JP2006278759A - 配線基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】 配線基板内に内蔵された多層コンデンサの容量バラつきや容量低下を抑え、信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】 多層コンデンサに、電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第1の共通導体と、第2の電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第2の共通導体とを設ける。
【選択図】 図1
【解決手段】 多層コンデンサに、電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第1の共通導体と、第2の電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第2の共通導体とを設ける。
【選択図】 図1
Description
本発明は、絶縁基板の内部に多層コンデンサを内蔵し、表層および内部に配線層を具備した、混成集積回路基板等に適した配線基板に関するものである。
近年、IT(Information Technology)産業の中核をなす半導体分野は、半導体素子の性能向上が著しく、大型コンピュータ、パーソナルコンピュータ、移動通信端末等に代表される情報処理装置の高速化、小型化、多機能化等に寄与している。これに伴って、コンデンサを配線基板の内部に形成し配線基板が開発され、これを用いたモジュールも、小型化、高機能化、高容量化が要求されている。
特に、昨今は携帯電話や携帯情報端末への搭載が増え、これらに用いられる配線基板には複合化、高容量化が強く求められており、複数の多層コンデンサを局所的に配置させた配線基板が望まれている。
このような多層コンデンサを内蔵した配線基板は、所定の配線導体が形成された絶縁層となるセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)に、まず配線導体用ペーストをスクリーン印刷法等により塗布して第1の電極層を形成し、その上に誘電体ペーストをスクリーン印刷法等により塗布して誘電体層を形成し、さらにその上に第1の電極層と同様の方法で、第1の電極層とは面方向に位置をずらして第2の電極層を形成し、その上に所望の容量が得られるように誘電体層、第1の電極層、第2の電極層の形成を繰り返し、第1の電極層間および第2の電極層間をそれぞれ貫通導体で電気的に接続することで多層コンデンサを形成する。その後所定の配線導体が形成された絶縁層となるグリーンシートを順次積層してグリーンシート積層体を作製し、これを焼成することにより得られる。
特開平8−330187号公報
しかしながら、このようにして作製された多層コンデンサを内蔵した配線基板は、セラミック焼結体と誘電体層が接触する多層コンデンサの側面において、焼成中にセラミック焼結体の成分が誘電体層へ拡散し、誘電体組成物の焼結が阻害され、誘電体層が本来の誘電率を示さなかったり、誘電体層中に誘電率の低い成分が増えることで誘電率が低下したりして、配線基板に内蔵された多層コンデンサの容量ばらつきが大きくなったり、容量が低下してしまう可能性があった。
また、セラミック焼結体と誘電体層の熱膨張率が異なる場合、配線基板を焼成する工程における配線基板の冷却の際に、セラミック焼結体と誘電体層が接触する誘電体の側面において、熱膨張率の違いによる残留応力によってマイクロクラックが発生し、配線基板へチップ部品等を実装したりベースとなるプリント配線基板に配線基板を実装する際の加熱や、搭載したチップ部品等の動作に伴う発熱などによって、繰り返し熱応力が負荷されることでこのマイクロクラックが拡大し、誘電体層や絶縁層の絶縁性を損なう可能性があった。
本発明は上記の問題点を解決するために案出されたものであり、容量ばらつきが小さくて容量が大きく、信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を提供することにある。
本発明の配線基板は、セラミック焼結体から成る絶縁基体と、該絶縁基体の内部に積層されており、前記セラミック焼結体より誘電率の高い複数の誘電体層と、前記複数の誘電体層の各層を介して交互に積層された複数の第1の電極層および複数の第2の電極層と、前記絶縁基体の内部に形成され、前記第1の電極層の各層を電気的に接続するとともに前記複数の誘電体層の側面を覆う第1の共通導体と、前記絶縁基体の内部に形成され、前記第2の電極層の各層を電気的に接続するとともに前記複数の誘電体層の側面を覆う第2の共通導体とを備えていることを特徴とするものである。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の誘電体層の側面が、前記第1の共通導体と前記第2の共通導体とにより取り囲まれていることを特徴とするものである。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の誘電体層の層数が偶数であるとともに、前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサの最上層および最下層が前記複数の第1の電極層であり、かつ、前記第1の共通導体が前記多層コンデンサの側面の1/2以上を覆っていることを特徴とするものである。