JP2006310531A - 配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】誘電体1層が両面より少なくとも1層の金属層2で挟まれたシート材3より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板において、配線基板の層数を低減させ、且つ、電気的特性を向上させ、また、印刷抵抗体14の抵抗値バラツキの低減、および印刷抵抗体14の小型化を可能とする配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シート材3の一方の面側の金属層はキャパシタ電極部13のみが形成され、他の面側の金属層はキャパシタ電極部9と配線部12が形成され、誘電体1は両キャパシタ電極部の間のみ存在し、他の面側の金属層は、誘電体1と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部9と配線部12の側面とが、ビア部8を除き絶縁体6で覆われている事を特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】シート材3の一方の面側の金属層はキャパシタ電極部13のみが形成され、他の面側の金属層はキャパシタ電極部9と配線部12が形成され、誘電体1は両キャパシタ電極部の間のみ存在し、他の面側の金属層は、誘電体1と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部9と配線部12の側面とが、ビア部8を除き絶縁体6で覆われている事を特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は各種電子機器の配線基板及びその製造方法に係わり、さらに詳しくは内蔵されるキャパシタにおいて、配線基板の層数を低減させ、且つ、電気的特性を向上させる配線基板及びその製造方法に関するものである。
近年の配線基板及びその製造方法について以下に説明する。
図5、図6、図4は、従来法による配線基板の製造方法の一部を断面で示す説明図である。近年、キャパシタが内蔵される配線基板及びその製造方法としては、誘電体1層が両側より少なくとも1層の金属層2で挟まれたシート材3、例えば、エポキシ系樹脂にチタン酸バリウム等を混入させた誘電体を銅箔で挟んだシート材3を用い(図5(a))、キャパシタを作製する方法がとられている。従来は、その誘電体1が25〜50μmと肉厚だったため、シート材3の両面金属層2を極力エッチングしないパターンとし、電源―グランド層として多層プリント配線板のコアに用い、電極パターンとICとをスルーホール等を介して接続することにより、バイパスコンデンサとして機能させていた。
しかしながら、更なるノイズ低減等の電気特性を向上させるため、キャパシタの高容量化及び誘電体1の薄膜化が進み、現在、誘電体1の膜厚は8〜16μm程度となっている。高誘電率化により、誘電体1内に混入されているチタン酸バリウム等の割合も大きくなっており、誘電体1の強度が弱く、従来の様に、シート材3の銅箔両面をエッチング加工することが工程上不可能となり、片面の金属層2、例えば銅箔4を加工し、加工した側を基板5上にプリプレグ6を介して積層する方法を取っている。詳しく述べると、図5に示す様に、誘電体1層の両側が少なくとも1層の金属層2で挟まれたシート材3、例えば、エポキシ系樹脂にチタン酸バリウム等を混入させた誘電体1を銅箔4で挟んだシート材3を用い(図5(a))、フォトリソ及びエッチング法により、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させる(図5(b))。次いで、炭酸ガスレーザー等により、誘電体1を除去し(図5(c))、無電解及び電解めっき法により、ビア8を形成し、シート材3の両面を導通させる(図5(d))。再び、フォトリソ及びエッチング法により、シート材3の片面に所望の下電極9を形成する(図5(e))。次いで、シート材3の片面に所望の下電極9が形成された面と、配線基板の積層途中工程における、例えばガラスクロス入りエポキシ系樹脂等の絶縁樹脂10上に、下層配線11が形成された面を、プリプレグ6を介して加熱プレスする(図5(f、g))。
次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させる(図5(h))。次いで、炭酸ガスレーザー等により、誘電体1およびプリプレグのビアとなる部分を除去し(図6(i))、無電解及び電解めっき法により、ビア8を形成し、所望の下層配線11との電気的接続を図る(図6(j))。次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望の配線12及びキャパシタの上電極13を形成し(図6(k))、続いて、プリプレグ6を介して銅箔4と加熱プレスにより張り合わせる(図6(l))。ここで、誘電体1が高誘電率であることから、配線と配線やビア等の相互干渉により、電気信号等の特性悪化を防ぐ為、この層には極力配線12の形成は、避けざるを得ない。
