KR102051362B1 - 집적회로 소자 제조용 현상 장치 - Google Patents

Abstract

집적회로 소자 제조용 현상 장치는 기판 상에 도포한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 집적회로 소자 제조용 현상 장치에 있어서, 상기 포토레지스트 상에 현상액을 분사하는 공정이 수행되는 현상 챔버; 상기 현상 챔버로 공급되는 상기 현상액을 수용하는 수용 탱크; 외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 저부에 연결되는 제1 공급 라인; 외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 상부에 연결되는 제2 공급 라인; 및 상기 제2 공급 라인을 통하여 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급할 때 분사 방식으로 공급하도록 상기 제2 공급 라인과 연결되는 분사부를 포함할 수 있다.

Description

집적회로 소자 제조용 현상 장치{Apparatus for developing photoresist in an integrated circuit fabricating}

본 발명은 집적회로 소자 제조용 현상 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 기판 상에 도포한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 집적회로 소자 제조용 현상 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서는 기판 상에 형성하는 박막을 원하는 박막 패턴을 갖도록 형성해야 한다. 즉, 집적회로 소자의 제조에서는 기판 상에 금속 배선 등의 연결을 위하여 박막을 형성한 후, 언급한 박막을 박막 패턴으로 형성해야 하는 것이다. 그리고 언급한 바와 같이, 박막을 박막 패턴으로 형성하는 공정은 기판 상에 박막을 형성하고, 이어서 박막 상에 포토레지스트를 도포하고, 그리고 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성한 후, 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 사용하는 식각 공정을 수행한다.

여기서, 기판 또는 박막 상에 도포한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로의 형성은 포토레지스트의 일부 영역을 광에 노출시키는 노광 공정을 수행한 후, 광에 노출된 포토레지스트 또는 광에 노출되지 않은 포토레지스트를 제거하는 현상 공정을 수행함에 이루어진다.

언급한 현상 공정에서는 포토레지스트 상에 현상액을 분사하는 현상 챔버 및 현상 챔버로 공급하기 위한 현상액을 수용하는 수용 탱크를 구비하는 현상 장치를 사용한다. 아울러, 수용 탱크에는 수용 탱크로 현상액을 공급하는 공급 라인이 연결된다. 이때, 언급한 공급 라인은 수용 탱크의 저부에 연결된다. 이에, 언급한 수용 탱크는 공급 라인을 통하여 현상액을 공급받아 수용하고, 현상 공정시 현상액을 현상 챔버로 공급할 수 있다.

그러나 언급한 집적회로 소자 제조용 현상 장치의 경우 공급 라인을 통하여 수용 탱크로 현상액을 공급할 때 수용 탱크 내에 현상액의 공급으로 인한 버블(bubble)이 생성되는 상황이 빈번하게 발생한다. 이와 같이, 현상액의 공급으로 인하여 수용 탱크 내에 버블이 생성될 경우 현상 챔버로 공급되는 현상액에 이상이 발생할 수 있고, 그 결과 현상 공정의 수행시 불량을 야기시킬 수 있다.

따라서 종래의 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 사용하는 현상 공정에서는 수용 탱크로 공급되는 현상액의 버블로 인하여 현상 공정의 수행시 불량을 야기시킬 수 있고, 그 결과 집적회로 소자의 제조에 따른 신뢰도를 저하시키는 문제점이 있다.

본 발명의 목적은 현상 공정시 수용 탱크로 공급되는 현상액에 의해 생성되는 버블의 발생을 최소화할 수 있는 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 제공하는데 있다.

언급한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조용 현상 장치는 기판 상에 도포한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 집적회로 소자 제조용 현상 장치에 있어서, 상기 포토레지스트 상에 현상액을 분사하는 공정이 수행되는 현상 챔버; 상기 현상 챔버로 공급되는 상기 현상액을 수용하는 수용 탱크; 외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 저부에 연결되는 제1 공급 라인; 외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 상부에 연결되는 제2 공급 라인; 및 상기 제2 공급 라인을 통하여 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급할 때 분사 방식으로 공급하도록 상기 제2 공급 라인과 연결되는 분사부를 포함할 수 있다.

언급한 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조용 현상 장치에서, 상기 제1 공급 라인과 상기 제2 공급 라인은 단일 구조를 갖는 공급 라인으로부터 분기되도록 구비될 수 있고, 상기 분사부는 적어도 두 개가 배치되도록 구비될 수 있고, 그리고 적어도 두 개의 분사분 중 어느 하나는 상기 제1 공급 라인과 연결되는 상기 수용 탱크의 저부와 마주하도록 상기 수용 탱크의 상부에 구비될 수 있다.