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記多層コンデンサが円柱状であることを特徴とするものである。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、前記多層コンデンサの4つの側面が前記第1および第2の共通導体で覆われていることを特徴とするものである。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、前記第1の共通導体または前記第2の共通導体が前記多層コンデンサの2つの側面を覆っていることを特徴とするものである。
本発明の配線基板は、絶縁基体の内部に形成され、第1の電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第1の共通導体と、絶縁基体の内部に形成され、第2の電極層の各層を電気的に接続するとともに複数の誘電体層の側面を覆う第2の共通導体とを備えていることにより、複数回積層された誘電体層の側面と絶縁基体のセラミック焼結体との間には共通導体が介在し、誘電体層の側面とセラミック焼結体とが直接接触する面積を低減させることができる。この共通導体は、バリア層として機能し、焼成時にセラミック焼結体の成分が誘電体層へ拡散することを妨げることができることから、誘電体層は、誘電体の焼結が阻害されることがなく、また、誘電率を低下させる誘電率の低い成分が増えることがないので、容量ばらつきが小さくて容量が大きいコンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
また、配線基板を焼成する工程における冷却の際に、セラミック焼結体と誘電体層の熱膨張率の違いによる残留応力が発生しても、共通導体が塑性変形して応力を緩和させることができるので、マイクロクラックの発生を防止できる。また、配線基板へチップ部品等を実装したり、ベースとなるプリント配線基板に配線基板を実装する際の加熱や、搭載したチップ部品等の動作に伴う発熱などによって繰り返し熱応力が負荷されても共通導体が熱応力を緩和することができるので、マイクロクラックの発生を抑え、誘電体層や絶縁層の絶縁性が保たれ、信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の誘電体層の側面が、前記第1の共通導体と前記第2の共通導体とにより取り囲まれていることから、誘電体層の側面のより広い領域に共通導体が介在しているため、拡散を防止する効果が増していっそう容量ばらつきが小さく容量が高い多層コンデンサを得ることができ、応力緩和の効果が増して誘電体層や絶縁層の絶縁性を保ち、より信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
また、本発明の配線基板は、前記した構造において、前記複数の誘電体層の層数が偶数であるとともに、前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサの最上層および最下層が前記複数の第1の電極層であり、かつ、前記第1の共通導体が前記多層コンデンサの側面の1/2以上を覆っていることから、第1の共通導体は最上層から最下層まで全ての誘電体層の側面を覆い、かつ、第1の共通導体により覆われる側面の領域が多いので、誘電体層の側面とセラミック焼結体と直接に接触する領域が極めて小さいものとなり、拡散を防止する効果および応力緩和の効果が極めて高いものとなり、より容量ばらつきが小さく容量が高く、より信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
また、本発明の配線基板は、複数の第1および第2の電極層と複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、多層コンデンサの4つの側面が第1および第2の共通導体で覆われていることにより、誘電体層の側面とセラミック焼結体とが接触する面積を低減させることができ、コンデンサの性能を向上させることができる。
また、本発明の配線基板は、複数の第1および第2の電極層と複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、第1の共通導体または第2の共通導体が多層コンデンサの2つの側面を覆っていることにより、誘電体層の側面とセラミック焼結体とが接触する面積を低減させることができ、コンデンサの性能を向上させることができる。
本発明の配線基板を図面に基づき以下に詳細に説明する。図1は、本発明の配線基板の実施の形態の一例を示す断面図である。また、図2は本発明の配線基板の多層コンデンサ部の一例を示す分解斜視図である。図中、1は配線基板、2は絶縁基体、2a,2b,2cは絶縁層、3aは第1の電極層、3bは第2の電極層、4aは最下層の誘電体層、4bは中間の誘電体層、4cは最上層の誘電体層、5は配線導体、6は貫通導体、7aは第1の共通導体、7bは第2の共通導体を示している。
