JP2006269511A - 基板処理方法および記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被処理基板を内部に保持する処理容器と、第1の処理ガスを前記処理容器に供給する、流量調整手段を含む第1のガス供給手段と、第2の処理ガスを前記処理容器に供給する第2のガス供給手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法であって、前記第1の処理ガスを、前記流量調整手段により第1の流量に制御して前記第1の方向に供給する第1の工程と、前記処理容器より当該第1の処理ガスを排出する第2の工程と、前記処理容器に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、前記処理容器より当該第2の処理ガスを排出する第4の工程と、を繰り返してなり、1の第1の工程と当該1の第1の工程の次に実施される2の第1の工程との間に処理ガス流量安定工程を設けたことを特徴とする基板処理方法。
【選択図】 図5
Description
被処理基板を内部に保持する処理容器と、
第1の処理ガスを前記処理容器に供給する、流量調整手段を含む第1のガス供給手段と、
前記処理容器と前記ガス供給手段との間に設けられ、前記第1の処理ガスが供給される供給方向を、前記処理容器に供給される第1の方向、または前記第1の処理ガスが排気されるガス排気ラインに供給される第2の方向のいずれかに切り替えるガス切り替え手段と、
第2の処理ガスを前記処理容器に供給する第2のガス供給手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法であって、
前記第1の処理ガスを、前記流量調整手段により第1の流量に制御して前記第1の方向に供給する第1の工程と、
前記処理容器より当該第1の処理ガスを排出する第2の工程と、
前記処理容器に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、
前記処理容器より当該第2の処理ガスを排出する第4の工程と、を繰り返してなり、
1の第1の工程と当該1の第1の工程の次に実施される2の第1の工程との間に処理ガス流量安定工程を設け、
当該処理ガス流量安定工程は、
1の第1の工程の後に前記ガス切り替え手段により、前記供給方向を前記第2の方向に切り替える工程(A)と、
当該工程(A)の後に前記流量調整手段により、前記第1の流量を第2の流量に減少させる工程(B)と、
当該工程(B)の後に前記流量調整手段により、前記第2の流量を前記第1の流量に増大させる工程(C)と、を有することを特徴とする基板処理方法により、また、
請求項2に記載したように、
前記第1の処理ガスは、液体原料が気化した気化ガスを含み、前記第1のガス供給手段は前記液体原料を気化する気化器を有し、当該気化器に供給される前記液体原料の流量が前記流量調整手段により制御されることを特徴とする請求項1記載の基板処理方法により、また、
請求項3に記載したように、
前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の5%以上であることを特徴とする請求項2記載の基板処理方法により、また、
請求項4に記載したように、
前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の10%以上であることを特徴とする請求項3記載の基板処理方法により、また、
請求項5に記載したように、
前記ガス排気ラインは、前記処理容器に設置された当該処理容器を排気する処理容器排気ラインに接続されていることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項記載の基板処理方法により、また、
請求項6に記載したように、
前記第3の工程が開始される前に、前記工程(B)が実施されることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項記載の基板処理方法により、また、
請求項7に記載したように、
前記第3の工程が終了してから前記工程(C)が実施されることを特徴とする請求項6記載の基板処理方法により、また、
請求項8に記載したように、
前記液体原料は金属元素を含み、前記第2の処理ガスは当該金属元素を酸化する酸化ガスを含むことを特徴とする請求項2乃至7のうちいずれか1項記載の基板処理方法により、また、
請求項9に記載したように、
前記第2の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項記載の基板処理方法により、また、
請求項10に記載したように、
前記第4の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項記載の基板処理方法により、また、
請求項11に記載したように、
被処理基板を内部に保持する処理容器と、
第1の処理ガスを前記処理容器に供給する、流量調整手段を含む第1のガス供給手段と、
前記処理容器と前記ガス供給手段との間に設けられ、前記第1の処理ガスが供給される供給方向を、前記処理容器に供給される第1の方向、または前記第1の処理ガスが排気されるガス排気ラインに供給される第2の方向のいずれかに切り替えるガス切り替え手段と、
