JP2006253345A - 高純度電解銅箔及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明は純度が99.999wt%以上の銅からなる高純度電解銅箔である。該電解銅箔は、尿素を含む硫酸酸性の電解液を用い、あるいは、尿素及び尿素以外の有機化合物の少なくとも一種を含む硫酸酸性電解液を用いて製箔する。本発明による電解銅箔は、高周波伝送特性、耐屈曲性が優れ、プリント配線板用銅箔、高周波伝送プリント配線板用銅箔、FPC用銅箔として従来の電解銅箔に比較して比較にならないほど優れた特性を示す。
【選択図】 図1
Description
リジッドプリント配線板の最近の動向は、ファインパターン化及び高周波伝送特性の向上等である。
また、FPCの場合はファインパターン化、耐屈曲性の向上、高周波伝送特性の向上等が挙げられる。
FPCは通常2種類に分けられる。一つは、ポリイミド、ポリエステル等の絶縁性フィルムに銅箔を接着樹脂で張り付け、エッチング処理してパターンを施したものである。このタイプのFPCを通常三層FPCと呼んでいる、これに対してもう一つのタイプは、接着剤を使用しないでポリイミドと銅箔とを直接積層したFPCである。これを通常二層FPCと呼んでいる。
FPCは主に液晶、プラズマ等のフラットパネルディスプレイ、デジタルカメラ、AV機器、パソコン、コンピューター端末機器、HDD、携帯電話、カーエレクトロニクス機器等の配線に使用されている。これらの配線は折り曲げて装着したり、或いは繰り返し曲げがはいるような箇所に使用されるため、FPC用銅箔に要求される特性として、耐屈曲性が一つの重要な特性である。
例えば、特許文献1(特開昭60−248344号公報)には、基板の両面に接合された金属箔層を有し、かつその接合界面の凹凸を3μm以下としたことを特徴とする高周波用金属箔張り積層板が開示されている。
また、特許文献2(特開平053−55746号公報)には、高周波信号を伝送する金属層が、表裏両面ともに表面長さ率が150以下の銅箔からなる高周波用銅張り積層板が開示されている。
信号が高周波化するに伴い、表皮効果により電流は導体表面を流れるようになる。すなわち、導体の表面部分にのみ電流が流れることになり、表面粗さの大きい導体は信号伝播距離の増加により伝送損失が大きくなる。
これを防ぐために導体表面の凹凸を抑えると効果があると言われている。上記2件はいずれもこうした考え方に基づく出願である。
また、通常1,000mm以上の幅の銅箔を製造することが可能である。
しかし、従来の製造方法による電解銅箔は、圧延銅箔に比べ200℃以上に加熱しても焼鈍、軟化せず、屈曲性が悪いため、FPCは限られた用途でしか使用できなかった。
本出願人はこうした従来の電解銅箔の欠点をなくし、特許文献3(特許第3608840号公報)に示すように、圧延銅箔に近い屈曲性をもつ電解銅箔を開発した。
電解銅箔の場合は、通常は製造時に電解液に接している粗面に粗化処理を施している。なお、製造時にチタンドラムに接している面は光沢面と呼び、粗化処理はなされず、防錆或いは耐熱変色を抑える目的の亜鉛めっき処理、クロメート処理等を施している。
その銅張積層板にエッチング法により回路を形成し、回路側に絶縁フィルムのカバーレイを接着してFPCとする。
本発明の製造方法によれば、高周波伝送特性、耐屈曲性が優れ、プリント配線板用銅箔、高周波伝送プリント配線板用銅箔、FPC用銅箔として従来の電解銅箔に比較して比較にならないほど優れた特性を示す電解銅箔を製造することができる。
なお、ここで未処理銅箔とは表面処理を施す前の銅箔をさす。前述の図1に示す電解製箔装置により製造した銅箔である。
通常市販されている電解銅箔は、図2に示すような表面処理装置に未処理銅箔4を通し、電気化学的あるいは化学的な表面処理を連続的に行ったものである。この表面処理を施した後のものが、表面処理銅箔8と呼ばれ、プリント配線板に使用される。
その結果、こうした電解銅箔を用いてFPCを製造した場合、圧延銅箔に比較して耐屈曲性は劣る。
すなわち、本発明の銅箔は、未処理銅箔の純度が、99.999wt%以上の電解銅箔である。
以下実施例により詳細に説明する。
図1に示す回転するドラム状のカソード(チタン製)2と、陰極に対して同心円状のアノード(DSA製)1を配置した装置に下記電解液組成1の電解液3を通し、両極間に電流を流して未処理銅箔4を製造した。
製箔は、伝送損失測定用として箔厚35μmの未処理銅箔を、耐屈曲性試験用として厚さ18μmの未処理箔を製造した。この後、図2の表面処理装置を通して、密着性向上のための粗化処理、防錆処理を行って、厚さ35μm及び18μmの表面処理銅箔を得た。
電解浴: Cu 70〜130g/l
H2SO4 80〜140g/l
尿素 0.5〜10ppm
トリエタノールアミン 1〜50ppm
塩化物イオン 5〜50ppm
電流密度: 10〜100A/dm2
浴温: 40〜60℃
実施例1と同様にして、下記電解液組成2の銅電解液を使い、箔厚35μm及び箔厚18μmの未処理箔を製造した。この後、密着性向上のための粗化処理、防錆処理を行って、厚さ35μm及び18μmの表面処理銅箔を得た。
電解液組成2および製箔条件:
電解浴: Cu 70〜130g/l
