JP2006278615A - 積層セラミックコンデンサおよびその製法 - Google Patents

積層セラミックコンデンサおよびその製法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006278615A
JP2006278615A JP2005093940A JP2005093940A JP2006278615A JP 2006278615 A JP2006278615 A JP 2006278615A JP 2005093940 A JP2005093940 A JP 2005093940A JP 2005093940 A JP2005093940 A JP 2005093940A JP 2006278615 A JP2006278615 A JP 2006278615A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particle size
dielectric
ceramic capacitor
multilayer ceramic
size distribution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005093940A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4782457B2 (ja
Inventor
Yoshihiro Fujioka
芳博 藤岡
Masahiro Nishigaki
政浩 西垣
Koushirou Sugimoto
幸史郎 杉本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2005093940A priority Critical patent/JP4782457B2/ja
Publication of JP2006278615A publication Critical patent/JP2006278615A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4782457B2 publication Critical patent/JP4782457B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)

Abstract

【課題】誘電体層を薄層化しても、静電容量のばらつきや静電容量の温度特性のばらつきが小さく、量産性に優れた小型高容量の積層セラミックコンデンサおよびその製法を提供する。
【解決手段】誘電体層5および内部電極層7を交互に積層し構成したコンデンサ本体1を具備してなる積層セラミックコンデンサであって、前記誘電体層5を構成する結晶粒子9の粒度分布の50%累積値D50と、90%累積値D90との比D90/D50が1.5以上であることを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、積層セラミックコンデンサおよびその製法に関し、特に、パソコン、携帯電話など、高機能の電子機器に使用され、極めて薄い誘電体層と内部電極層とが交互に積層され、高容量かつ温度特性に優れた小型の積層セラミックコンデンサおよびその製法に関する。
近年、電子機器の小型化、高機能化に伴い、これに用いる積層セラミックコンデンサは小型高容量化が求められており、そのため誘電体層および内部電極層の積層数の増加と誘電体層自体の薄層化が進められ、また、積層セラミックコンデンサとしての特性としても容量温度特性や高温負荷寿命などの信頼性の向上が図られている。
例えば、比表面積が1.7m/g、3.2m/g、6.6m/gの3種類のチタン酸バリウム粉末を用いて、誘電体磁器を調製し、焼成後において粒径が0.4μm以上の結晶粒子と粒径が0.25μm以下の結晶粒子とを混在させた誘電体層を形成することが開示されている(例えば、特許文献1)。この場合、粒径が0.4μm以上の結晶粒子により誘電体磁器の比誘電率を向上でき、一方、粒径が0.25μm以下の結晶粒子により誘電体磁器の絶縁抵抗を高めることができることが記載されている。
特開2001−338828号公報
即ち、上記特許文献1に開示された積層セラミックコンデンサでは、比表面積の異なる誘電体粉末を3種類も用いているために、実験炉のような温度分布の少ない焼成炉を用いた場合には結晶粒子の粒径の制御が適正に行える。
しかしながら、上記特許文献1に記載の誘電体粉末を用いたのでは温度分布の広い量産炉を用いた焼成においては、焼成温度のばらつきによる結晶粒子の粒径制御が困難となり、得られる積層セラミックコンデンサの静電容量が低く、また、静電容量のばらつきや静電容量の温度特性のばらつきが大きいという問題があった。