本発明の配線基板1は、複数のセラミック焼結体から成る絶縁層2a〜2cを積層して成る絶縁基体2の内部に、第1の電極層3a、第2の電極3b、最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cおよび第1の電極層3aの各層を電気的に接続する第1の共通導体7a、第2の電極層3bの各層を電気的に接続する第2の共通導体7bから成る多層コンデンサが形成されており、金属からなる貫通導体6により電極層3a,電極層3bと金属から成る配線導体5とが電気的に接続されており、複数の誘電体層の側面は第1の共通導体7a及び第2の共通導体7bにより覆われている。
絶縁層2a〜2cは、例えばガラス粉末とセラミック粉末とを混合したものの焼結体から成る。このガラス粉末としては、例えばSiO2−B2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3−MO系(但し、MはCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す)、SiO2−Al2O3−M1O−M2O系(但し、M1およびM2は同じまたは異なってCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す)、SiO2−B2O3−Al2O3−M1O−M2O系(但し、M1およびM2は上記と同じである)、SiO2−B2O3−M3 2O系(但し、M3はLi,NaまたはKを示す)、SiO2−B2O3−Al2O3−M3 2O系(但し、M3は上記と同じである)、Pb系ガラス、Bi系ガラス等が挙げられる。中でもSiO2−Al2O3−CaO−MgO系が好ましい。
また、セラミック粉末としては、例えばAl2O3、SiO2、ZrO2とアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、TiO2とアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、Al2O3およびSiO2から選ばれる少なくとも1種を含む複合酸化物(例えばスピネル,ムライト,コージェライト)等が挙げられる。中でもAl2O3が好ましい。
ここで、誘電体層4a〜4cは、ガラス粉末と誘電体粉末とから成る。好適なガラス粉末としては、例えばSiO2−B2O3系、SiO2−B2O3−Al2O3系、SiO2−B2O3−MO系(但し、MはCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す)SiO2−B2O3−M3 2O系(但し、M3はLi,NaまたはKを示す)、SiO2−B2O3−Al2O3−M3 2O系(但し、M3は上記と同じである)、Pb系ガラス、Bi系ガラス等を用いることができる。中でもSiO2−B2O3−BaO−CaOが好ましい。
また、誘電体粉末としては、絶縁層2a〜2cとの同時焼成が可能な、チタン酸バリウムを主成分として、チタン酸ストロンチウム、ジルコン酸バリウム、酸化チタン等の高誘電率の誘電体の粉末が使用できる。その平均粒径については、ペーストにしたりスクリーン印刷したりする際の分散性およびパターン形成の容易性の点から、0.05〜3μmであることが好ましい。
また、第1の電極層3a、第2の電極層3b、配線導体5、貫通導体6,第1の共通導体7a、第2の共通導体7bは金属粉末に適当な有機樹脂バインダ、溶剤を添加混合した配線導体用ペーストをスクリーン印刷等により塗布または充填して形成する。金属粉末は、例えば金,銀,銅,パラジウム及びこれらの混合または合金のような、絶縁層2a〜2cと同時焼結可能なものが用いられる。これらの中で銅は電気抵抗が小さく、マイグレーションが発生しにくいので好ましい。
ここで、本発明の配線基板1において、第1の共通導体7aは、複数の第1の電極層3aの各層を電気的に接続するとともに最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cとを覆っており、同様に第2の共通導体7bは第2の電極層3bの各層を電気的に接続するとともに最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cを覆うことが重要である。
この場合、最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面と絶縁基体のセラミック焼結体との間には、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが介在しているため、これらの誘電体層とセラミック焼結体とが直接接触している面積を低減させることができる。すなわち、本発明の配線基板は、複数の電極層が単に貫通導体で接続されているだけの構造に比べて、誘電体層とセラミック焼結体とが接触している面積を減少させることができる。
このため最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面に形成された共通導体はバリア層として機能し、焼成時に最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cへセラミック焼結体の成分が拡散することを妨げることができる。また、最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cは本来の誘電体の組成が維持されて焼結が進行し、また誘電率を低下させる誘電率の低い成分が増えることがないので、容量ばらつきが小さく容量が高い多層コンデンサを得ることができる。
