JP2006274040A - ポリイミドフィルムおよびそれを用いたフレキシブル回路基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フィルムの厚み方向の熱伝導率が0.1W/mK以上、好ましくはフィルムの平面方向の少なくとも1方向において熱伝導率が0.6W/mK以上、さらに好ましくはフィルムの厚み方向の熱伝導率と平面方向の平均熱伝導率の比が0.1〜0.9であることを特徴とするポリイミドフィルムおよびこのポリイミドフィルムを用いて作成されたことを特徴とするフレキシブル回路基板。
【選択図】なし
Description
しかしこれらはいずれも平面方向の熱伝導率に関するものであった。本発明者は検討の結果、厚み方向の熱伝導率が放熱性に大きく影響していることを見いだし本発明に至ったものである。
ポリイミドフィルムの熱伝導率を上記の規定範囲とするためには、ゲルフィルムの溶媒残存率が40%以下になるまで両端を把持しないことが望ましい。この間に両端を把持してしまうと、フィルムが平面方向のみに配向してしまうため、本発明の規定する熱伝導率からはずれてしまうことがある。
熱伝導率λは下記式によって算出される。
λ=Cp×ρ×α
ここで、Cpは比熱、ρは密度、αは熱拡散率を示す。
測定法:レーザフラッシュ法(t1/2法)
測定装置:レーザフラッシュ法定数測定装置
理学電機(株)製 LF/TCM FA8510B
測定温度:常温
試料寸法:直径10mm、厚さ:0.13〜0.18mm
照射光:ルビーレーザ光
測定雰囲気:真空中
測定法:DSC法
測定装置:PERKIN−ELMER社製 DSC7
測定温度:20℃
比熱校正:Saphire
測定雰囲気:窒素気流中
ρ=(m×ρw)/F
ここでm:重量(kg)、ρw:液体の密度(kg/m3)、F:浮力(kg)である。
測定方法:アルキメデス法
測定装置:重量 島津製作所製電子分析天秤AEL−200
測定温度:室温(25℃)
浸漬液:水
ケミカルスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル20.0g、N,N'−ジメチルアセトアミド167.3gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。10分撹拌後、ピロメリット酸二無水物21.6gを数回に分けて投入し、更に1時間撹拌してポリアミック酸溶液を得た。
ケミカルスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、パラフェニレンジアミン2.43g、N,N'−ジメチルアセトアミド196.4gを入れ、窒素雰囲気下、室温で攪拌し溶解させた。そこにピロメリット酸二無水物4.77gを添加し、30分撹拌した後、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル20.52gを添加し、撹拌溶解させた。そこに3,3',4,4'―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物12.87gを添加し、30分撹拌後、ピロメリット酸二無水物12.13gを添加した。30分撹拌後、ピロメリット酸二無水物のN,N'−ジメチルアセトアミド溶液(6wt%)13.6gを30分かけて滴下し、さらに1時間攪拌し、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液を実施例1と同様に製膜して、厚み25μmのフィルムを得た。このフィルムの熱伝導率を測定したところ、厚み方向は0.19W/mK、平面方向の平均値は0.78W/mKであった。
ケミカルスターラーを備えた300mlセパラブルフラスコ中に、パラフェニレンジアミン13.0g、N,N'−ジメチルアセトアミド189.6gを入れ、窒素雰囲気下、室温で撹拌した。10分撹拌後、3,3',4,4'―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物35.3gを数回に分けて投入し、更に1時間撹拌してポリアミック酸溶液を得た。
自己支持性のゲルフィルムをガラス板上で乾燥することを行わず、直接ゲルフィルムを金属枠で把持した。このとき把持前の溶媒残存率は85%であった。200℃30分、300℃20分、400℃5分の条件で熱処理を行う以外は実施例1と同様に製膜を行った。このフィルムの熱伝導率を測定したところ、厚み方向は0.09W/mK、平面方向の平均値は0.55W/mKであった。
Claims (4)
- フィルムの厚み方向の熱伝導率が0.1W/mK以上であることを特徴とするポリイミドフィルム。
- フィルムの平面方向の少なくとも1方向において熱伝導率が0.6W/mK以上であることを特徴とする請求項1記載のポリイミドフィルム。
- フィルムの厚み方向の熱伝導率と平面方向の平均熱伝導率の比が0.1〜0.9であることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルム
- 請求項1〜3に記載のポリイミドフィルムを用いて作成されたことを特徴とするフレキシブル回路基板。
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