H2SO4 80〜140g/l
尿素 0.5〜10ppm
ポリエチレングリコール 1〜50ppm
塩化物イオン 5〜50ppm
電流密度: 10〜100A/dm2
浴温: 40〜60℃
実施例1と同様にして、下記電解液組成3の銅電解液を使い、箔厚35μm及び箔厚18μmの未処理箔を製造した。この後、密着性向上のための粗化処理、防錆処理を行って、厚さ35μm及び18μmの表面処理銅箔を得た。
電解液組成3および製箔条件:
電解浴: Cu 70〜130g/l
H2SO4 80〜140g/l
尿素 0.5〜10ppm
低分子量ゼラチン(分子量=3,000) 1〜50ppm
塩化物イオン 5〜50ppm
電流密度: 10〜100A/dm2
浴温: 40〜60℃
実施例1と同様にして、下記電解液組成4の銅電解液を使い、箔厚35μm及び箔厚18μmの未処理箔を製造した。この後、密着性向上のための粗化処理、防錆処理を行って、厚さ35μm及び18μmの表面処理銅箔を得た。
電解液組成4および製箔条件:
電解浴: Cu 70〜130g/l
H2SO4 80〜140G/L
ニカワ 1〜50ppm
塩化物イオン 5〜50ppm
電流密度: 10〜100A/dm2
浴温: 40〜60℃
実施例1と同様にして、下記電解液組成5の銅電解液を使い、箔厚35μm及び箔厚18μmの未処理箔を製造した。この後、密着性向上のための粗化処理、防錆処理を行って、厚さ35μm及び18μmの表面処理銅箔を得た。
電解液組成5および製箔条件:
電解浴: Cu 70〜130g/l
H2SO4 80〜140g/l
チオ尿素 0.5〜10ppm
ニカワ 1〜50ppm
塩化物イオン 5〜50ppm
電流密度: 10〜100A/dm2
浴温: 40〜60℃
実施例1〜3、比較例1、2で作成した35μm電解銅箔の分析値を表1に示した。表1から明らかなように、実施例は99.999wt%以上の高純度であった。
実施例1〜3、比較例1、2で作成した35μm電解銅箔を松下電工(株)製;低誘電率・高耐熱樹脂基材に積層した後、配線長:1,000mm、線幅:0.16mmのパターンを作成し、ネットワークアナライザー(アジレント(株)8753ET)で85℃における伝送損失を測定した。
表2に85℃における伝送損失測定結果を示した。本発明による銅箔は比較例(従来)の銅箔に比べて、非常に伝送損失が小さく高周波伝送用プリント配線板用の銅箔として優れていることがわかる。
実施例1〜3、比較例1、2で作成した18μm電解銅箔をニッカン工業(株)製ニカフレックスCISV−2525(ポリイミドフィルム25μm、接着剤厚さ25μm)に、150℃、40kg/cm2、55分の条件でラミネートした後、JIS C 5016−1994に記載されているライン/スペース=1.5mm/1.0mmの耐屈曲性試験の試料を作成した。その後カバーレイとしてニカフレックスCISV−2525をラミネートし試験片とした。
信越エンジニアリング(株)製FPC高速屈曲試験機SEK−31B2Sに上記の耐屈曲性試験片をセットし、曲率半径1.5mm、ストローク長さ20.0mm、屈曲回数1500回/分で測定を行った。測定は回路抵抗を経時的に測定し、破断するまでの回数を測定した。
結果を表3に記載した。表3から明らかなように、破断までの回数が2桁近く改良されている。
また、本発明の製造方法によれば、高周波伝送特性、耐屈曲性が優れ、プリント配線板用銅箔、高周波伝送プリント配線板用銅箔、FPC用銅箔として従来の電解銅箔に比較して比較にならないほど優れた特性を示す電解銅箔を製造することができる。
2 電解製箔装置のカソード
3 電解製箔装置の電解液
4 未処理銅箔
5 表面処理装置の電解液
6 表面処理装置の電解液
7 表面処理装置のアノード
8 表面処理銅箔
Claims (6)
- 純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔。
- プリント配線板の回路を形成する銅箔であって、該銅箔が純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔であるプリント配線板用高純度電解銅箔。
- 高周波伝送プリント配線板の回路を形成する銅箔であって、該銅箔が純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔である高周波伝送プリント配線板用高純度電解銅箔。
- フレキシブルプリント配線板の回路を形成する銅箔であって、該銅箔が純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔であるフレキシブルプリント配線板用高純度電解銅箔。
- 尿素を含む硫酸酸性の電解液を用いて純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔を製箔することを特徴とする高純度電解銅箔の製造方法。
- 尿素及び尿素以外の有機化合物の少なくとも一種を含む硫酸酸性電解液を用いて純度99.999wt%以上の高純度電解銅箔を製箔することを特徴とする高純度電解銅箔の製造方法。
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