また、セラミック焼結体と最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cとの熱膨張率が異なり、配線基板を焼成する工程における冷却の際にセラミック焼結体と最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cが接触する側面において、熱膨張率の違いによる残留応力が発生しても、誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面には塑性変形して応力を緩和する金属を含有した第1の共通導体7a、第2の共通導体7bを介在させることができるので、マイクロクラックの発生を防止し、配線基板1へチップ部品等を実装したりベースとなるプリント配線基板に配線基板を実装する際の加熱や、搭載したチップ部品等の動作に伴う発熱などによって、繰り返し熱応力が負荷されても、応力を緩和する金属を含有した第1の共通導体7a、第2の共通導体7bを介在させることができるので、マイクロクラックの発生を抑え、誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cや絶縁層2a〜2cの絶縁性を保ち、信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
以上のような配線基板1の、第1の電極層3a、第2の電極層3b、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bの投影図を図3から図5に示す。図3は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが3層で多層コンデンサが直方体形状の場合を示していて、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが直方体の側面を覆っている。また図4は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが2層でコンデンサが直方体形状の場合を示していて、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが直方体の側面を覆っている。また図5は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが3層で多層コンデンサが円柱状の場合を示していて、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが円柱の側面を覆っている。
また、本発明の配線基板1は、最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面が、第1の共通導体7aと第2の共通導体7bとにより取り囲まれていることから、より広い領域となる中間の誘電体層4bの側面の全てと、最上部の誘電体層4aの側面、最下層の誘電体層4cの側面に共通導体が介在しているため、これらの側面とセラミック焼結体は接触せず、バリアとなる第1の共通導体7a、第2の共通導体7bを埋設することができるため、拡散を防止する効果が増していっそう容量ばらつきが小さく容量が高い多層コンデンサが得ることができる。ここで最下層の誘電体層4aと最上層の誘電体層4cの側面の一部はセラミック焼結体に接触しているため最下層の誘電体層4aと最上層の誘電体層4cへセラミック焼結体の成分が拡散し誘電率が低下するが、中間の誘電体層4bとセラミック焼結体との距離が長くなるために中間の誘電体層4bへの拡散を防止する機能を持つことになり、また積層数を増やすことによって全体の層数に対する拡散の影響を受ける層数を少なくできる。このため中間の誘電体層4bはいっそう本来の誘電体の組成が維持されて焼結が進行し、また誘電率を低下させる誘電率の低い成分が増えることがないので容量ばらつきが小さく容量が高い多層コンデンサを得ることができる。また、より広い領域となる中間の誘電体層4bの側面の全てと、最上部の誘電体層4aの側面、最下層の誘電体層4cの側面に、塑性変形する金属を含有した共通導体を埋設することができるため、応力緩和の効果が増して誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cや絶縁層2a〜2cの絶縁性を保ち、より信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
以上のような配線基板1の、第1の電極層3a、第2の電極層3b、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bの投影図を図6、図7に示す。図6は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが3層で多層コンデンサが直方体形状の場合を示していて、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが直方体の側面を取り囲んでいる。また図7は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが3層でコンデンサが円柱状の場合を示していて、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bが円柱の側面を取り囲んでいる。