次いで、フォトリソ及びエッチング法により、所望のビアとなる部分7の絶縁層(プリプレグ6)表面を露出させる(図6(m))。次いで、炭酸ガスレーザー等により、絶縁層を除去し(図6(n))、無電解及び電解めっき法により、ビア8を形成し、所望の下
層となった配線12やキャパシタ上電極13との電気的接続を図る(図6(o))。次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望の配線12を形成する(図6(p))。
層となった配線12やキャパシタ上電極13との電気的接続を図る(図6(o))。次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望の配線12を形成する(図6(p))。
次いで、印刷抵抗体14を形成する場合は、温度や湿度の負荷によるポリマーと銅との接触面の腐食を避ける為に、配線と印刷抵抗体との間に、耐酸化性金属、例えば銀を含むペーストの印刷、或いは、銀のめっきを行い、次いで、カーボンペーストを印刷することで、印刷抵抗体14を設ける(図4(a))。次いで、残された一連の配線基板の製造工程を行う事で配線基板を作製するといった方法であった。
また、別の方法として、シート材3の片面に所望の下電極9を形成した(図5(e))後、これらのキャパシタを多種の用途に用いる為に、サンドブラストにより露出した誘電体1を除去するといった方法もある(図4(b、c)。
上記したような最近の配線基板及びその製造方法では、まず、前者の場合、図4(a)に示す様に、誘電体1が全面にあり、誘電体1が高誘電率であることから、配線と配線やビア等の相互干渉により、電気信号等の特性悪化を防ぐ為、この層には極力配線12の形成は、避けざるを得なくなり、層数及び層厚が増加するといった問題があった。後者の場合は、図4(b、c)に示す様に、不要な誘電体1を完全に除去できず、キャパシタの上電極13部以外にも誘電体1が残り、その部分に存在する誘電体1のビア8及び配線12への電気的影響及びキャパシタの容量精度が悪化するといった問題があった。また、共通して、印刷抵抗体14を形成する際に、配線12に厚みがあるため、スクリーン版と印刷部とに隙間が存在し、印刷抵抗体14の形状(印刷精度)が悪くなり、抵抗値のバラツキが大きいといった問題及び、段差があるため、印刷後のレベリングにより、ペースト厚が厚くなり、印刷抵抗体14の薄膜化が困難となり、印刷抵抗体14の小型化が困難といった問題があった。
以下に公知文献を示す。
特開2002−00941号公報
特開2004−221235号公報
本発明は、前記問題点を鑑みなされたものであり、その課題とするところは、誘電体1層が両面より少なくとも1層の金属層2で挟まれたシート材3より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板において、配線基板の層数を低減させ、且つ、電気的特性を向上させ、また、印刷抵抗体14の抵抗値バラツキの低減、および印刷抵抗体14の小型化を可能とする配線基板及びその製造方法を提供することにある。
本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、請求項1の発明は、誘電体層が両面より少なくとも1層の金属層で挟まれたシート材より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板において、シート材の一方の面側の金属層はキャパシタ電極部のみが形成され、他の面側の金属層はキャパシタ電極部と配線部が形成され、誘電体は両キャパシタ電極部の間のみ存在し、他の面側の金属層は、誘電体と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部と配線部の側面とが、ビア部を除き絶縁体で覆われている事を特徴とする配線基板としたものである。
本発明の請求項2の発明は、他の面側の配線部の配線間に抵抗体が形成されている事を特徴とする請求項1記載の配線基板としたものである。
本発明の請求項3の発明は、誘電体層が両側より少なくとも1層の金属層で挟まれたシート材より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板の製造方法において、
1)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、シート材の片側の金属層にキャパシタ下電極及び配線を形成する工程、
2)該シート材のキャパシタ下電極及び配線形成面側と、配線基板の積層途中工程における基板、もしくは、金属箔とを、プリプレグ材を介して熱プレス加工する工程、
