JP2006287817A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7777567B2 (en) * 2007-01-25 2010-08-17 Mks Instruments, Inc. RF power amplifier stability network
JP4882824B2 (ja) * 2007-03-27 2012-02-22 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体
JP5344733B2 (ja) * 2007-09-14 2013-11-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ 高周波電力発生装置
KR101282026B1 (ko) * 2007-10-15 2013-07-04 삼성전자주식회사 표면 탄성파 센서 및 표면 탄성파를 이용한 센싱 방법
WO2010091697A1 (de) * 2009-02-13 2010-08-19 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Verfahren zur leistungsversorgung eines plasmaprozesses und plasmaversorgungseinrichtung
CN202721890U (zh) * 2009-02-13 2013-02-06 许廷格电子两合公司 用于等离子体供给装置的模块和等离子体供给装置
WO2010110256A1 (ja) * 2009-03-27 2010-09-30 東京エレクトロン株式会社 チューナおよびマイクロ波プラズマ源
US8659335B2 (en) * 2009-06-25 2014-02-25 Mks Instruments, Inc. Method and system for controlling radio frequency power
TWI425876B (zh) * 2010-09-30 2014-02-01 Beyond Innovation Tech Co Ltd 螢光燈管的驅動裝置與方法
TWI462649B (zh) * 2011-07-11 2014-11-21 Beyond Innovation Tech Co Ltd 螢光燈管的驅動裝置
JP5817906B2 (ja) * 2012-02-23 2015-11-18 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置、および高周波発生器
CN102679417B (zh) * 2012-05-21 2014-06-11 广东美的厨房电器制造有限公司 半导体微波炉
CN103580608B (zh) * 2013-09-11 2016-08-31 昆山龙仕达电子材料有限公司 一种可调信号源电路
US10368404B2 (en) * 2014-03-21 2019-07-30 Whirlpool Corporation Solid-state microwave device
TW201613421A (en) 2014-07-03 2016-04-01 Tokyo Electron Ltd Plasma processing apparatus and plasma processing method
JP6817889B2 (ja) * 2016-05-10 2021-01-20 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP6718788B2 (ja) * 2016-10-18 2020-07-08 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置
JP6754665B2 (ja) * 2016-10-18 2020-09-16 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置
US10790118B2 (en) * 2017-03-16 2020-09-29 Mks Instruments, Inc. Microwave applicator with solid-state generator power source
US10707058B2 (en) 2017-04-11 2020-07-07 Applied Materials, Inc. Symmetric and irregular shaped plasmas using modular microwave sources
WO2019055476A2 (en) * 2017-09-14 2019-03-21 Cellencor, Inc. HIGH POWER SEMICONDUCTOR MICROWAVE GENERATOR FOR RADIO FREQUENCY ENERGY APPLICATIONS
JP7253985B2 (ja) * 2019-06-12 2023-04-07 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波供給機構、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
CN111262528A (zh) * 2020-03-04 2020-06-09 扬州嘉明环保科技有限公司 一种简易而稳定的正弦波信号发生电路
US11159124B2 (en) * 2020-03-09 2021-10-26 Biosense Webster (Israel) Ltd. Sine-wave generation using pulsed D-class amplifier
JP2022091378A (ja) * 2020-12-09 2022-06-21 東京エレクトロン株式会社 電源および検査装置
JP2024068670A (ja) * 2022-11-09 2024-05-21 シャープ株式会社 装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895368A (en) * 1972-08-09 1975-07-15 Sensormatic Electronics Corp Surveillance system and method utilizing both electrostatic and electromagnetic fields
EP0691733A2 (en) * 1994-07-08 1996-01-10 Victor Company Of Japan, Ltd. Frequency converting circuit
JPH10200363A (ja) * 1997-01-09 1998-07-31 Toshiba Corp 弾性表面波装置及びその製造方法
US6384540B1 (en) * 1997-02-24 2002-05-07 Advanced Energy Industries, Inc. System for high power RF plasma processing
JP2002280846A (ja) * 2001-03-14 2002-09-27 Toshiba Corp マイクロ波回路
JP3998986B2 (ja) * 2002-01-22 2007-10-31 株式会社ダイヘン 高周波電源の進行波電力制御方法及び高周波電源装置
JP3992580B2 (ja) * 2002-10-01 2007-10-17 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
TW551782U (en) * 2002-10-09 2003-09-01 Ind Tech Res Inst Microwave plasma processing device
JP2005064658A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Mitsubishi Electric Corp 電力増幅器用過出力電圧保護回路

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