언급한 바와 같이, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치는 외부로부터 수용 탱크로 현상액을 공급하도록 수용 탱크의 저부에 연결되는 제1 공급 라인 및 외부로부터 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 수용 탱크의 상부에 연결되는 제2 공급 라인 그리고 제2 공급 라인을 통하여 수용 탱크로 현상액을 공급할 때 분사 방식으로 공급하도록 제2 공급 라인과 연결되는 분사부를 구비한다.

이에, 언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치의 경우 제1 공급 라인 및 제2 공급 라인 그리고 분사부를 통하여 수용 탱크로 현상액을 공급하고, 특히 제2 공급 라인 및 분사를 사용하여 수용 탱크의 상부에서도 현상액을 공급하기 때문에 수용 탱크로 공급이 이루어지는 현상액에 의해 생성되는 버블의 발생을 최소화할 수 있다.

따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 사용하는 현상 공정에서는 수용 탱크에 공급 및 수용되는 현상액으로부터의 버블을 최소화하여 현상액으로 인하여 발생하는 불량을 충분하게 감소시킬 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 신뢰도의 향상을 기대할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

실시예

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 나타내는 개략적인 구성도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 포토리소그래피(photolithography) 공정에 사용하는 것으로써, 기판 상에 형성하는 박막의 패터닝시 식각 마스크로 사용하기 위한 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 것이다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 포토 마스크를 사용하여 원하는 부분의 포토레지스트에 광을 조사하는 노광의 수행이 이루어진 기판을 전달받아 광이 조사되는 부분의 포토레지스트 또는 광이 조사되지 않은 부분의 포토레지스트를 제거하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 것이다. 그리고 언급한 포토레지스트 패턴은 후속 공정인 박막의 패터닝을 위한 식각 공정시 식각 마스크로 사용될 수 있다.

여기서, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 기판 상에 도포 및 노광 처리한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 공정이 수행되는 현상 챔버(10)를 구비할 수 있다. 특히, 언급한 현상 챔버(10)에는 도시하지는 않았지만 광이 조사되는 부분의 포토레지스트 또는 광이 조사되지 않은 부분의 포토레지스트를 제거할 수 있는 현상액(13)을 분사하는 노즐이 구비될 수 있다.

그리고 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 언급한 현상 챔버(10)로 공급되는 현상액(13)을 수용하는 수용 탱크(11)를 구비할 수 있다. 즉, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)를 사용하는 현상 공정에서는 수용 탱크(11)로부터 현상 챔버(10)로 현상액(13)을 공급받을 수 있다. 이때, 수용 탱크(11)로부터 현상 챔버(10)로 공급되는 현상액(13)은 주로 노즐을 통하여 기판의 포토레지스트 상에 분사하는 구조를 갖는다.

아울러 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 제1 공급 라인(16)을 구비할 수 있다. 언급한 제1 공급 라인(16)은 수용 탱크(11)의 저부에 연결되도록 구비될 수 있다. 이에, 제1 공급 라인(16)을 통하여 외부로부터 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 공급할 수 있다. 특히, 언급한 제1 공급 라인(16)은 현상액(13)을 공급하는 공급부와 연결될 수 있다.

또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 언급한 제1 공급 라인(16) 이외에도 제2 공급 라인(18)을 구비할 수 있다. 언급한 제2 공급 라인(18)은 수용 탱크(11)의 상부에 연결되도록 구비될 수 있다. 이에, 제2 공급 라인(18)을 통하여 외부로부터 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 공급할 수 있다. 특히, 언급한 제2 공급 라인(18)의 경우에도 제1 공급 라인(16)과 마찬가지로 현상액(13)을 공급하는 공급부와 연결될 수 있다.

그리고 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 제2 공급 라인(18)을 통하여 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 단순하게 공급하는 것이 아니라 분사 방식으로 공급할 수 있다. 이에, 언급한 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 제2 공급 라인(18)을 통하여 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 공급할 때 분사 방식으로 공급하도록 제2 공급 라인(18)과 연결되는 분사부(19)를 포함할 수 있다.

여기서, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)의 경우 제1 공급 라인(16) 및 제2 공급 라인(18)은 단일 구조를 갖는 공급 라인(15)으로부터 분기되도록 구비될 수 있다. 즉, 수용 탱크(11) 및 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 공급하는 공급부 사이의 연결은 단일 구조를 갖는 공급 라인(15) 및 언급한 단일 구조를 갖는 공급 라인(15)으로부터 분기되는 제1 공급 라인(16) 및 제2 공급 라인(18)에 의해 이루어지는 것이다. 이때, 언급한 제1 공급 라인(16) 및 제2 공급 라인(18)은 도시하지는 않았지만 주로 펌프 라인에서 분기될 수 있다.