3)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、該シート材の反対側の金属層に、キャパシタ上電極を形成する工程、
4)上電極をマスクとし、ブラスト法により、露出した誘電体を除去し、誘電体パターンを形成する工程、
を具備することを特徴とする配線基板の製造方法としたものである。
1)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、シート材の片側の金属層にキャパシタ下電極及び配線を形成する工程、
2)該シート材のキャパシタ下電極及び配線形成面側と、配線基板の積層途中工程における基板、もしくは、金属箔とを、プリプレグ材を介して熱プレス加工する工程、
3)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、該シート材の反対側の金属層に、キャパシタ上電極を形成する工程、
4)上電極をマスクとし、ブラスト法により、露出した誘電体を除去し、誘電体パターンを形成する工程、
を具備することを特徴とする配線基板の製造方法としたものである。
本発明の配線基板及びその製造方法によると、キャパシタの上電極13がある側には、上電極13以外のパターンは存在せず、それにより、キャパシタの上電極13をマスクとして、ブラスト法、例えば、ウエットブラストにより、余分な誘電体1が全て除去される為、キャパシタ以外の部分は全て低誘電率な絶縁層(プリプレグ6)となり、その層に配線12を自由に設計でき、また、印刷抵抗体14も形成可能となり、層数及び層厚が増加することがない。また、配線12と絶縁層(プリプレグ6)との段差が極小さく、フラットに近い面に印刷抵抗体14を印刷するので、スクリーン版と印刷部とに隙間が存在せず、精度良く形成する事が可能となり、抵抗値のバラツキが小さくなり、また、印刷後のレベリングにより、ペースト厚が厚くならず、印刷抵抗体14の薄膜化が可能となり、印刷抵抗体14の小型化が可能となる。
以下に本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。
図1(a)及び(b)は、本発明による配線基板の例を示した説明図である。本発明による配線基板は、誘電体層1が両面より少なくとも1層の金属層で挟まれたシート材より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板を前提とする。ここで、シート材の一方の面側の金属層はキャパシタ電極部13(図では、上部電極13)のみが形成され、他の面側の金属層はキャパシタ電極部9(図では、下部電極9)と配線部12が形成されいる。誘電体1は両キャパシタ電極部の間のみ存在する。そして、他の面側の金属層は、誘電体と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部9と配線部12の側面とが、ビア部8を除き絶縁体6(図では、プリプレグ6)で覆われている。
また、本発明の配線基板は、必要であれば、他の面側の配線部12の配線間に抵抗体14が形成されている。そして印刷抵抗体14は、絶縁層と配線12との段差が極僅かな面に設けられた構造である。
図2(a)から(i)は、本発明による配線基板の製造方法における一実施例の工程説明図である。本発明による配線基板の製造方法は、まず、10μm厚程度の誘電体1層の両側が少なくとも1層の金属層2(12μm厚程度)で挟まれたシート材3を用意する。例えば、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、LCP(液晶ポリマー)樹脂に、チタン酸バリウムや酸化チタンなどを混入した誘電体1が用いられる。ここで、誘電体1の厚み精度と金属層2のエッチング精度がキャパシタの加工精度に関係するため、このシート材3の完成度がもっとも重要となる。次に、フォトレジストを用いて露光、現像を行うフォト
リソ法及びウエットエッチング法にて、シート材3の片側の金属層2にキャパシタ下電極9及び配線12を形成する。次いで、シート材3のキャパシタ下電極9及び配線12形成面側と、配線基板の積層途中工程における基板5とを、位置合わせを行い、プリプレグ6材を介して熱プレス加工する。次いで、基板5上の所望の下層配線11と電気的接続を行う為に、フォトリソ及びエッチング法により、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させ、炭酸ガスレーザー等により、誘電体1および絶縁層(プリプレグ6)を除去し、無電解及び電解めっき法により、ビア8をする。次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望のキャパシタ上電極13を形成する。ここでは、キャパシタ上電極のみで、配線は形成しない。次に、キャパシタの上電極13をマスクに、ブラスト法、例えば、アルミナ等の砥粒を混合した水を拭き当てるウエットブラスト機により、表面に露出している誘電体1を除去する事により、誘電体と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部9と配線部12の側面とが、ビア部8を除き絶縁体6(図では、プリプレグ6)で覆われている構造を形成する。それに加えて必要であれば、所望の配線12上に、銀ペーストを印刷、又は、銀めっきを施し、更に、その配線12間に印刷抵抗体14を設ける。次いで、残された一連の配線基板の工程を行う事で配線基板を作製する方法である。