従って、本発明は、誘電体層を薄層化しても、静電容量のばらつきや静電容量の温度特性のばらつきが小さく、量産性に優れた小型高容量の積層セラミックコンデンサおよびその製法を提供することを目的とする。
本発明の積層セラミックコンデンサは、(1)誘電体層および内部電極層を交互に積層し構成したコンデンサ本体と外部電極とを具備してなる積層セラミックコンデンサであって、前記誘電体層を構成する結晶粒子の粒度分布の50%累積値D50の粒径と、90%累積値D90の粒径との比D90/D50が1.5以上であることを特徴とする。
上記積層セラミックコンデンサでは、(2)前記粒度分布における10%累積値D10の粒径が0.05μm以上、前記粒度分布の90%累積値D90の粒径が1.2μm以下であること、(3)誘電体層の厚みが2.5μm以下であること、が望ましい。
そしてこのような積層セラミックコンデンサの製法は、(4)誘電体粉末を含む誘電体グリーンシートと内部電極パターンとを交互に積層したコンデンサ本体成形体を形成し、焼成する工程を具備する積層セラミックコンデンサの製法であって、単位面積における面積占有率で表される前記誘電体粉末の粒度分布が、小径ピークおよび大径ピークの2つのピークを有することを特徴とするものであり、(5)前記小径ピークの最大粒径が前記大径ピークの最小粒径と同等もしくはそれよりも小さいこと、(6)大径側の前記誘電体粉末の最大粒径が1μm以下であること、(7)誘電体グリーンシートの厚みが3μm以下であること、が望ましい。
本発明によれば、誘電体グリーンシートを構成する誘電体粉末に対して単位面積において面積占有率で表したときの粒度分布が、小径側および大径側に2つのピークをもつ粒度分布で示されるようにし、焼成後において誘電体層を構成する結晶粒子の粒度分布を、50%累積値(D50)と90%累積値(D90)との比D90/D50を1.5以上とすることにより、誘電体層を薄層化しても静電容量が高く、また静電容量のばらつきや静電容量の温度特性のばらつきが小さく、量産性に優れた小型高容量の積層セラミックコンデンサおよびその製法を提供することができる。
つまり、本発明の製法は、誘電体粉末として小径側および大径側に2つのピークをもつ粒度分布で示されるものを粒子配合して用いることにより、誘電体層を薄層化しても静電容量が高く、また静電容量のばらつきや静電容量の温度特性のばらつきが小さく、量産性に優れた小型高容量の積層セラミックコンデンサを容易に製造できる。
本発明の積層セラミックコンデンサについて、図1および図2をもとに詳細に説明する。図1は本発明にかかる誘電体層の断面の概略断面図である。図2は本発明にかかる誘電体層における結晶粒子の粒度分布を示すグラフである。図2に示すグラフは粒度分布を単位面積におけるある粒径ごとに分けた結晶粒子の個々の面積の累積で示したものである。なお、本発明における粒度分布は誘電体層中の単位面積における断面組織の電子顕微鏡写真に写した結晶粒子についてそれぞれ最長径を求め、これら求めた個々の結晶粒子の累積個数を粒径ごとに頻度で表したものである。
本発明の積層セラミックコンデンサは、コンデンサ本体1の両端部に外部電極3を形成して構成されている。この外部電極3は、例えば、CuもしくはCuとNiの合金ペーストを焼き付けて形成されている。
コンデンサ本体1は誘電体層5と内部電極層7とを交互に積層してなるものであり、誘電体層3は静電容量を高めるという理由から厚みが2.5μm以下であることが望ましい。
また、本発明にかかる誘電体層5は結晶粒子9と粒界相11とから構成されており、組織上、誘電体層5を構成する結晶粒子9の粒度分布の50%累積値D50と、90%累積値D90との比、D90/D50が1.5以上であることを特徴とするものであり、特に、2≦D90/D50≦2.3の関係であることがより望ましい
この場合、特に、粒度分布の10%累積値D10の粒径が0.05μm以上、粒度分布の90%累積値D90の粒径が1.3μm以下、特に、1μm以下であることが誘電体層5の絶縁性および静電容量(比誘電率)を高めるとともに、焼成温度の変化に対しても安定した誘電特性を得ることができる。
このように、誘電体層5を構成する結晶粒子9の粒度分布を本発明で規定する粒度分布の範囲内にすると、焼成温度範囲が1100℃から1200℃の範囲においても、静電容量のばらつき(CV)を3.1%以下、特に、3%以下にでき、また、85℃における静電容量が基準温度20℃の静電容量に対して±20%以内、さらに、125℃においても±30%以内にできる。
