JP2006288251A - 細胞培養基材及び細胞培養方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水に均一に分散した水膨潤性粘土鉱物の存在下で、水溶性有機モノマーを放射線の照射により重合させてなる高分子ヒドロゲルからなり、水溶性有機モノマーの重合体と水膨潤性粘土鉱物とから構成される三次元網目構造を有し、かつ、外部環境変化にともない親水性と疎水性とが可逆的に変化することを特徴とする細胞培養基材。
【選択図】 なし
Description
本発明の細胞培養基材に用いられる高分子ヒドロゲルは、上記水膨潤性粘土鉱物と水溶性有機モノマーの重合体が三次元網目構造を有するものであることから、細胞を培養した後、高分子ヒドロゲルから細胞を剥離する際に破壊することがなく、形状を維持できる特徴を有する。また本発明の細胞培養基材に用いられる高分子ヒドロゲルは、細胞を培養後、次の実験位置まで移動させる必要がある場合に、培養した細胞のシートを破壊することなく移動できる。該高分子ヒドロゲルは、含水率90%の状態において、1kPa以上の引っ張り弾性率、20kPa以上の引っ張り強度、および50%以上の破断伸びのものを実現でき、これら特性を有するものは好ましく使用できる。また引っ張り弾性率が5kPa以上、引っ張り強度が50kPa以上、破断伸びが50%以上であればより好ましく、引っ張り弾性率が10kPa以上、引っ張り強度が80kPa以上、破断伸びが100%以上であればさらに好ましい。このような機械物性を持つ高分子ヒドロゲルは、細胞培養に適した表面状態を得ることが出来る。また含水率90%の条件において、このような力学物性をもつ高分子ヒドロゲルは、細胞培養を行う際、疎水性を示す状態においても優れた力学物性を保持し、細胞を培養後、形状にかかわらず、優れた形状安定性、取り扱い性、移動性などを示す。
本発明に用いられる非水溶性の重合開始剤としては、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン類、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類、2−メチルチオキサントンなどのケトン類、ベンゾインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα−ヒドロキシケトン類、メチルベンゾイルホルメートなどのフェニルグリオキシレート類、メタロセン類などが挙げられる。
本発明の細胞培養基材に用いられる高分子ヒドロゲルは、各種形状に形成される際、任意の厚みで形成が可能である特徴を有し、特に支持体に被覆して用いられる際は、調製の容易さ、放射線照射による重合後の残留モノマーの低減、支持体からの剥離の容易さ等の理由から、放射線照射後の厚みが1000μm以下のものが好ましく用いられ、さらに好ましくは、10〜500μmのものが用いられる。
細胞を培養する際には、細胞培養基材を滅菌してから用いる必要があるが、該滅菌工程は、高分子ヒドロゲルに対する放射線照射、蒸気滅菌、ガス滅菌等が可能である。このうち、ガンマ線等の放射線照射はより好ましく用いられ、特に、高分子ヒドロゲルの乾燥物に対して好ましく行うことが出来る。これにより高分子ヒドロゲルの性質を大きく低減させることなく、また、細胞に対して悪影響を与える物質が残留することなく細胞培養基材の滅菌を行うことができる。
粘土鉱物には、[Mg5.34Li0.66Si8O20(OH)4]Na+ 0.66の組成を有する水膨潤性合成ヘクトライト(Rockwood Ltd.製「ラポナイトXLG」)を真空乾燥して用いた。有機モノマーは、N−イソプロピルアクリルアミド(興人株式会社製:以下、NIPAと略記。)を既知の方法により精製して、重合禁止剤を取り除いてから使用した。超純水は、全て微粒子除去用フィルターを通した高純度窒素をあらかじめ充分にバブリングさせ、含有酸素を除去してから使用した。
上記実施例1で得られた細胞培養基材(A)を入れた細胞培養ディッシュを用いて、細胞の培養を行った。培養する細胞は、正常ヒト皮膚繊維芽細胞(大日本製薬株式会社製)を使用した。培養は、CS−C培地(大日本製薬株式会社製)を使用して、5%二酸化炭素含有37℃恒温器内で行った。また細胞培養基材(A)を入れたディッシュは2枚用意し、同じ条件で同時に播種を行った。播種してから1週間後、この培養を行った細胞培養基材(A)を入れたディッシュ1枚を20℃恒温槽内に5分間静置してから、表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が細胞培養基材(A)上に接着して、また十分に増殖していたことが確認された。この培養を行ったもう1枚の細胞培養基材(A)を入れたディッシュから細胞培養基材(A)を培養した細胞ごと取り出して、あらかじめ20℃に保持しておいたCS−C培地を含む組織培養ディッシュに移し替えた。蓋をしてから20℃で10分間静置後、細胞培養基材(A)上に増殖した細胞をピンセットで摘むことにより、細胞をシート状に細胞培養基材(A)から分離できた。この時、細胞培養基材(A)に何ら損傷はなく、またシート状の細胞にも何ら付着物は見られなかった。この取り出したシート状細胞についてトリプシン−EDTA処理を行うことにより、各細胞を個々の状態に分離した後、トリパンブルー染色を行うことによって、生細胞数を計測したところ、培養開始時には2.5×106個であった細胞数が、培養後は9.1×107個に増加したことが確認された。
