JP2006271252A - 細胞培養基材及び細胞培養方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水溶性有機モノマーの重合体と、水膨潤性粘土鉱物と、有機架橋剤とから構成される三次元網目構造を有する架橋高分子ヒドロゲルからなり、かつ、外部環境変化にともない親水性と疎水性とが可逆的に変化する細胞培養基材。
【選択図】 なし
Description
このような有機架橋剤の例としては、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−プロピレンビスアクリルアミド、ジ(アクリルアミドメチル)エーテル、1,2−ジアクリルアミドエチレングリコール、1,3−ジアクリロイルエチレンウレア、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、N,N’−ジアリルタータルジアミド、N,N’−ビスアクリリルシスタミンなどの二官能性化合物や、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートなどの三官能性化合物が例示される。
粘土鉱物には、[Mg5.34Li0.66Si8O20(OH)4]Na+ 0.66の組成を有する水膨潤性合成ヘクトライト(Rockwood Ltd.製「ラポナイトXLG」)を真空乾燥して用いた。有機モノマーは、N−イソプロピルアクリルアミド(興人株式会社製:以下、NIPAと略記。)を既知の方法により精製して、重合禁止剤を取り除いてから使用した。重合開始剤は、ペルオキソ二硫酸カリウム(関東化学株式会社製:以下、KPSと略記。)をKPS/水=0.40/20(g/g)の割合で脱酸素した超純水中に溶解し、水溶液にして使用した。有機架橋剤は、N,N’−メチレンビスアクリルアミド(和光純薬工業株式会社性:以下BISと略記。)を使用した。触媒は、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン(和光純薬工業株式会社製:以下、TEMEDと略記。)を使用した。超純水は、全て微粒子除去用フィルターを通した高純度窒素をあらかじめ充分にバブリングさせ、含有酸素を除去してから使用した。
上記作製例1で得られた細胞培養基材(A)含有細胞培養ディッシュを用いて、細胞の培養を行った。培養する細胞は、ヒト肝上皮細胞由来のガン細胞HepG2細胞株(大日本製薬株式会社製)を使用した。培養は、ウシ胎児血清(ICN製)を10%含有するミニマム・エッセンシャル・イーグル培地(SIGMA製)(ピルビン酸(ICN製)及び非必須アミノ酸(ICN製)を添加剤として含有)を使用して、5%二酸化炭素含有37℃恒温器内で行った。播種してから1週間後、このディッシュ内の細胞培養基材(A)の端を一部切り取り、20℃恒温槽内に5分間静置してから、表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が細胞培養基材(A)上に接着して、また十分に増殖していたことが確認された。この培養を行った細胞培養基材(A)含有ディッシュから細胞培養基材(A)を培養した細胞ごと取り出して、トリプシン−EDTA処理を行うことにより、各細胞を個々の状態に分離した後、トリパンブルー染色を行うことによって、生細胞数を計測したところ、培養開始時には2.0×106個であった細胞数が、培養後は4.4×107個に増加したことが確認された。
上記作製例1で得られた細胞培養基材(A)含有細胞培養ディッシュを用いて、細胞の培養を行った。培養する細胞は、正常ヒト皮膚繊維芽細胞(大日本製薬株式会社製)を使用した。培養は、CS−C培地(大日本製薬株式会社製)を使用して、5%二酸化炭素含有37℃恒温器内で行った。播種してから1週間後、このディッシュ内の細胞培養基材(A)の端を一部切り取り、20℃恒温槽内に5分間静置してから、表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が細胞培養基材(A)上に接着して、また十分に増殖していたことが確認された。この培養を行った細胞培養基材(A)含有ディッシュから細胞培養基材(A)を培養した細胞ごと取り出して、あらかじめ20℃に保持しておいたCS−C培地を含む組織培養ディッシュに移し替えた。蓋をしてから20℃で10分間静置後、細胞培養基材(A)上に増殖した細胞をピンセットで摘むことにより、細胞をシート状に細胞培養基材(A)から分離できた。この時、細胞培養基材(A)に何ら損傷はなく、またシート状の細胞にも何ら付着物は見られなかった。この取り出したシート状細胞についてトリプシン−EDTA処理を行うことにより、各細胞を個々の状態に分離した後、トリパンブルー染色を行うことによって、生細胞数を計測したところ、培養開始時には2.5×106個であった細胞数が、培養後は3.9×107個に増加したことが確認された。
BISを16.8mg加えること以外は作製例1と同様にして、無色透明で均一なシート状のヒドロゲル(B)を得た。シート状のヒドロゲル(B)の引っ張り試験を作製例1と同様の方法で行ったところ、引っ張り破断強度が170kPa、破断伸びが220%、弾性率が22.2kPaであった。このシート状のヒドロゲル(B)を、作製例1と同様にして、精製を行った後、直径8cmの大きさに切断して細胞培養基材(B)とした。得られた細胞培養基材(B)の表面に置ける接触角は、50℃保持状態で65°であった。