これに対して、D90/D50比が1.5よりも小さいと静電容量(比誘電率)が低くなり、静電容量のばらつきおよび静電容量の温度特性のばらつきが大きくなる。
内部電極層7は、高積層化しても製造コストを抑制できるという点で、NiやCuなどの卑金属が望ましく、特に、本発明の誘電体層との同時焼成を図るという点でNiがより望ましい。この内部電極層7の厚みは平均2μm以下が好ましい。
図3は本発明にかかる誘電体粉末の粒度分布を示すグラフである。図3に示すグラフは誘電体粉末の粒度分布を面積占有率で示したものである。なお、この誘電体粉末の粒度分布は、誘電体粉末の電子顕微鏡写真からそれぞれ最長径を求め、これら求めた個々の誘電体粉末の占有面積の累積値を粒径ごとの頻度で表したものである。
本発明の製法では、まず誘電体粉末と誘電特性を制御する添加剤とガラス粉末とを有機ビヒクルと混合してスラリを調製し、そのスラリをシート状に成形して誘電体グリーンシートを形成する。誘電体グリーンシートの厚みは4μm以下が好ましい。
本発明にかかる誘電体粉末は、電子顕微鏡写真の任意の単位面積において面積占有率で表したときの粒度分布が、小径ピークおよび大径ピークの2つのピークをもつ粒度分布で示されることを特徴とするものであり、特に、小径ピークの最大粒径が大径ピークの最小粒径と同等もしくはそれよりも小さいことが望ましく、さらには、大径側の最大粒径が1μm以下であることが望ましい。
なお、誘電体粉末についての最小粒径は粒度分布の1%累積値で表し、一方、最大径は粒度分布の99%累積値で表す。この場合、小径側の粒度分布の1%累積値は0.03μm以上であることが望ましい。
これに対して、誘電体粉末の粒度分布が3つ以上であり、粒度分布の小径側と大径側とが重なるような粒度分布の場合には、特に、焼成時に小径側の誘電体粉末が種々の粒径の誘電体粉末と合体し粒成長するために、安定した誘電特性をもつ誘電体層を形成できない。
以上詳述したように、本発明の製法においては、粒径範囲の異なる誘電体粉末を配合して用いることにより、従来、平均粒径で表したときに同じ程度の値になる粒度分布の単一ピークを有する誘電体粉末を用いる場合に比較して、大径ピークの粒度分布に含まれる誘電体粉末および小径ピークの粒度分布に含まれる誘電体粉末の両方ともに粒成長が抑制された状態で誘電体磁器の緻密化を図ることができるのである。
図4は、粒径の異なる誘電体粉末を用いて作製した誘電体磁器の断面をトレースした組織写真の模式図である。表示したスケールバーは長さ2μmである。図4にかかる誘電体磁器は1250℃の温度で焼成したものである。この試料の誘電率は、BT02が3000、BT03が3500、BT04+02が3600、BT04が4600であった。なお、内部電極層を介装しない誘電体磁器のみでは焼結温度が高くなる。
BT02は平均粒径が0.2μm、BT03は平均粒径が0.3μm、BT04は平均粒径が0.4μm、BT04+02は平均粒径が0.4μmと0.2μmであり、等しい質量比で混合された粉末であり、この場合、BT04の最小粒径とBT02の最大粒径とは粒径の範囲を異にする場合のものである。
図4から明らかなように、BT02、BT03、BT04のそれぞれの誘電体粉末を1種類のみ用いた試料は、BT02とBT04との混合粉末を用いた場合に比較して、上記したように粒成長がおこり、BT02の誘電体粉末であってもBT04と同等の粒径に成長している。これに対して、BT02とBT04との混合粉末から作製した試料では、大径および小径の結晶粒子におけるそれぞれの粒成長が抑えられている。このように本発明にかかる2つのピークを有する誘電体粉末の粒子配合の方法によれば、結晶粒子の粒成長を抑制しかつ緻密化した誘電体磁器を容易に形成できる。しかも、この場合において、大径の結晶粒子により比誘電率の向上を図り、一方、小径の結晶粒子により絶縁性を著しく高めることができる。
ガラス粉末は、誘電体粉末の粒径と同等以下であることが好ましく、また、その組成はSi=40〜60モル%、Ba=10〜30モル%、Ca=10〜30モル%、Li=5〜10モル%、アルミナ不純物量が0.1質量%以下であることが好ましい。このような組成であれば誘電体磁器の緻密化および結晶化を図ることができ誘電特性を安定化できる。
次に、誘電体グリーンシートの主面上に内部電極パターンを形成する。内部電極パターンは、例えば、NiやCuなどの卑金属粉末を有機樹脂や溶剤とともにペースト化したものをスクリーン印刷により形成する。内部電極パターンの厚みは、誘電体グリーンシート上における段差を小さくするという点で、誘電体グリーンシートの厚みよりも薄く2μm以下であることが望ましい。