リソ法及びウエットエッチング法にて、シート材3の片側の金属層2にキャパシタ下電極9及び配線12を形成する。次いで、シート材3のキャパシタ下電極9及び配線12形成面側と、配線基板の積層途中工程における基板5とを、位置合わせを行い、プリプレグ6材を介して熱プレス加工する。次いで、基板5上の所望の下層配線11と電気的接続を行う為に、フォトリソ及びエッチング法により、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させ、炭酸ガスレーザー等により、誘電体1および絶縁層(プリプレグ6)を除去し、無電解及び電解めっき法により、ビア8をする。次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望のキャパシタ上電極13を形成する。ここでは、キャパシタ上電極のみで、配線は形成しない。次に、キャパシタの上電極13をマスクに、ブラスト法、例えば、アルミナ等の砥粒を混合した水を拭き当てるウエットブラスト機により、表面に露出している誘電体1を除去する事により、誘電体と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部9と配線部12の側面とが、ビア部8を除き絶縁体6(図では、プリプレグ6)で覆われている構造を形成する。それに加えて必要であれば、所望の配線12上に、銀ペーストを印刷、又は、銀めっきを施し、更に、その配線12間に印刷抵抗体14を設ける。次いで、残された一連の配線基板の工程を行う事で配線基板を作製する方法である。
以下、実施例1により本発明を具体的に説明する。
図2(a)から(i)に従って実施例1を説明する。
誘電体1が2枚の銅箔4で挟まれたシート材3、具体的には、エポキシ系樹脂に酸化チタンやチタン酸バリウム等を混入させた10μm厚の誘電体1を12μm厚の銅箔4で挟んだシート材3を用意し(図2(a))、一方の片面に、フォトレジストを用いて露光現像を行うフォトリソ及び銅を腐食させるエッチング法により、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させ、且つ、所望のキャパシタ下電極9および配線12を形成する(図2(b))。尚ここで、後工程である図2(e)の所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を同時にエッチングにより露出させても良い。プリプレグ6と非接着面側の銅箔4は、ビアとなる部分7以外が残り、十分な強度を保つ状態であるからである。次いで、シート材3の片面に所望の下電極9が形成された面と、配線基板の積層途中工程における、例えばガラスクロス入りエポキシ系樹脂等の絶縁樹脂10上に、下層配線11が形成された面を、プリプレグ6を介して加熱プレスした(図2(c、d))。
次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、他方の片面側の、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させた(図2(e))。次いで、炭酸ガスレーザーにより、誘電体1及び絶縁層(プリプレグ6)を除去し(図2(f))、無電解銅及び電解銅めっき法により、ビア8を形成し、所望の下層配線11との電気的接続をした(図2(g))。次いで、銅箔4上に析出された銅を再び12μm厚程度になるように、硫酸アンモニウム水溶液でソフトエッチングし、再び、フォトリソ及びエッチング法により、所望のキャパシタの上電極13を形成した(図2(h))。
次に、フォトレジストは剥離せずに(工程短縮の為であり、剥離しても良い)、上電極13をマスクとし、約5μm径のアルミナ等の微細砥粒をエアー圧0.2MPa等でノズルから噴出させ、対象物の表面を削るウエットブラスト法により物理的に誘電体1を除去した(図2(i))。次いで、所望の配線12上に、部分無電解銀のめっきを行い、銀薄膜を0.5μm厚程度設け、次いで、所望の銀薄膜が形成された配線12間にカーボンペーストを印刷することで、印刷抵抗体14を設けた。
次いで、残された一連の配線基板の製造工程を行う事で、本発明の配線基板を作製した。
