンズ形成位置に形成する。これにより、所定の開口パターンを有するマスク23が得られる。初期孔22の形成方法としては、レーザー光照射、エッチング処理、サンドブラストなどのブラスト処理などが適用される。本実施形態では位置精度が高く維持でき、隣接する初期孔22同士の間隔を正確に制御することが可能となるため、レーザー光照射を初期孔22の形成に適用した。
次に図4(c)に示すように、マスク23に形成された初期孔22を通じてエッチングによりガラス基板20に食刻部24を形成する。エッチング方法は特に限定はされないが、例えばウエットエッチング、ドライエッチングなどが挙げられる。本実施形態ではウエットエッチングにより食刻部24を形成した。エッチング液として限定されるものではないが、本実施形態ではフッ酸(フッ化水素)を含むフッ酸系エッチング液を用いた。フッ酸系エッチング液を用いることで、ガラス基板20をより選択的に食刻(エッチング)することができ、食刻部24を好適に形成することができる。
次にマスク23をエッチング等により除去し、図4(e)に示すように、凹部付き基板12が得られる。すなわち多数の食刻部24が凹部13に、および非食刻部25が突起部15として形成された凹部付き基板12が得られる。また突起部15の頂部にはガラス基板20の部分平面25a、すなわち突起部15の平坦部15aを有する。なお、平坦部15aは後述するマイクロレンズ形成における研磨工程において同時研磨、いわゆる共磨きによって平坦部15aを成形することも可能であるため、上述のエッチング工程においてエッチング過多によってガラス基板20の部分平面25aが形成されなくても、不良品として廃棄するする必要は無い。しかし、エッチング工程でガラス基板20の部分平面25aが形成されることが好ましい。
上述の方法によって製造された凹部付き基板12にレンズ基材を導入する製造方法について、図5に基づいて説明する。
本実施形態において、レンズ基材30は圧接法により凹部付き基板12に接合される。まず板状のレンズ基材30が準備される。レンズ基材30は凹部付き基板12に対して軟化点SPが低い材料が選択される。また、レンズとしての機能を確保するために、凹部付き基板12に対して高屈折率を有する材料が選択されることは言うまでもない。例えばソーダガラス、結晶性ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスが好適に使用される。
TSP1≦T≦TSP2
の関係を満足するのが好ましい。さらに、レンズ基材30の流動性(成形性)を高め凹部付き基板12の損傷をより軽減させるには、
TSP1+200[℃]≦T≦TSP2−100[℃]
の関係を満足するのがより好ましい。
上述の加熱工程により所定の温度に加熱された凹部付き基板12とレンズ基材30は、図示しないプレス装置により図5(b)に図示した矢印方向に均一に加圧され、図5(c)のように凹部13にレンズ基材30が導入され、凹部付き基板12と接合される。
次に図5(d)に示すように、圧接工程において接合されたレンズ基材30には、確実に凹部13にレンズ基材30を充填させるため、余剰部分30aが生ずるようにレンズ基材30の量を設定している。この余剰部分30aが図示しない研磨装置により除去研磨される。研磨方法としては、例えばラップ盤を使って平面度も同時に作り上げる方法が一般的であるが、エッチング法による研磨であっても同様の製品を得ることは可能である。
上述の研磨工程を経て、図5(e)に示すようなマイクロレンズ基板31が完成する。完成したマイクロレンズ基板31に、図5(f)に示すように予め所定の厚さ、大きさに成形されたガラス平板の表層14を接着固定し、マイクロレンズアレイ10が完成する。表層14の材料は、凹部付き基板12と線膨張係数の絶対値の差が40×10-7/℃以下であることが好ましい。すなわち、マイクロレンズアレイ10に温度変化が負荷されても、凹部付き基板12と異なる線膨張係数を有するレンズ基材30が凹部付き基板12と表層14とにより挟み込まれ、レンズ基材30と凹部付き基板12および表層14との線膨張量の差を矯正する作用を発揮し、マイクロレンズアレイ10の変形を抑制することが可能となる。したがって、凹部付き基板12と表層14とに同一材料を使用することが最も好ましい。
〔凹部付き基板の形成工程〕
まず、ガラス基板として、厚さ2mmの石英ガラス基板(軟化点:1650℃、屈折率:1.46、線膨張係数:5.7×10-7/℃)を用意した。この石英ガラス基板を、85℃に加熱した洗浄液(80%硫酸+20%過酸化水素水)に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