また、本発明の配線基板1は、最下層の誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの層数の和が偶数であるとともに、最上層および最下層の電極層が第1の電極層3aであり、かつ、第1の共通導体7aが前記多層コンデンサの側面の1/2以上を覆っていることから、第1の共通導体7aは最下層の誘電体層4a,中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの全ての誘電体層の側面を覆い、かつ、第1の共通導体7aにより覆われる側面の領域が多いので、これらの誘電体層の側面とセラミック焼結体と直接に接触する領域が極めて小さいものとなり、拡散を防止する効果および応力緩和の効果が極めて高いものとなり、より容量ばらつきが小さく容量が高く、より信頼性の高い多層コンデンサを内蔵した配線基板を得ることができる。
以上のような配線基板1の、第1の電極層3a、第2の電極層3b、第1の共通導体7a、第2の共通導体7bの投影図を図8、図9に示す。図8は第1の電極層3aが4層、第2の電極層3bが3層で誘電体層4a〜4cの総和は6層の偶数となり、多層コンデンサが直方体形状の場合を示していて、第1の共通導体7aが直方体の3つの側面を囲い、第2の共通導体7bが残りの側面を覆っている。また図7は第1の電極層3aが3層、第2の電極層3bが2層で誘電体層4a〜4cの総和は4層の偶数となり、コンデンサが円柱状の場合を示していて、第1の共通導体7aが円柱の側面の1/2を覆っており、第2の共通導体7bが残りの側面を覆っている。
本発明の配線基板1は以下のようにして作製される。
まず、絶縁層2a〜2cとなるグリーンシートを、上記のガラス粉末およびセラミック粉末に、有機樹脂バインダ、有機溶剤および可塑剤等を添加混合してスラリーとし、そのスラリーを用いてドクターブレード法やカレンダロール法を採用することによって成形する。
この有機樹脂バインダとしては、従来からセラミックグリーンシートに使用されているものが使用可能であり、例えばアクリル系(アクリル酸,メタクリル酸またはそれらのエステルの単独重合体または共重合体、具体的にはアクリル酸エステル共重合体,メタクリル酸エステル共重合体,アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等)、ポリビニルブチラール系、ポリビニルアルコール系、アクリル−スチレン系、ポリプロピレンカーボネート系、セルロース系等の単独重合体または共重合体が挙げられる。中でもアクリル酸エステル共重合体,メタクリル酸エステル共重合体が好ましい。
グリーンシートを成形するためのスラリーに用いられる有機溶剤としては、ガラス粉末とセラミック粉末と有機樹脂バインダを分散させ、グリーンシート成形に適した粘度のスラリーが得られるように、例えば炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、アルコール類等の有機溶剤が挙げられる。
次に、これらのグリーンシートの表面に、金属粉末に適当な有機樹脂バインダ、溶剤を添加混合した配線導体用ペーストをスクリーン印刷等により塗布し、配線導体5を形成する。必要に応じて、配線導体5を形成する前に金型加工等によりグリーンシートに貫通孔を形成し、この貫通孔に配線導体用ペーストと同様の金属粉末に適当な有機樹脂バインダ、溶剤を添加混合した貫通導体用ペーストをスクリーン印刷等により充填して、貫通導体6となる貫通導体パターンを形成する。
多層コンデンサ部は以下のようにして形成される。
まず、絶縁層2cとなるグリーンシートの表面に露出した貫通導体6上に、配線導体用ペーストと同様の金属粉末に収縮調整用のガラス粉末を加え、適当な有機樹脂バインダおよび溶剤を添加混合したコンデンサの電極層用ペーストをスクリーン印刷等により塗布して第1の電極層3aを形成する。
次に最下層の誘電体層4aとなる誘電体ペーストを、先に形成した第1の電極層3aの上にスクリーン印刷等により第1の電極層3aの一部が露出するように塗布することで最下層の誘電体層4aを形成する。この上に、同様に電極層用ペーストを塗布して第2の電極層3bと第1の共通導体7aを形成する。このとき第1の共通導体7aは、前記した第1の電極層3aの露出部分に重ねて接続する。次に同様にして、第2の電極層3bの一部および第1の共通導体7aが露出するように中間の誘電体層4bを第1の電極層3bの上に形成する。第2の電極層3bの露出する部分は、第1の電極層3aの露出する部分および第1の共通導体7aとは重ならない位置にする。
次に再び第1の電極層3aと第2の共通導体7bを同様に形成する。このとき第1の電極層3aは先に形成された共通導体7aに重ねて接続し、第2の共通導体7bは第2の電極層3bの露出部分に重ねて接続する。中間の誘電体層4b、第2の電極層3bおよび第1の共通導体7a、第1の電極層3aおよび第2の共通導体7bの形成を必要なだけ繰り返し、最後に最上層の誘電体層4c、電極層を形成する。このようにして、第1の電極層3aの各層を電気的に接続する共通導体7aと、第2の電極層3bの各層を電気的に接続する共通導体7bと、最下層の誘電体層4aと中間の誘電体層4bと最上層の誘電体層4cとを具備する多層コンデンサを形成する。