作製例2で得られた細胞培養基材(B)含有細胞培養ディッシュを用いて、細胞の培養を行った。培養する細胞は、ヒト血管内皮細胞(HUVEC)(倉敷紡績株式会社製)を使用した。培養は、血管内皮細胞基礎培地(HuMedia−EG2:倉敷紡績株式会社製)にHuMedia−EG2増殖添加剤(倉敷紡績株式会社製)を添加したものを培地として使用して、5%二酸化炭素含有37℃恒温器内で行った。細胞を播種してから1週間後、このディッシュ内のヒドロゲルシートの端を一部切り取り、20℃恒温槽内に5分間静置してから、表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が細胞培養基材(B)上に接着して、また十分に増殖していたことが確認された。この培養を行った細胞培養基材(B)含有ディッシュから細胞培養基材(B)を培養された細胞ごと取り出して、あらかじめ20℃に保持しておいたウシ胎児血清を10%含有するミニマム・エッセンシャル・イーグル培地を含む組織培養ディッシュに移し替えた。蓋をしてから20℃で10分間静置後、細胞培養基材(B)上に増殖した細胞をピンセットで摘むことにより、細胞をシート状に細胞培養基材(B)から分離できた。この時、細胞培養基材(B)に何ら損傷はなく、またシート状の細胞にも何ら付着物は見られなかった。この取り出したシート状細胞について実施例2と同様の方法で生細胞数を計測したところ、培養開始時には1.9×106個であった細胞数が、培養後には3.0×107個に増加したことが確認された。
細胞培養用ディッシュ「ファルコン3003」を何も表面処理を行わずに使用して、細胞培養を行った。細胞及び培地、培養条件は実施例2と同様にして行った。培養開始から1週間後にディッシュ表面を光学顕微鏡にて観察したところ、細胞が接着して増殖していることが確認された。この培養を行ったディッシュを20℃の恒温槽に入れて,10分間静置後、ディッシュ上の細胞を取り出そうとしたが、全く剥離しなかった。また、公知の方法により、トリプシンを用いて培養細胞の分離を行ったところ、細胞が個々の細胞に分かれてしまい、細胞をシート状に取り出すことは不可能であった。
粘土鉱物を用いないこと以外は作製例1と同様にして、有機架橋ヒドロゲルを重合した。有機架橋剤としては、N,N’−メチレンビスアクリルアミド(和光純薬工業株式会社製)をそのまま使用した。その結果、20℃において白色化したシート状のヒドロゲル(C)が得られた。この得られたシート状のヒドロゲル(C)を作製例1と同様にして、精製を行ってから、細胞培養用ディッシュに移し替えたが、ヒドロゲルシート(C)は非常に脆く、精製及び移し替えは困難であった。またこのヒドロゲルシート(C)の接触角は、50℃保持状態で49°であった。
Claims (10)
- 水溶性有機モノマーの重合体と、水膨潤性粘土鉱物と、有機架橋剤とから構成される三次元網目構造を有する架橋高分子ヒドロゲルからなり、かつ、外部環境変化にともない親水性と疎水性とが可逆的に変化することを特徴とする細胞培養基材。
- 前記架橋高分子ヒドロゲルが、一定の温度を境界にして親水性と疎水性とが可逆的に変化する架橋高分子ヒドロゲルである請求項1に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーの重合体が、下限臨界共溶温度を有する請求項1又は2に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーが、N−置換アクリルアミド誘導体、N,N−ジ置換アクリルアミド誘導体、N−置換メタクリルアミド誘導体、N,N−ジ置換メタクリルアミド誘導体からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項3に記載の細胞培養基材。
- 前記水溶性有機モノマーが、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−シクロプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチル−N−メチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−メチル−N−n−プロピルアクリルアミド、N−メチル−N−イソプロピルアクリルアミド、N−アクリロイルピペリディン、N−アクリロイルピロリディンからなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項3に記載の細胞培養基材。
- 前記水膨潤性粘土鉱物が、水膨潤性のヘクトライト、水膨潤性のモンモリロナイト、水膨潤性のサポナイト、水膨潤性の合成雲母からなる群から選ばれる少なくとも一種である請求項1〜5のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 前記有機架橋剤の含有率が水溶性有機モノマーに対して0.1〜30質量%の範囲にある請求項1〜6のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 前記有機架橋剤がN,N’−メチレンビスアクリルアミド、N,N’−プロピレンビスアクリルアミド、ジ(アクリルアミドメチル)エーテル、1,2−ジアクリルアミドエチレングリコール、1,3−ジアクリロイルエチレンウレア、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、N,N’−ジアリルタータルジアミド、N,N’−ビスアクリリルシスタミンから選ばれる少なくとも一種である請求項1〜7のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 前記架橋高分子ヒドロゲルが、水に均一に分散した水膨潤性粘土鉱物の存在下で、水溶性有機モノマー及び有機架橋剤を重合させてなる架橋高分子ヒドロゲルである請求項1〜8のいずれかに記載の細胞培養基材。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の細胞培養基材を使用して、該細胞培養基材が疎水性を示す温度で細胞を培養した後、該細胞培養基材の温度を下げ、該細胞培養基材が親水性を示す温度とすることにより培養した細胞を該細胞培養基材から分離する細胞培養方法。
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