次にレンズ材料には上述の凹部付き基板材料の石英ガラスに対して高屈折率の酸化ケイ素と酸化ビスマスと参加ホウ素を主成分とした、いわゆるホウケイ酸ガラス(軟化点:700℃、線膨張係数:40×10-7/℃)を700℃に加熱し、圧力5KNにて凹部付き基板の凹部に圧接した。この際、凹部付き基板も700℃に加熱した。レンズ基材圧接後、凹部つき基板の上面からレンズ基材が20μmから30μmの厚さで余剰分としてのはみ出し分をラップ研磨により、凹部つき基板の突起部の平坦部が出てくるまで研磨した。
研磨後の、レンズ基材が圧接された凹部付き基板のレンズ基材側の面に表層を固着した。表層には凹部付き基板とおなじ石英ガラスの基板を使用し、研磨後のレンズ基材が圧接された凹部付き基板と表層を、レンズ基材の軟化点700℃に加熱し、表層をレンズ基材に圧着し固着しマイクロレンズアレイを完成した。
比較例1は表層材料に誘電体ドライフィルムを使用し、その他は実施例2と同じである。使用した誘電体ドライフィルムは線膨張係数が70×10-7/℃であった。
比較例2は表層材料にビスマス系ガラスを使用し、その他は実施例2と同じである。使用したビスマス系ガラスは線膨張係数が45×10-7/℃であった。
上述の実施例1、2と比較例1、2によって得られたマイクロレンズアレイを、300℃に加熱し、常温まで冷却後観察した。その結果、実施例1と2にはクラックや割れ等の発生は無かった。比較例1と2には、表層にクッラクが発生しマイクロレンズアレイとして機能しないものとなった。このことから、表層の線膨張係数は40×10-7/℃以下とすることが分かった。
実施例2に対して、凹部付き基板の突起部端部の平面部の面積の総和を、凹部形成範囲の投影面積に対して2%未満となるように、凹部付き基板を製作しマイクロレンズアレイを製作した。その他は実施例2と同じである。
上述の実施例2と比較例3によって得られたマイクロレンズアレイを、300℃に加熱し、常温まで冷却後観察した。その結果、実施例2にはクラックや割れ等の発生は無かった。比較例3には、表層にクラックが発生しマイクロレンズアレイとして機能しないものとなった。このことから、凹部付き基板の突起部端部の平面部の面積の総和が、凹部形成範囲の投影面積に対して5%以上必要であることが分った。また、隣接するマイクロレンズ形成部である凹部の距離は、レンズ機能としてのレンズ中心を確保する点から、凹部付き基板の突起部端部の平面部の面積の総和が、凹部形成範囲の投影面積に対して2%を超えなければならない。
Claims (5)
- 基板の一方の面側に複数のマイクロレンズに対応する複数の凹部を有する凹部付き基板と、
前記凹部付き基板の前記凹部に充填されるレンズ基材と、
前記凹部付き基板の少なくとも前記凹部の形成面を覆う表層とを含むマイクロレンズアレイであって、
前記凹部付き基板は、前記マイクロレンズに囲まれ形成される突起部を有している
ことを特徴とするマイクロレンズアレイ。 - 前記突起部の前記表層に対向する端部に平坦部を有し、
前記平坦部は、前記凹部付き基板の前記表層を載置し固着させる表層載置部との段差が、前記表層から前記凹部に向かって0以上0.1μm以下である、
ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロレンズアレイ。 - 前記凹部付き基板の前記突起部の前記平坦部の面積の総和が、複数の前記凹部形成範囲の投影面積の2%以上である、
ことを特徴とする請求項1および2に記載のマイクロレンズアレイ。 - 前記表層の線膨張係数と、前記凹部付き基板の線膨張係数との絶対値の差が、
40×10-7/℃以下である、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロレンズアレイ。 - 複数のマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板の製造方法であって、
基板の一方の面側に複数のマイクロレンズに対応する複数の凹部と、前記凹部に囲まれた突起部とを形成し凹部付き基板とする凹部付き基板製造工程と、
前記凹部にレンズ基材を導入する、レンズ基材導入工程と、
前記レンズ基材を前記凹部へ固着しレンズ体を形成するレンズ形成工程と、
前記レンズ体の前記レンズ基材側の面を、前記突起部の頂部が出現するまで研磨する研磨工程と、
前記レンズ体の前記マイクロレンズ形成範囲を覆う表層を前記レンズ体に固着する表層固定工程と、を含む、
ことを特徴とするマイクロレンズアレイの製造方法。
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