JP2006281155A - 触媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 多孔質基材10と、多孔質基材10の表面上に順次積層された酸化物粒子からなる第1のコート層21、第2のコート層22と、第2のコート層22の上に設けられた触媒成分30と、を備え、第1のコート層21を構成する酸化物粒子の粒径は、第2のコート層22を構成する酸化物粒子の粒径よりも大きい。
【選択図】 図1
Description
図1は、本発明の実施形態に係る触媒体の模式的な構成を示す断面図である。
本実施形態によれば、多孔質基材10と、多孔質基材10の表面上に順次積層された酸化物粒子からなる第1のコート層21、第2のコート層22と、第2のコート層22の上に設けられた触媒成分30と、を備え、第1のコート層21を構成する酸化物粒子の粒径は、第2のコート層22を構成する酸化物粒子の粒径よりも大きいことを特徴とする触媒体が提供することができる。
ここで、本実施形態の変形例について述べておく。図3は、本実施形態の変形例としての触媒体の模式的な構成を示す断面図である。
純水150mlに対して、粒径が約800nmのシリカ粒子の粉末を約16.7g、約10%混合した。この溶液に酢酸を加えて、溶液pHを3〜4に調整し、分散性をよくした。この溶液をボールミルなどの粉砕機にて16時間粉砕することで、第1コート層の原料としての粒径のそろったシリカ粒子のスラリーが得られた。
本例では、上記第1の例における第2のコート層用のシリカ粒子の第1のシリカコート層付きコージェライトモノリス基材への担持量を1.0gに代えて0.5gとした。それによって、第2のコート層をより薄いものとした。それ以外は、上記第1の例と変わりなく、上記同様に触媒成分の担持まで行い触媒体を作成した。
本例では、上記第1の例における第2のコート層用のシリカ粒子の第1のシリカコート層付きコージェライトモノリス基材への担持量を1.0gに代えて0.2gとした。それによって、第2のコート層をより薄いものとした。それ以外は、上記第1の例と変わりなく、上記同様に触媒成分の担持まで行い触媒体を作成した。
本例では、上記第1の例における第1のコート層用のシリカ粒子のコージェライトモノリス基材への担持量を1.8gに代えて1.0gとした。それによって、第1のコート層をより薄いものとした。それ以外は、上記第1の例と変わりなく、上記同様に触媒成分の担持まで行い触媒体を作成した。
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21…第1のコート層、22…第2のコート層、30…触媒成分。
Claims (18)
- 多孔質基材(10)と、
前記多孔質基材(10)の表面上に順次積層された酸化物粒子からなる第1のコート層(21)、第2のコート層(22)と、
前記第2のコート層(22)の上に設けられた触媒成分(30)と、を備え、
前記第1のコート層(21)を構成する酸化物粒子の粒径は、前記第2のコート層(22)を構成する酸化物粒子の粒径よりも大きいことを特徴とする触媒体。 - 前記第1のコート層(21)を構成する酸化物粒子の粒径は、前記多孔質基材(10)の平均細孔径の1/2倍〜1/4倍であり、
前記第2のコート層(22)を構成する酸化物粒子の粒径は、前記多孔質基材(10)の平均細孔径の1/25倍〜1/65倍であることを特徴とする請求項1に記載の触媒体。 - 前記多孔質基材(10)はコージェライトであり、
前記第1のコート層(21)を構成する酸化物粒子の粒径は、600nm〜1000nmであり、前記第2のコート層(22)を構成する酸化物粒子の粒径は、30nm〜80nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の触媒体。 - 前記第1および第2のコート層(21、22)を構成する酸化物粒子は、CeO2、ZrO2、Al2O3、TiO2、SiO2、MgO、Y2O3、Ni2O3およびこれらの組成物から選ばれる一種または二種以上の化合物のいずれかから構成されるものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記酸化物粒子は、θ−アルミナまたはδ−アルミナからなるものであることを特徴とする請求項4に記載の触媒体。
- 前記酸化物粒子は、SiO2からなるものであることを特徴とする請求項4に記載の触媒体。
- 前記触媒成分(30)は、ナノメートルオーダの一次粒子径を持つ一種の単体微粒子または二種以上の化合物微粒子である基粒子(1)と、この基粒子(1)の表面の少なくとも一部を被覆する一種以上の金属またはそれらの組成物と、よりなる触媒粒子であることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記基粒子(1)は、金属酸化物、金属炭化物および炭素材料から選ばれたものよりなることを特徴とする請求項7に記載の触媒体。
- 前記金属酸化物は、Ce、Zr、Al、Ti、Si、Mg、W、Sr、Niの酸化物およびそれらの組成物から選ばれる一種の単体、または二種以上の化合物からなることを特徴とする請求項8に記載の触媒体。
- 前記金属炭化物は、SiCまたはその化合物からなることを特徴とする請求項8または9に記載の触媒体。
- 前記炭素材料はグラファイトであることを特徴とする請求項8ないし10のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記基粒子(1)の表面の少なくとも一部を被覆する一種以上の金属またはそれらの組成物が、50nm未満の粒径を持つ超微粒子であることを特徴とする請求項7ないし11のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記基粒子(1)の表面の少なくとも一部を被覆する一種以上の金属またはそれらの組成物が、1〜30原子層からなる被覆層(2)であることを特徴とする請求項7ないし12のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記基粒子(1)の表面の少なくとも一部を被覆する一種以上の金属またはそれらの組成物は、純度が99%以上のものであることを特徴とする請求項7ないし13のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記基粒子(1)の表面の全体ではなく一部が、前記一種以上の金属またはそれらの組成物にて被覆されていることを特徴とする請求項7ないし14のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記触媒成分(30)における前記一種以上の金属またはそれらの組成物とは、Pt、Rh、Pd、Au、Ag、Ruおよびそれらの酸化物から選ばれる一種以上の単体、または二種以上の化合物であることを特徴とする請求項7ないし15のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記第2のコート層(22)の上に、さらに前記第2のコート層(22)を構成する酸化物粒子よりも粒径の大きな酸化物粒子からなる第3のコート層(23)が設けられており、この第3のコート層(23)の上に前記触媒成分(30)が設けられていることを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1つに記載の触媒体。
- 前記第3のコート層(23)を構成する酸化物粒子の粒径は、100nm〜1000nmであることを特徴とする請求項17に記載の触媒体。
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