第2の処理ガスを前記処理容器に供給する第2のガス供給手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法を、コンピュータによって動作させるプログラムを記憶した記録媒体であって、
前記基板処理方法は、
前記第1の処理ガスを、前記流量調整手段により第1の流量に制御して前記第1の方向に供給する第1の工程と、
前記処理容器より当該第1の処理ガスを排出する第2の工程と、
前記処理容器に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、
前記処理容器より当該第2の処理ガスを排出する第4の工程と、を繰り返してなり、
1の第1の工程と当該1の第1の工程の次に実施される2の第1の工程との間に処理ガス流量安定工程を設け、
当該処理ガス流量安定工程は、
1の第1の工程の後に前記ガス切り替え手段により、前記供給方向を前記第2の方向に切り替える工程(A)と、
当該工程(A)の後に前記流量調整手段により、前記第1の流量を第2の流量に減少させる工程(B)と、
当該工程(B)の後に前記流量調整手段により、前記第2の流量を前記第1の流量に増大させる工程(C)と、を有することを特徴とする記録媒体により、また、
請求項12に記載したように、
前記第1の処理ガスは、液体原料が気化した気化ガスを含み、前記第1のガス供給手段は前記液体原料を気化する気化器を有し、当該気化器に供給される前記液体原料の流量が前記流量調整手段により制御されることを特徴とする請求項11記載の記録媒体により、また、
請求項13に記載したように、
前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の5%以上であることを特徴とする請求項12記載の記録媒体により、また、
請求項14に記載したように、
前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の10%以上であることを特徴とする請求項13記載の記録媒体により、また、
請求項15に記載したように、
前記ガス排気ラインは、前記処理容器に設置された当該処理容器を排気する処理容器排気ラインに接続されていることを特徴とする請求項11乃至14のうちいずれか1項記載の記録媒体により、また、
請求項16に記載したように、
前記第3の工程が開始される前に、前記工程(B)が実施されることを特徴とする請求項11乃至15のうちいずれか1項記載の記録媒体により、また、
請求項17に記載したように、
前記第3の工程が終了してから前記工程(C)が実施されることを特徴とする請求項16記載の記録媒体により、また、
請求項18に記載したように、
前記液体原料は金属元素を含み、前記第2の処理ガスは当該金属元素を酸化する酸化ガスを含むことを特徴とする請求項12乃至17のうちいずれか1項記載の記録媒体により、また、
請求項19に記載したように、
前記第2の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項11乃至17のうちいずれか1項記載の記録媒体により、また、
請求項20に記載したように、
前記第4の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項11乃至19のうちいずれか1項記載の記録媒体により、解決する。
まず、図3A、図3Bに本発明の原理を示す。ただし図中、図1A、図1Bにおいて先に説明した部分に相当する部分には同一の参照符号を付し、説明を省略する。
10A 制御手段
11 処理容器
11A カバープレート
11B 外側容器
12 反応容器
12A 上側容器
12B 下側容器
13 保持台
14 ガードリング
15A,15B 排気口
16A,16B 処理ガスノズル
17A,17B 高速ロータリバルブ
19 ベローズ
20 回動軸
21 軸受部
22 磁気シール
52A,52B 切り替えバルブ
54A,54B ガスライン
59B,65A,65B,68A 質量流量コントローラ
59A 液体質量流量コントローラ
62 気化器
61A,61B 原料容器
61a,61b 原料
Claims (20)
- 被処理基板を内部に保持する処理容器と、
第1の処理ガスを前記処理容器に供給する、流量調整手段を含む第1のガス供給手段と、
前記処理容器と前記ガス供給手段との間に設けられ、前記第1の処理ガスが供給される供給方向を、前記処理容器に供給される第1の方向、または前記第1の処理ガスが排気されるガス排気ラインに供給される第2の方向のいずれかに切り替えるガス切り替え手段と、
第2の処理ガスを前記処理容器に供給する第2のガス供給手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法であって、
前記第1の処理ガスを、前記流量調整手段により第1の流量に制御して前記第1の方向に供給する第1の工程と、
前記処理容器より当該第1の処理ガスを排出する第2の工程と、
前記処理容器に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、
前記処理容器より当該第2の処理ガスを排出する第4の工程と、を繰り返してなり、
1の第1の工程と当該1の第1の工程の次に実施される2の第1の工程との間に処理ガス流量安定工程を設け、
当該処理ガス流量安定工程は、