添加するラポナイトXLGの量を1.6gとする以外は実施例1と同様にして、ほぼ無色透明で均一なシート状のヒドロゲル(B)を合成した。得られたヒドロゲル(B)を用いて、実施例1と同様にして、20℃および50℃における水に対する接触角を測定したところ、20℃では29°、50℃保持状態では45°であり、得られた細胞培養基材(B)は、温度条件により親水性と疎水性の両特性を示すことが確認された。得られたヒドロゲル(B)を、20℃で2Lの超純水に2日間浸漬して、ヒドロゲルを膨潤させてから取り出し、次いで50℃の超純水1Lに2日間浸漬して、ヒドロゲルを収縮させてから取り出した。該洗浄による精製操作を3回繰り返した後、精製したシート状のヒドロゲル(B)の四辺を変形しないように末端をクリップで固定して、クリーンベンチ内で3日間乾燥させることにより、ほぼ透明なヒドロゲルの乾燥物(B)を得た。得られたヒドロゲルの乾燥物(B)を、ガス遮断ポリ袋に入れて密封し、ガンマ線照射を行った(線源:コバルト60、ラジエ工業株式会社)。照射量は、25kGyとした。照射後のヒドロゲルの乾燥物(B)には特に変形や変色は見られなかった。得られたガンマ線照射後のヒドロゲルの乾燥物(B)を直径8cmの大きさに切断し、ヒドロゲルの乾燥物(B)からなる細胞培養基材(B)とした。
細胞培養用ディッシュ「ファルコン3003」を何も表面処理を行わずに使用して、細胞培養を行った。細胞及び培地、培養条件は実施例1と同様にして行った。培養開始から1週間後にディッシュ表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が接着して増殖していることが確認された。この培養を行ったディッシュを20℃の恒温槽に入れて,10分間静置後、ディッシュ上の細胞を取り出そうとしたが、全く剥離しなかった。また、公知の方法により、トリプシンを用いて培養細胞の分離を行ったところ、細胞が個々の細胞に分かれてしまい、細胞をシート状に取り出すことは不可能であった。
粘土鉱物を用いないこと、またNIPAモノマーを添加した後、有機架橋剤をモノマーの5モル%添加すること以外は実施例1と同様にして、有機架橋ヒドロゲルを重合した。有機架橋剤としては、N,N’−メチレンビスアクリルアミド(和光純薬工業株式会社製)をそのまま使用した。その結果、20℃において白色化したシート状のヒドロゲル(C)が得られた。この得られたシート状のヒドロゲル(C)を実施例1と同様にして、精製を行ってから、細胞培養用ディッシュに移し替えたが、ヒドロゲルシート(C)は非常に脆く、精製及び移し替えは困難であった。またこのヒドロゲルシート(C)の接触角は、50℃保持状態で49°であった。
Claims (12)
- 水に均一に分散した水膨潤性粘土鉱物の存在下で、水溶性有機モノマーを放射線の照射により重合させてなる高分子ヒドロゲルからなり、水溶性有機モノマーの重合体と水膨潤性粘土鉱物とから構成される三次元網目構造を有し、かつ、外部環境変化にともない親水性と疎水性とが可逆的に変化することを特徴とする細胞培養基材。
- 前記高分子ヒドロゲルが、非水溶性の重合開始剤を水中に分散させた溶液中で、均一に分散した水膨潤性粘土鉱物の共存下において、水溶性有機モノマーを放射線の照射により重合させてなる高分子ヒドロゲルである請求項1に記載の細胞培養基材。
- 前記高分子ヒドロゲルが、一定の温度を境界にして親水性と疎水性とが可逆的に変化する高分子ヒドロゲルである請求項1又は2に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーの重合体が、下限臨界共溶温度を有する請求項1又は2に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーが、N−置換アクリルアミド誘導体、N,N−ジ置換アクリルアミド誘導体、N−置換メタクリルアミド誘導体、N,N−ジ置換メタクリルアミド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項4に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーが、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−シクロプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチル−N−メチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−メチル−N−n−プロピルアクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアクリルアミド、N−アクリロイルピペリディン、N−アクリロイルピロリディンからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項4に記載の細胞培養基材。
- 前記水膨潤性粘土鉱物が、水膨潤性のヘクトライト、水膨潤性のモンモリロナイト、水膨潤性のサポナイト、水膨潤性の合成雲母からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1〜6のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 前記高分子ヒドロゲルが、含水率90%の条件において、1kPa以上の引っ張り弾性率、20kPa以上の引っ張り強度、および50%以上の破断伸びを有する高分子ヒドロゲルである請求項1〜7のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の細胞培養基材を乾燥させた細胞培養基材乾燥物。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の細胞培養基材を使用して、該細胞培養基材が疎水性を示す温度で細胞を培養した後、該細胞培養基材の温度を下げ、該細胞培養基材が親水性を示す温度とすることにより培養した細胞を該細胞培養基材から分離する細胞培養方法。
- 請求項9に記載の細胞培養基材乾燥物を使用して、該細胞培養基材乾燥物に培地液を吸収させ、培地液を吸収した基材が疎水性を示す温度で細胞を培養した後、該培地液を吸収した基材の温度を下げ、該培地液を吸収した基材が親水性を示す温度とすることにより培養した細胞を該培地液を吸収した基材から分離する細胞培養方法。
- 前記培地液を吸収させる量が、細胞培養基材乾燥物の質量に対して0.01〜5の範囲の質量である請求項11に記載の細胞培養方法。
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