誘電体ペーストに用いられる有機樹脂バインダおよび有機溶剤は、ガラスセラミックス焼結体から成る絶縁層2a〜2cとの同時焼成が可能であれば特に制限されるものではなく、例えばグリーンシートに配合される有機樹脂バインダ、有機溶剤と同様のものが使用可能である。
このようにして作製した多層コンデンサを備えたグリーンシートと、配線導体パターンを形成したグリーンシートとを、3〜20MPaの圧力および30〜80℃の温度で加熱圧着する等して積層体を作製する。この積層体中におけるグリーンシートの位置や数や大きさには特に制限はなく、所望のコンデンサを有する配線基板1の構成となるように配設して積層すればよい。
その後、例えば配線導体用ペーストの金属粉末が銅粉末である場合、窒素中において800〜1000℃の温度で積層体を焼成することにより、本発明の配線基板1が得られる。
また、積層体を焼成する際に、グリーンシートが焼結する温度では実質的に焼結収縮しない無機成分、例えばアルミナから成る拘束グリーンシートを積層体の両面に積層して焼成すると、この拘束グリーンシートによって積層体の主面方向の焼成時の収縮が拘束されて抑制されるために配線基板1の寸法精度が向上し、配線基板1に内蔵させるコンデンサの容量値のばらつきを小さくすることが可能となる。また、この方法で焼成した場合、厚み方向の焼成収縮が通常の方法で焼成した場合に比較して大きくなるので、誘電体層4a〜4cの厚みをより薄くすることが可能となり、コンデンサの高容量化も容易となる。
さらに、配線基板1の表面に位置する配線導体5は、その表面に電子部品を実装する際の半田濡れ性の向上や配線導体5の腐食防止のためにニッケル、銅、金等のめっきを施してもよい。
本発明の配線基板の実施例について以下に説明する。
下記表1に示すように多層コンデンサが直方体であるNo.1〜4の4種類の配線基板を作製した。サンプルNo.4は従来の配線基板の例を示しており、断面図を図11に、投影図を図12に示す。第1の電極層3a、第2の電極層3bはそれぞれ貫通導体6によって電気的に接続をされ、最下部の誘電体層4a、中央部の誘電体層4b及び最上部の誘電体層4cの4つの側面は全てセラミック焼結体と接している。一方、No.1〜3は本発明の配線基板1の例を示しており、断面図を図1に、投影図をそれぞれ図3、図6、図8に示す。第1の電極層3aの各層を電気的に接続するとともに誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面を覆う第1の共通導体7aと、第2の電極層3bの各層を電気的に接続するとともに誘電体層4a、中間の誘電体層4b、最上層の誘電体層4cの側面を覆う第2の共通導体7bを備える構成である。
これらの配線基板1は、絶縁基体2の絶縁層となるグリーンシートを得るために、ガラスとしてSiO2−B2O3−BaO−CaO系ガラス粉末50質量部と、誘電体粉末としてAl2O3粉末50質量部とを混合し、これらの無機粉末100質量部に有機樹脂バインダとしてアクリル樹脂12質量部,フタル酸系可塑剤6質量部および溶剤としてトルエン30質量部を加え、ボールミル法により混合しスラリーとした。このスラリーを用いて、ドクターブレード法により厚さ200μmのグリーンシートを成形した。
これらのグリーンシートに打ち抜き金型またはパンチングマシーンを用いて所定の位置に貫通孔を形成し、この貫通孔にスクリーン印刷法で貫通導体用ペーストを充填し貫通導体6とした。貫通導体用ペーストとしては、銅の粉末(平均粒径3μm)100質量部に対して上記ガラスと同組成のガラス粉末を4〜16質量部を加え、さらにビヒクル成分として所定量のエチルセルロース系樹脂およびテルピネオールを加えて、3本ロールにより適度な粘度になるように混合したものを用いた。
次に、充填した貫通導体用ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、グリーンシートの所定箇所に配線導体5となる配線導体用ペーストをスクリーン印刷法により約20μmの膜厚で塗布した。配線導体用ペーストとしては、銅の粉末(平均粒径3μm)100質量部に対して上記ガラスと同組成のガラス粉末2質量部を加え、さらにビヒクル成分として所定量のエチルセルロース系樹脂およびテルピネオールを加えて、3本ロールにより適度な粘度になるように混合したものを用いた。
次に、印刷した配線導体用ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、グリーンシート上に形成する多層コンデンサを形成した。
誘電体層4a〜4cとなる誘電体ペーストを得るために、ガラス粉末とBaTiO3粉末とから成り、ガラス粉末とBaTiO3粉末との和を100質量部とし、有機樹脂バインダとしてアクリル樹脂12質量部,フタル酸系可塑剤6質量部および溶剤としてトルエン30質量部を加え、ロータリーエバポレーター等で混合しペーストした。
初めに絶縁層2cとなるグリーンシートの表面に、配線導体用ペーストをスクリーン印刷等により約20μmの膜厚で塗布し、第1の電極層3aを貫通導体6の上に形成し、電気的接続を行った。