次に、内部電極パターンが形成された誘電体グリーンシートを複数積層してコンデンサ本体成形体を形成し、この後、コンデンサ本体を大気中で40〜80℃/hの昇温速度で400〜500℃にて脱バインダ処理を行い、その後、還元雰囲気中で500℃からの昇温速度を100〜400℃/hとし、1100〜1250℃の温度で2〜3時間焼成し、続いて80〜400℃/hの降温速度で冷却し、酸素分圧が0.1〜10−4Paの雰囲気中900〜1000℃で再酸化処理を行う。
最後に、焼成したコンデンサ本体の両端面に、外部電極用ペーストを塗布して窒素中で焼き付けることによって、外部電極3を形成し、本発明の積層セラミックコンデンサを得ることができる。
本発明の積層セラミックコンデンサを以下のようにして作製した。まず、誘電体材料として表1に示す2種類の粒度分布をもつBaTiO(BT)粉末を準備し、質量比で等量混合した。
また、BaTiO(BT)粉末100質量部に対して焼結助剤としてガラス粉末を 質量部添加した。そのガラス組成は、Si=50モル%、Ba=20モル%、Ca=20モル%、Li=10モル%のものを用いた。
また、BaTiO(BT)粉末100質量部に対して誘電特性を制御するための助剤として、Mg、Y、Mnを酸化物換算で、それぞれ0.5質量部、0.5質量部、0.3質量部添加した。
次に、上記誘電体粉末と助剤との混合粉末に対してトルエン中にポリビニルブチラールバインダを混合した有機ビヒクルを添加してスラリを調製し、このスラリをダイコータを用いてシート成形し厚み3μmの誘電体グリーンシートを得た。
次に、この誘電体グリーンシート上にNi内部電極パターンを厚み1.5μmで形成した。
次に、Ni内部電極パターンを形成した誘電体グリーンシートを、内部電極パターンの長手方向に半パターンずれるように交互に30枚積層し、さらにその上下に内部電極パターンを形成していない誘電体グリーンシートを各々20枚積層し、加熱加圧して母体積層体を形成した。
次に、この母体積層体を格子状に切断しコンデンサ本体成形体を形成した。このコンデンサ本体成形体の対向する端面には内部電極パターンが積層方向に交互に露出していた。コンデンサ本体の寸法は2×1.25×0.4mmであり、また、誘電体層の厚みは平均2.4μm、内部電極層の厚みは1μmであった。
次に、得られたコンデンサ本体成形体を還元雰囲気中、最高温度1110℃、1140℃、1170、1200℃にて、各2時間の焼成を行い、次いで、窒素雰囲気中、1000℃、4時間の再酸化処理を行った。
次に、焼成後のコンデンサ本体をバレル研磨した後、内部電極層が露出した端面にCuを主成分とする外部電極ペーストを塗布し850℃の焼付けを行い、積層セラミックコンデンサを作製した。
なお、誘電体粉末および誘電体層中の結晶粒子の粒度分布は、いずれも上記した方法により電子顕微鏡写真から求めた。
次に得られた積層セラミックコンデンサ各100個について、周波数1.0kHz、入力信号レベル0.5Vにて温度20℃にて静電容量とそのばらつきを評価した。また、各50個について静電容量の温度特性を評価した。試験条件は85℃および125℃での評価とした。
また、比較例として、比表面積の異なる3種の誘電体粉末を混合したものについて、本発明の試料と同じ条件にて作製し評価した。
Figure 2006278615
Figure 2006278615
表1、2から、本発明の製法を用いて作製した試料No.1〜No.4では、焼成温度1110〜1200℃の範囲においても比誘電率が3840以上と高く、また、静電容量のばらつき(CV)を3.1%以下にでき、また、85℃における静電容量が基準温度20℃の静電容量に対して±20%以内、さらには、125℃においても±30%以内であった。
特に、粒度分布における10%累積値の粒径が0.05μm以上、前記粒度分布の90%累積値の粒径が1.2μm以下である試料No.2.3では静電容量のばらつきおよび125℃における静電容量の温度特性が改善された。
一方、粒子径の異なる3種類の誘電体粉末を混合して用いた比較例No.5の試料では、比誘電率が最高でも3350と低く、焼成温度1110〜1200℃の範囲における静電容量のばらつきや温度特性のばらつきが最高−32%と大きかった。
本発明の積層セラミックコンデンサの概略断面図である。 本発明にかかる誘電体層の断面における結晶粒子の粒度分布を示すグラフである。 本発明にかかる誘電体粉末の粒度分布を示すグラフである。 粒径の異なる誘電体粉末を用いて作製した誘電体磁器の断面をトレースした組織写真の模式図である。
符号の説明
1・・・コンデンサ本体
5・・・誘電体層
7・・・内部電極層
9・・・結晶粒子
11・・粒界相