1の第1の工程の後に前記ガス切り替え手段により、前記供給方向を前記第2の方向に切り替える工程(A)と、
当該工程(A)の後に前記流量調整手段により、前記第1の流量を第2の流量に減少させる工程(B)と、
当該工程(B)の後に前記流量調整手段により、前記第2の流量を前記第1の流量に増大させる工程(C)と、を有することを特徴とする基板処理方法。 - 前記第1の処理ガスは、液体原料が気化した気化ガスを含み、前記第1のガス供給手段は前記液体原料を気化する気化器を有し、当該気化器に供給される前記液体原料の流量が前記流量調整手段により制御されることを特徴とする請求項1記載の基板処理方法。
- 前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の5%以上であることを特徴とする請求項2記載の基板処理方法。
- 前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の10%以上であることを特徴とする請求項3記載の基板処理方法。
- 前記ガス排気ラインは、前記処理容器に設置された当該処理容器を排気する処理容器排気ラインに接続されていることを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項記載の基板処理方法。
- 前記第3の工程が開始される前に、前記工程(B)が実施されることを特徴とする請求項1乃至5のうちいずれか1項記載の基板処理方法。
- 前記第3の工程が終了してから前記工程(C)が実施されることを特徴とする請求項6記載の基板処理方法。
- 前記液体原料は金属元素を含み、前記第2の処理ガスは当該金属元素を酸化する酸化ガスを含むことを特徴とする請求項2乃至7のうちいずれか1項記載の基板処理方法。
- 前記第2の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項記載の基板処理方法。
- 前記第4の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項記載の基板処理方法。
- 被処理基板を内部に保持する処理容器と、
第1の処理ガスを前記処理容器に供給する、流量調整手段を含む第1のガス供給手段と、
前記処理容器と前記ガス供給手段との間に設けられ、前記第1の処理ガスが供給される供給方向を、前記処理容器に供給される第1の方向、または前記第1の処理ガスが排気されるガス排気ラインに供給される第2の方向のいずれかに切り替えるガス切り替え手段と、
第2の処理ガスを前記処理容器に供給する第2のガス供給手段と、を有する基板処理装置による基板処理方法を、コンピュータによって動作させるプログラムを記憶した記録媒体であって、
前記基板処理方法は、
前記第1の処理ガスを、前記流量調整手段により第1の流量に制御して前記第1の方向に供給する第1の工程と、
前記処理容器より当該第1の処理ガスを排出する第2の工程と、
前記処理容器に前記第2の処理ガスを供給する第3の工程と、
前記処理容器より当該第2の処理ガスを排出する第4の工程と、を繰り返してなり、
1の第1の工程と当該1の第1の工程の次に実施される2の第1の工程との間に処理ガス流量安定工程を設け、
当該処理ガス流量安定工程は、
1の第1の工程の後に前記ガス切り替え手段により、前記供給方向を前記第2の方向に切り替える工程(A)と、
当該工程(A)の後に前記流量調整手段により、前記第1の流量を第2の流量に減少させる工程(B)と、
当該工程(B)の後に前記流量調整手段により、前記第2の流量を前記第1の流量に増大させる工程(C)と、を有することを特徴とする記録媒体。 - 前記第1の処理ガスは、液体原料が気化した気化ガスを含み、前記第1のガス供給手段は前記液体原料を気化する気化器を有し、当該気化器に供給される前記液体原料の流量が前記流量調整手段により制御されることを特徴とする請求項11記載の記録媒体。
- 前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の5%以上であることを特徴とする請求項12記載の記録媒体。
- 前記第2の流量に対応する前記液体原料の流量は、前記流量調整手段の最大設定流量の10%以上であることを特徴とする請求項13記載の記録媒体。
- 前記ガス排気ラインは、前記処理容器に設置された当該処理容器を排気する処理容器排気ラインに接続されていることを特徴とする請求項11乃至14のうちいずれか1項記載の記録媒体。
- 前記第3の工程が開始される前に、前記工程(B)が実施されることを特徴とする請求項11乃至15のうちいずれか1項記載の記録媒体。
- 前記第3の工程が終了してから前記工程(C)が実施されることを特徴とする請求項16記載の記録媒体。
- 前記液体原料は金属元素を含み、前記第2の処理ガスは当該金属元素を酸化する酸化ガスを含むことを特徴とする請求項12乃至17のうちいずれか1項記載の記録媒体。
- 前記第2の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項11乃至17のうちいずれか1項記載の記録媒体。
- 前記第4の工程は、前記処理容器にパージガスを供給するパージ工程を含むことを特徴とする請求項11乃至19のうちいずれか1項記載の記録媒体。
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