図3(a)から(i)に従って実施例2を説明する。
エポキシ系樹脂に酸化チタンやチタン酸バリウム等を混入させた10μm厚の誘電体1の両側を12μm厚の銅箔4で挟んだシート材3を用意し(図3(a))、一方の面側に、フォトレジストを用いて露光現像を行うフォトリソ及び銅を腐食させるエッチング法により、所望のキャパシタ下電極9および配線12を形成した(図3(b))。次いで、シート材3の片面に所望の下電極9が形成された面と、銅箔4の粗面化された面を、プリプレグ6を介して加熱プレスした(図3(c、d))。
次いで、再び、フォトリソ及びエッチング法により、シート材3とは反対側に、所望のビアとなる部分7の誘電体1表面を露出させる(図3(e))。次いで、炭酸ガスレーザー等により、絶縁層(プリプレグ6)を除去し(図3(f))、無電解銅及び電解銅めっき法により、ビア8を形成し、シート材3側の所望の配線12との電気的接続をした(図3(g))。次いで、シート材3の銅箔4上に析出された銅を再び12μm厚程度になるように、硫酸アンモニウム水溶液でソフトエッチングし、再び、フォトリソ及びエッチング法により、シート材3側に所望のキャパシタの上電極13、シート材3とは反対側に配線12を形成した(図3(h))。
次に、フォトレジストは剥離せずに(工程短縮の為であり、剥離しても良い)、キャパシタ上電極13をマスクとし、約5μm径のアルミナ等の微細砥粒をエアー圧0.2MPa等でノズルから噴出させ、対象物の表面を削るウエットブラスト法により物理的に誘電体1を除去した(図3(i))。次いで、所望の配線12上に、部分無電解銀のめっきを行い、銀薄膜を0.5μm厚程度設け、次いで、所望の銀薄膜が形成された配線12間にカーボンペーストを印刷することで、印刷抵抗体14を設けた。
次いで、残された一連の配線基板の製造工程を行う事で、本発明の配線基板を作製した。
本発明の配線基板の製造方法は、特に、携帯機器等の配線基板のような、小型化させ、電気的特性を向上させるといった、受動素子を内蔵する配線基板の製造に利用でき、特に、配線基板の層数を低減させ、且つ、電気的特性を向上させ、また、印刷抵抗体の抵抗値バラツキの低減、および印刷抵抗体の小型化を可能とする。
1・・・誘電体
2・・・金属箔
3・・・シート材
4・・・銅箔
5・・・基板
6・・・プリプレグ
7・・・ビアとなる部分
8・・・ビア
9・・・下電極
10・・・絶縁樹脂 11・・・下層配線
12・・・配線
13・・・上電極
14・・・印刷抵抗体
2・・・金属箔
3・・・シート材
4・・・銅箔
5・・・基板
6・・・プリプレグ
7・・・ビアとなる部分
8・・・ビア
9・・・下電極
10・・・絶縁樹脂 11・・・下層配線
12・・・配線
13・・・上電極
14・・・印刷抵抗体
Claims (3)
- 誘電体層が両面より少なくとも1層の金属層で挟まれたシート材より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板において、シート材の一方の面側の金属層はキャパシタ電極部のみが形成され、他の面側の金属層はキャパシタ電極部と配線部が形成され、誘電体は両キャパシタ電極部の間のみ存在し、他の面側の金属層は、誘電体と接している面とは反対側の面と、キャパシタ電極部と配線部の側面とが、ビア部を除き絶縁体で覆われている事を特徴とする配線基板。
- 他の面側の配線部の配線間に抵抗体が形成されている事を特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 誘電体層が両側より少なくとも1層の金属層で挟まれたシート材より形成されるキャパシタが内蔵される配線基板の製造方法において、
1)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、シート材の片側の金属層にキャパシタ下電極及び配線を形成する工程、
2)該シート材のキャパシタ下電極及び配線形成面側と、配線基板の積層途中工程における基板、もしくは、金属箔とを、プリプレグ材を介して熱プレス加工する工程、
3)フォトリソ法及びウエットエッチング法を用い、該シート材の反対側の金属層に、キャパシタ上電極を形成する工程、
4)上電極をマスクとし、ブラスト法により、露出した誘電体を除去し、誘電体パターンを形成する工程、
を具備することを特徴とする配線基板の製造方法。
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100615 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100723 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20101207 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |