JP2006309022A - 描画装置および描画方法 - Google Patents

描画装置および描画方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006309022A
JP2006309022A JP2005133592A JP2005133592A JP2006309022A JP 2006309022 A JP2006309022 A JP 2006309022A JP 2005133592 A JP2005133592 A JP 2005133592A JP 2005133592 A JP2005133592 A JP 2005133592A JP 2006309022 A JP2006309022 A JP 2006309022A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transfer
fluctuation amount
position fluctuation
unit
image pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005133592A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Fukui
隆史 福井
Kazuhiro Terada
和広 寺田
Toru Katayama
徹 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2005133592A priority Critical patent/JP2006309022A/ja
Priority to US11/912,770 priority patent/US20090033952A1/en
Priority to KR1020077025979A priority patent/KR20080005413A/ko
Priority to PCT/JP2006/308705 priority patent/WO2006118134A1/ja
Priority to CNA2006800235392A priority patent/CN101213494A/zh
Publication of JP2006309022A publication Critical patent/JP2006309022A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Processing Or Creating Images (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
JP2005133592A 2005-04-28 2005-04-28 描画装置および描画方法 Pending JP2006309022A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005133592A JP2006309022A (ja) 2005-04-28 2005-04-28 描画装置および描画方法
US11/912,770 US20090033952A1 (en) 2005-04-28 2006-04-26 Image plotting apparatus and image plotting method
KR1020077025979A KR20080005413A (ko) 2005-04-28 2006-04-26 묘화 장치 및 묘화 방법
PCT/JP2006/308705 WO2006118134A1 (ja) 2005-04-28 2006-04-26 描画装置および描画方法
CNA2006800235392A CN101213494A (zh) 2005-04-28 2006-04-26 描绘装置及描绘方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005133592A JP2006309022A (ja) 2005-04-28 2005-04-28 描画装置および描画方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006309022A true JP2006309022A (ja) 2006-11-09

Family

ID=37475962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005133592A Pending JP2006309022A (ja) 2005-04-28 2005-04-28 描画装置および描画方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2006309022A (zh)
CN (1) CN101213494A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013520699A (ja) * 2010-02-26 2013-06-06 マイクロニック マイデータ エービー パターンを整列させる方法及び装置
JP2016048273A (ja) * 2014-08-27 2016-04-07 株式会社オーク製作所 描画装置
WO2019026609A1 (ja) * 2017-08-01 2019-02-07 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103048885B (zh) * 2011-10-11 2015-02-25 中山新诺科技股份有限公司 无掩膜曝光系统及方法
JP6116456B2 (ja) * 2013-09-25 2017-04-19 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 描画方法および描画装置
JP6876470B2 (ja) * 2017-03-07 2021-05-26 東京エレクトロン株式会社 ワーク加工装置、ワーク加工方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139340A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Nikon Corp 位置ずれ補正方法
JP2001255476A (ja) * 2000-03-13 2001-09-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザ描画装置
JP2001296667A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nikon Corp 走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク
JP2004319899A (ja) * 2003-04-18 2004-11-11 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2005037911A (ja) * 2003-07-02 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置、画像記録方法及びプログラム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139340A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Nikon Corp 位置ずれ補正方法
JP2001255476A (ja) * 2000-03-13 2001-09-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd レーザ描画装置
JP2001296667A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Nikon Corp 走査露光方法および走査型露光装置並びにマスク
JP2004319899A (ja) * 2003-04-18 2004-11-11 Nikon Corp 露光装置及び露光方法
JP2005037911A (ja) * 2003-07-02 2005-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録装置、画像記録方法及びプログラム

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013520699A (ja) * 2010-02-26 2013-06-06 マイクロニック マイデータ エービー パターンを整列させる方法及び装置
JP2016048273A (ja) * 2014-08-27 2016-04-07 株式会社オーク製作所 描画装置
WO2019026609A1 (ja) * 2017-08-01 2019-02-07 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN101213494A (zh) 2008-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006309021A (ja) ワーク位置情報取得方法および装置
JP4450739B2 (ja) 露光装置
EP2250534B1 (en) Laser processing a multi-device panel
US8599358B2 (en) Maskless exposure apparatuses and frame data processing methods thereof
JP6828766B2 (ja) パターン描画装置
KR20060045355A (ko) 노광장치의 교정방법, 노광방법 및 노광장치
CN109557768B (zh) 曝光装置以及曝光方法
JP2006309022A (ja) 描画装置および描画方法
JP4533785B2 (ja) アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置
JP4351694B2 (ja) アライメントユニット及びこれを用いた画像記録装置
TWI260155B (en) Method and device for graph image recording
JP2007304546A5 (zh)
WO2006112484A1 (ja) 搬送誤差計測方法、校正方法、描画方法、露光描画方法、描画装置及び露光描画装置
JP2006337873A (ja) 露光装置及び露光方法
KR20080005413A (ko) 묘화 장치 및 묘화 방법
JP2006337878A (ja) 露光装置及び露光方法
JP2005283893A (ja) 露光装置の校正方法及び露光装置
JP2006309023A (ja) 描画装置および描画方法
JP2006337874A (ja) 露光装置及び露光方法
JP2008242218A (ja) 描画装置及び描画方法
JP2008083227A (ja) アライメントマーク位置測定装置及び方法、及び描画装置
JP2007271796A (ja) 露光装置、描画方法及び描画装置
JP2006058496A (ja) 基板測定装置及び基板搬送装置並びに基板測定装置を備えた画像形成装置と基板測定方法
TW202309674A (zh) 描繪裝置以及描繪方法
JP2007058207A (ja) 描画方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061211

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100406

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100727