JP2006313219A - 現像装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理基板を搬送する搬送コンベア11と、被処理基板搬入手段10と、現像処理槽20と、リンス・水洗槽30と、被処理基板搬出手段40とから構成されており、現像処理槽20は、現像液を噴射する標準ノズル21が所定個数取り付けられたマニホールドが被処理基板の幅方向に所定本数配置されており、両サイドの少なくとも1本のマニホールドに異口径ノズル21aを所定個数配置することにより、被処理基板51の幅方向の現像液量を均一化したものである。
【選択図】図1
Description
対向配設された多数のスプレーノズルから現像液を噴射して大型の被処理基板の現像処理を行う際、スプレーノズルからの現像液の噴射圧を調整しても、被処理基板の端部よりも被処理基板の中央部での現像が促進され、被処理基板の端部ではレジストが完全に除去されないで、レジスト残りが発生する。
この被処理基板の端部と中央部とでの薬液量の差が、現像処理の差となっている。
送される被処理基板に対しスプレーノズルより現像液を噴射して現像処理を行う現像処理装置であって、少なくとも被処理基板51を搬送する搬送コンベア11と、被処理基板搬入手段10と、現像処理槽20と、リンス・水洗槽30と、被処理基板搬出手段40とを具備しており、前記現像処理槽20は、現像液を噴射する標準ノズル21が所定個数取り付けられたマニホールドが被処理基板の幅方向に所定本数配置されており、両サイドの少なくとも1本のマニホールドに異口径ノズル21aを所定個数配置することにより、被処理基板51の幅方向の現像液量を均一化したことを特徴とする現像装置としたものである。
図1は請求項1に係る本発明の現像装置の一実施例を示す模式構成図である。
請求項1に係る本発明の現像装置100は、図1に示すように、被処理基板を搬送する搬送コンベア11と、被処理基板搬入手段10と、現像処理槽20と、リンス・水洗槽30と、被処理基板搬出手段40とから構成されており、現像処理槽20は、現像液を噴射する標準ノズル21が所定個数取り付けられたマニホールドが被処理基板の幅方向に所定本数配置されており、両サイドの少なくとも1本のマニホールドに異口径ノズル21aを所定個数配置することにより、被処理基板51の幅方向の現像液量を均一化したものである。
まず、パターン露光された感光性レジスト層が形成されたプリント配線板及びカラーフィルタ基板等の被処理基板51はカセットにロードされ、被処理基板搬入手段10により搬送コンベア11上に送り出される。
ここで、図2に示すように、長さ1.0m、管径28cmのマニホールド21に、口径1.1mmφの標準スプレーノズル22が水平軸に対して20度の角度θで10個取り付けられており、スプレーノズル22は左右に揺動している。
マニホールド21に取り付ける標準スプレーノズル22と異口径スプレーノズル22aの
配置は、例えば、図3もしくは図4に示すような配置例で行う。
図3のマニホールド21の配置例は、被処理基板51の幅方向に対してスプレーノズルを取り付けたマニホールド21を9本(21−1〜21−9)配置したもので、中央部の7本のマニホールド21−2〜21−8には、口径1.1mmφの標準スプレーノズル21が取り付けられており、被処理基板51の両端のマニホールド21−1及び21−9には、口径1.5mmφの異口径スプレーノズル22aを取り付けた事例である。
被処理基板51の両端のマニホールド21−1及び21−9に取り付ける異口径スプレーノズル22aの個数は、全部のスプレーノズルを異口径スプレーノズル22aにする場合と標準スプレーノズル22と異口径スプレーノズル22aとを混在させる場合とがあり、被処理基板51の感光性レジストの種類、パターン幅、パターン精度等により適宜設定する。
この時の、口径1.1mmφの標準スプレーノズル21の流量は0.58L/min、口径1.5mmφの異口径スプレーノズル22aの流量は0.92L/minであった。
この時の、口径1.1mmφの標準スプレーノズル21の流量は0.58L/min、口径1.5mmφの異口径スプレーノズル22aの流量は0.92L/minであった。
この時の、口径1.1mmφの標準スプレーノズル21の流量は0.58L/min、口径1.5mmφの異口径スプレーノズル22aの流量は0.92L/minであった。
11……搬送コンベア
20……現像処理槽
21……マニホールド
22……スプレーノズル
23、32……エアーナイフ
30……リンス・水洗槽
31……スプレイ機構
40……搬出手段
51……被処理基板
51a……現像処理の終わった被処理基板
100……現像装置
Claims (2)
- コンベアにて搬送される被処理基板に対しスプレーノズルより現像液を噴射して現像処理を行う現像処理装置であって、少なくとも被処理基板(51)を搬送する搬送コンベア(11)と、被処理基板搬入手段(10)と、現像処理槽(20)と、リンス・水洗槽(30)と、被処理基板搬出手段(40)とを具備しており、前記現像処理槽(20)は、現像液を噴射する標準スプレーノズル(22)が所定個数取り付けられたマニホールド(21)が被処理基板の幅方向に所定本数配置されており、両サイドの少なくとも1本のマニホールドに異口径スプレーノズル(22a)を所定個数配置することにより、被処理基板(51)の幅方向の現像液量を均一化したことを特徴とする現像装置。
- 標準スプレーノズル(22)の口径をd、異口径スプレーノズルの口径をDとしたとき、前記異口径スプレーノズル(22a)の口径Dは、D>dの関係が満たされていることを特徴とする請求項1に記載の現像装置。
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JPH0290600A (ja) * | 1988-09-28 | 1990-03-30 | Hitachi Ltd | プリント基板表面処理装置 |
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