Claims (7)

  1. 誘電体層および内部電極層を交互に積層し構成したコンデンサ本体と外部電極とを具備してなる積層セラミックコンデンサであって、前記誘電体層を構成する結晶粒子の粒度分布の50%累積値D50の粒径と、90%累積値D90の粒径との比D90/D50が1.5以上であることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
  2. 前記粒度分布における10%累積値D10の粒径が0.05μm以上、前記粒度分布の90%累積値D90の粒径が1.2μm以下である請求項1に記載の積層セラミックコンデンサ。
  3. 前記誘電体層の厚みが2.5μm以下である請求項1または2に記載の積層セラミックコンデンサ。
  4. 誘電体粉末を含む誘電体グリーンシートと内部電極パターンとを交互に積層したコンデンサ本体成形体を形成し、焼成する工程を具備する積層セラミックコンデンサの製法であって、単位面積における面積占有率で表される前記誘電体粉末の粒度分布が、小径ピークおよび大径ピークの2つのピークを有することを特徴とする積層セラミックコンデンサの製法。
  5. 前記小径ピークの最大粒径が前記大径ピークの最小粒径と同等もしくはそれよりも小さいことを特徴とする請求項4に記載の積層セラミックコンデンサの製法。
  6. 大径ピーク側の前記誘電体粉末の最大粒径が1μm以下である請求項4または5に記載の積層セラミックコンデンサの製法。
  7. 前記誘電体グリーンシートの厚みが3μm以下である請求項4乃至6のうちいずれかに記載の積層セラミックコンデンサの製法。
JP2005093940A 2005-03-29 2005-03-29 積層セラミックコンデンサ Active JP4782457B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005093940A JP4782457B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 積層セラミックコンデンサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005093940A JP4782457B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 積層セラミックコンデンサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006278615A true JP2006278615A (ja) 2006-10-12
JP4782457B2 JP4782457B2 (ja) 2011-09-28