次に、印刷した配線導体用ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、最下層の誘電体層4aとなる誘電体ペーストを、先に形成した第1の電極層3aの上にスクリーン印刷等により第1の電極層3aの一部が露出するように塗布することで30μmの膜厚の最下層の誘電体層4aを形成する。
次に、印刷した誘電対ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、同様に電極層用ペーストを塗布して20μmの膜厚の第2の電極層3bと、60μmの膜厚の第1の共通導体7aを形成する。このとき第1の共通導体7aは、前記した第1の電極層3aの露出部分に重ねて接続する。また第2の電極層3bと第1の共通導体7aとの距離は絶縁が保たれるように50μmとする。
次に、印刷した配線導体用ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、同様に誘電体用ペーストを塗布して第2の電極層3bの一部および第1の共通導体7aが露出するように30μmの膜厚の中間の誘電体層4bを第1の電極層3bの上に形成する。第2の電極層3bの露出する部分は、第1の電極層3aの露出する部分および第1の共通導体7aとは重ならない位置にする。
次に、印刷した誘電体ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
次に、再び電極層用ペーストを塗布して第1の20μmの膜厚の電極層3aと60μmの膜厚の第2の共通導体7bを同様に形成する。このとき第1の電極層3aは先に形成された共通導体7aに重ねて接続し、第2の共通導体7bは第2の電極層3bの露出部分に重ねて接続する。また第1の電極層3aと第2の共通導体7bとの距離は絶縁が保たれるように50μmとする。
次に、印刷した配線導体用ペースト中の有機溶剤の質量が減少するまで60℃の温風により乾燥させた。
このように中間の誘電体層4b、第2の電極層3bおよび第1の共通導体7a、第1の電極層3aおよび第2の共通導体7bの形成を必要なだけ繰り返し、最後に最上層の誘電体層4c、電極層を形成する。このようにして、第1の電極層3aの各層を電気的に接続する共通導体7aと、第2の電極層3bの各層を電気的に接続する共通導体7bと、最下層の誘電体層4aと中間の誘電体層4bと最上層の誘電体層4cとを具備する多層コンデンサを形成する。その印刷パターンの位置関係を分解者斜視図で図2に示す。
サンプルNo.1は本発明の請求項1の例であり、中間の誘電体層4bの層数を3とし、誘電体層の層数の和は5となる。この場合、最上層の誘電体層4cの側面がセラミック焼結体と接する箇所は3箇所となり、中間の誘電体層4bの側面がセラミック焼結体と接する箇所は3つの層とも2箇所となり、最下層の誘電体層4aの側面がセラミック焼結体と接する箇所は3箇所となる。投影図を図3に示す。
サンプルNo.2は本発明の請求項2の例であり、中間の誘電体層4bの層数を3とし、誘電体層の層数の和は5となる。この場合、最上層の誘電体層4cの側面がセラミック焼結体と接する箇所は2箇所となり、中間の誘電体層4bの側面がセラミック焼結体と接する箇所は3つの層とも1箇所も無く、最下層の誘電体層4aの側面がセラミック焼結体と接する箇所は2箇所となる。投影図を図6に示す。
サンプルNo.3は本発明の請求項3の例であり、中間の誘電体層4bの層数を4とし、誘電体層の層数の和は6となる。この場合、最上層の誘電体層4cの側面がセラミック焼結体と接する箇所は1箇所となり、中間の誘電体層4bの側面がセラミック焼結体と接する箇所は3つの層とも1箇所も無く、最下層の誘電体層4aの側面がセラミック焼結体と接する箇所は1箇所となる。投影図を図8に示す。
次に、このようにして作製した多層コンデンサが形成されたグリーンシートと、貫通導体6や配線導体5となる配線導体用ペーストが形成されたグリーンシートとを50kg/cm2の圧力で順次積層した。
このようにして得られたグリーンシートの積層体を、500℃で3時間の有機樹脂バインダの燃焼行程と900℃で1時間のセラミックスの焼結工程とを含む工程を窒素雰囲気中で実施し、緻密なガラスセラミック焼結体から成る絶縁基体2の内部や表面に同時焼成により形成された配線導体5や貫通導体6及び多層コンデンサを配設して成る配線基板1を作製した。
得られた配線基板1中のコンデンサの容量を測定した。測定温度25℃、測定周波数1MHzでのコンデンサの静電容量をインピーダンスアナライザーを用いて測定し、容量値のバラツキを求めるために、各サンプルから50個の容量値の測定結果の標準偏差(σ)を算出した。バラツキの判定として、容量値の平均値を100とした場合の3σを百分率で表した。
表1より、本発明の配線基板1であるNo.1〜3は容量値のばらつきを示すσの3倍がチップコンデンサの容量公差の標準規格のひとつである20%を下回り、良好な特性を示した。
これに対して、従来の配線基板であるNo.4は、σの3倍が20%を超えて25.6%となった。
また、No.1は本発明の請求項1である配線基板1で、σの3倍が19.2%となり20%を下回り、良好な特性を示した。
また、No.2は本発明の請求項1である配線基板1で、σの3倍が16.3%となり20%を下回り、良好な特性を示した。