또한, 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)는 분사부(19)를 적어도 두 개가 배치되도록 구비할 수 있다. 이때, 적어도 두 개가 구비되는 분사부(19) 각각은 제2 공급 라인(18)과 연결되도록 구비된다. 특히, 적어도 두 개가 구비되는 분사부(19) 중 어느 하나의 분사부(19)는 제1 공급 라인(16)과 연결되는 수용 탱크(11)의 저부와 마주하도록 수용 탱크(11)의 상부에 구비될 수 있다. 이에, 수용 탱크(11)로 공급되는 현상액(13)은 수용 탱크(11)를 기준으로 서로 마주하는 저부 및 상부에서 공급될 수 있다.

언급한 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치(100)를 사용하여 수용 탱크(11)로 현상액(13)을 공급할 때 제1 공급 라인(16)을 통하여 수용 탱크(11)로 저부로만 현상액(13)을 공급할 경우에는 공급이 이루어지는 현상액(13)에 의해 버블이 생성될 수 있다. 이때, 언급한 현상액(13)은 주로 강알카리의 유기 아민계 용액인 TMAH를 사용한다. 이와 같이, 수용 탱크(11)로 공급되는 현상액(13)에 버블이 생성되고, 그리고 버블이 생성된 현상액(13)을 현상 챔버(10)로 공급하여 기판 상에 분사할 경우에는 바로 불량과 직결될 수 있다.

따라서 본 발명에서는 제1 공급 라인(16)을 통하여 수용 탱크(11)의 저부로 현상액(13)을 공급할 때 제2 공급 라인(18)을 통하여 수용 탱크(11)의 상부로 현상액(13)을 공급함과 아울러 분사부(19)를 통하여 현상액(13)을 분사 방식으로 공급함으로써 수용 탱크(11)로 공급되는 현상액(13)으로부터 생성되는 버블의 발생을 최소화할 수 있다.

따라서 본 발명의 집적회로 소자 제조용 현상 장치를 사용하는 현상 공정에서는 수용 탱크에 공급 및 수용되는 현상액으로부터의 버블을 최소화하여 현상액으로 인하여 발생하는 불량을 충분하게 감소시킬 수 있기 때문에 집적회로 소자의 제조에 따른 신뢰도의 향상을 기대할 수 있고, 그 결과 집적회로 소자에 대한 재품 경쟁력의 향상까지도 기대할 수 있다.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

10 : 현상 챔버 11 : 수용 탱크
13 : 현상액 15 : 공급 라인
16 : 제1 공급 라인 17 : 저부
18 : 제2 공급 라인 19 : 분사부
100 : 현상 장치

Claims (3)

1. 기판 상에 도포한 포토레지스트를 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위한 집적회로 소자 제조용 현상 장치에 있어서,
   상기 포토레지스트 상에 현상액을 분사하는 공정이 수행되는 현상 챔버;
   상기 현상 챔버로 공급되는 상기 현상액을 수용하는 수용 탱크;
   외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 저부에 연결되는 제1 공급 라인;
   외부로부터 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급하도록 상기 수용 탱크의 상부에 연결되는 제2 공급 라인; 및
   상기 제2 공급 라인을 통하여 상기 수용 탱크로 상기 현상액을 공급할 때 분사 방식으로 공급하도록 상기 제2 공급 라인과 연결되는 분사부를 포함하고,
   상기 제1 공급 라인과 상기 제2 공급 라인은 단일 구조를 갖는 공급 라인으로부터 분기되도록 구비되고, 상기 분사부는 적어도 두 개가 배치되도록 구비되고, 그리고 적어도 두 개의 분사부 중 어느 하나는 상기 제1 공급 라인과 연결되는 상기 수용 탱크의 저부와 마주하도록 상기 수용 탱크의 상부에 구비되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조용 현상 장치.
2. 삭제
3. 제1 항에 있어서, 상기 제1 공급 라인을 통하여 상기 수용 탱크로 공급되는 현상액, 및 상기 제1 공급 라인과 연결되는 상기 수용 탱크의 저부와 마주하도록 상기 수용 탱크의 상부에 구비되는 분사부를 통하여 상기 수용 탱크로 공급되는 현상액은 동시에 공급되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 집적회로 소자 제조용 현상 장치.

Images