Family

ID=37213075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005093940A Active JP4782457B2 (ja) 2005-03-29 2005-03-29 積層セラミックコンデンサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4782457B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012072001A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Murata Mfg Co Ltd 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ
JP5205545B1 (ja) * 2012-03-30 2013-06-05 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法
US9202625B2 (en) 2012-07-20 2015-12-01 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Laminated ceramic electronic component and method of fabricating the same
JP2017081805A (ja) * 2015-10-30 2017-05-18 太陽誘電株式会社 チタン酸バリウム系粉末、積層セラミックコンデンサ及びその製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001338828A (ja) * 2000-05-30 2001-12-07 Kyocera Corp 積層型電子部品
JP2002234769A (ja) * 2001-02-01 2002-08-23 Murata Mfg Co Ltd チタン酸バリウム粉末の製造方法、チタン酸バリウム粉末、誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
JP2005033070A (ja) * 2003-07-09 2005-02-03 Tdk Corp 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP2005243890A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層セラミックコンデンサとその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001338828A (ja) * 2000-05-30 2001-12-07 Kyocera Corp 積層型電子部品
JP2002234769A (ja) * 2001-02-01 2002-08-23 Murata Mfg Co Ltd チタン酸バリウム粉末の製造方法、チタン酸バリウム粉末、誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
JP2005033070A (ja) * 2003-07-09 2005-02-03 Tdk Corp 積層セラミックコンデンサおよびその製造方法
JP2005243890A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 積層セラミックコンデンサとその製造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012072001A (ja) * 2010-09-28 2012-04-12 Murata Mfg Co Ltd 誘電体セラミック、及び積層セラミックコンデンサ
JP5205545B1 (ja) * 2012-03-30 2013-06-05 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法
WO2013145422A1 (ja) * 2012-03-30 2013-10-03 太陽誘電株式会社 積層セラミックコンデンサ及びその製造方法
CN104205266B (zh) * 2012-03-30 2017-05-24 太阳诱电株式会社 层叠陶瓷电容器及其制造方法
US9679698B2 (en) 2012-03-30 2017-06-13 Taiyo Yuden Co., Ltd. Multi-layer ceramic capacitor and method of manufacturing the same
USRE48877E1 (en) 2012-03-30 2022-01-04 Taiyo Yuden Co., Ltd. Multi-layer ceramic capacitor and method of manufacturing the same
US9202625B2 (en) 2012-07-20 2015-12-01 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Laminated ceramic electronic component and method of fabricating the same
JP2017081805A (ja) * 2015-10-30 2017-05-18 太陽誘電株式会社 チタン酸バリウム系粉末、積層セラミックコンデンサ及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4782457B2 (ja) 2011-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100631995B1 (ko) 저온 소성용 유전체 자기조성물 및 이를 이용한 적층세라믹 콘덴서
JP4786604B2 (ja) 誘電体磁器及びそれを用いた積層セラミックコンデンサ
JP5078307B2 (ja) 誘電体磁器およびその製法、ならびにコンデンサ
JP4587924B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ
JP5804064B2 (ja) 積層セラミックコンデンサの製造方法
CN105693236B (zh) 低温烧结介电组合物以及由其形成的多层陶瓷电容器
CN107082636A (zh) 介电陶瓷组合物和含有该介电陶瓷组合物的多层陶瓷电容器
JP2008297179A (ja) 誘電体磁器および積層セラミックコンデンサ
JP2012169620A (ja) 積層セラミック電子部品及びその製造方法
JP5838968B2 (ja) 誘電体セラミック、積層セラミック電子部品、およびこれらの製造方法
JP2004214539A (ja) 誘電体セラミックおよび積層セラミックコンデンサ
JP4557472B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ及びその製法
JP4782457B2 (ja) 積層セラミックコンデンサ
KR101792275B1 (ko) 내부 전극용 도전성 페이스트, 이를 포함하는 적층 세라믹 전자 부품 및 그 제조 방법
JP2008135638A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JP4423052B2 (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法
JP4502740B2 (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法
JP4502741B2 (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法
US8492302B2 (en) Dielectric ceramic composition and ceramic electronic component
JP4511323B2 (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法
WO2011162044A1 (ja) 誘電体セラミック組成物、および積層セラミック電子部品
JP2007039755A (ja) 複合金属粉末およびその製法、導体ペースト、電子部品の製法、ならびに電子部品
JP2022088409A (ja) セラミックコンデンサ
JP2006269918A (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法
JP4809036B2 (ja) 積層セラミックコンデンサおよびその製法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080118

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100706

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100902

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110118

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110315

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110609

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110707

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140715

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4782457

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150