また、No.3は本発明の請求項1である配線基板1で、σの3倍が9.3%となり20%を下回り、チップコンデンサの更に厳しい容量公差の標準規格のひとつである10%以下を示し非常に良好な特性を示した。
1・・・・・・・・・・配線基板
2・・・・・・・・・・絶縁基体
2a,2b,2c・・・絶縁層
3a・・・・・・・・・第1の電極層
3b・・・・・・・・・第2の電極層
4a・・・・・・・・・最下層の誘電体層
4b・・・・・・・・・中間の誘電体層
4c・・・・・・・・・最上層の誘電体層
5・・・・・・・・・・配線導体
6・・・・・・・・・・貫通導体
7a・・・・・・・・・第1の共通導体
7b・・・・・・・・・第2の共通導体
2・・・・・・・・・・絶縁基体
2a,2b,2c・・・絶縁層
3a・・・・・・・・・第1の電極層
3b・・・・・・・・・第2の電極層
4a・・・・・・・・・最下層の誘電体層
4b・・・・・・・・・中間の誘電体層
4c・・・・・・・・・最上層の誘電体層
5・・・・・・・・・・配線導体
6・・・・・・・・・・貫通導体
7a・・・・・・・・・第1の共通導体
7b・・・・・・・・・第2の共通導体
Claims (6)
- セラミック焼結体から成る絶縁基体と、該絶縁基体の内部に積層されており、前記セラミック焼結体より誘電率の高い複数の誘電体層と、前記複数の誘電体層の各層を介して交互に積層された複数の第1の電極層および複数の第2の電極層と、前記絶縁基体の内部に形成され、前記第1の電極層の各層を電気的に接続するとともに前記複数の誘電体層の側面を覆う第1の共通導体と、前記絶縁基体の内部に形成され、前記第2の電極層の各層を電気的に接続するとともに前記複数の誘電体層の側面を覆う第2の共通導体とを備えていることを特徴とする配線基板。
- 前記複数の誘電体層の側面が、前記第1の共通導体と前記第2の共通導体とにより取り囲まれていることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記複数の誘電体層の層数が偶数であるとともに、前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサの最上層および最下層が前記複数の第1の電極層であり、かつ、前記第1の共通導体が前記多層コンデンサの側面の1/2以上を覆っていることを特徴とする請求項2記載の配線基板。
- 前記多層コンデンサが円柱状であることを特徴とする請求項3記載の配線基板。
- 前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、前記多層コンデンサの4つの側面が前記第1および第2の共通導体で覆われていることを特徴とする請求項2記載の配線基板。
- 前記複数の第1および第2の電極層と前記複数の誘電体層とからなる多層コンデンサが直方体状であり、前記第1の共通導体または前記第2の共通導体が前記多層コンデンサの2つの側面を覆っていることを特徴とする請求項2記載の配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005096110A JP2006278759A (ja) | 2005-03-29 | 2005-03-29 | 配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006278759A true JP2006278759A (ja) | 2006-10-12 |
Family
ID=37213196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005096110A Pending JP2006278759A (ja) | 2005-03-29 | 2005-03-29 | 配線基板 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2006278759A (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2008227484A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | キャパシタ内蔵型印刷回路基板 |
-
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---|---|---|---|---|
JP2008227484A (ja) * | 2007-03-12 | 2008-09-25 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | キャパシタ内蔵型印刷回路基板 |
JP4666401B2 (ja) * | 2007-03-12 | 2011-04-06 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. | キャパシタ内蔵型印刷回路基板 |
US8053673B2 (en) | 2007-03-12 | 2011-11-08 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Capacitor embedded printed circuit board |
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