JPH04173943A - 高度可撓性高純度圧延銅箔およびその利用物 - Google Patents

高度可撓性高純度圧延銅箔およびその利用物

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JPH04173943A
JPH04173943A JP29813490A JP29813490A JPH04173943A JP H04173943 A JPH04173943 A JP H04173943A JP 29813490 A JP29813490 A JP 29813490A JP 29813490 A JP29813490 A JP 29813490A JP H04173943 A JPH04173943 A JP H04173943A
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JP
Japan
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purity
foil
copper foil
copper
high purity
Prior art date
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Pending
Application number
JP29813490A
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English (en)
Inventor
Satoshi Fujiwara
藤原 諭
Isamu Nishino
西野 勇
Choju Nagata
長寿 永田
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Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Mining Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、フレキシブルプリント基板やTAB用テープ
に有利に使用できる高度可撓性高純度圧延銅箔およびそ
の利用物に関する。
[従来の技術] 従来、我が国においてプリント回路基板用銅箔としては
、長らく電解銅箔が主として用いられてきた。
ここ数年来のフレキシブルプリント基板の急速な需要増
加に伴って、高度に可撓性に優れた圧延銅箔が重要性を
増しており、この目的に99.99重量%(以下、4N
という)の電解銅箔や、4N無酸素銅箔(OFC箔)等
が用いられてきた。
しかしながら上述の4N電解銅箔の場合は、可撓性が充
分でないという欠点があり、一方、4N無酸素銅箔にお
いても低温で容易に軟化しないという欠点があることが
判明している。
さらに近時の電子部品の高密度化に伴い、これに用いら
れる配線材料として、より高い電気伝導性を有する素材
が求められ、4N圧延銅箔についても高伝導率化などの
電気的特性の改善が望まれているのが現状である。
[発明が解決しようとする課題] 上述のように従来の4N電解銅箔や4N無酸素銅箔では
、近時の電子部品の高密度化に対応できなくなっており
、本発明は従来銅箔に比較して、より可撓性に優れ、半
軟化温度が低くそして高伝導率を示す新規な導体箔の開
発を目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは、斯る課題を解決するために鋭意研究した
結果、近時本出願人によって開発された新規金属材であ
る6N以上の高純度銅を素材として圧延箔をつくり、そ
の物性を詳細に検討したところ、従来品に比較して非常
に優れた特性を有する高純度圧延銅箔を開発することが
でき、本発明を提供することができたものである。
すなわち本発明は、純度が99.9999重量%以上の
高純度銅を素材として、最終厚さ0.3+am以下に圧
延加工したことを特徴とする高度可撓性高純度圧延銅箔
に関するものである。
[作 用] 本発明においては、純度が99.9999重量%以上の
高純度銅を素材として用い、通常の圧延加工法により所
望の厚さの銅箔を得た。
得られたサンプルと従来品とをそれぞれ用いて抵抗率を
測定し、電気伝導率を求めたところ、明らかに本発明品
の銅箔が高い伝導率を示すことを確認した。
次いで半軟化温度についてビッカース硬度を測定して求
めたところ、第1図に示されるように従来品より半軟化
温度が低いことが判明した。従来品の4N銅箔は軟化温
度が高いため、そのままの状態で樹脂にラミネートして
も樹脂キュア硬化の際の加熱によっては軟化せず、ラミ
ネート前に焼鈍工程が必要であったが、本発明品の6N
銅箔は上記キュア硬化時の加熱温度で充分に軟化するた
め、従来品の4N銅箔について行われる上記焼鈍工程を
省略できる利点をも有している。
さらに、繰り返し疲労試験を行って可撓性について調べ
たところ、第2図に示されるように従来品と比較して1
桁も耐疲労特性か向上していることが確認できた。
以下、実施例をもって詳細に説明する。
[実施例1コ ロN高純度銅を圧延して、それぞれ20血、3血の厚さ
に加工した。これを幅43aon、長さ500amにカ
ットして長方形状のサンプルを得た。
同様に比較材料として従来品である4N無酸素銅箔(4
NOFC箔)を20血、3血の厚さに加工して、同じ大
きさのサンプルを得、4端子法により抵抗率を測定した
。その結果を第1表に示す。
第1表 この結果、本発明品はいずれの厚さにおいても電気伝導
性に優れていることが判明した。
[実施例2] 6N高純度銅を冷間圧延し、加工率90%で0.1mm
厚の板にした。同様に比較材料として従来品である4N
タフピツチ銅と4N無酸素銅を同条件で圧延してO、1
aII!厚の板を得た。これらを室温、50℃、100
℃、125℃、150℃、175℃、200℃、250
℃、300℃、350℃、400℃の各温度下でアニー
ル処理したが、この場合、150℃以下では油浴中で処
理をし、150℃以上では雰囲気炉中でそれぞれ30分
間処理して、そのビッカース硬度を測定した。この測定
値を第1図にまとめ、各材料の半軟化温度を求めたとこ
ろ、本発明品は110℃であり、4Nタフピツチ銅は2
10℃、4N無酸素銅は270℃となり明らかに本発明
品の方が半軟化温度が低いことがわかった。
[実施例3コ ロN高純度銅を冷間圧延し、0 、3mm厚の板とした
。同様に比較材料として従来品である4Nタフピツチ銅
と4N無酸素銅を用いて同条件下で0.8111厚の板
を得た。
得られた材料を各自フルアニール処理した後、繰り返し
疲労試験を行い、その結果を第2図に示した。
第2図に見られるように本発明品は、従来品に比較して
1桁も耐疲労特性が強いことが判明した。
上記の各試験結果かられかるように、本発明の高純度銅
箔は高度可撓性、高度電気伝導性、低温半軟化性、高度
耐疲労特性等の優れた緒特性を併有し、フレキシブルプ
リント基板用導体箔として最適であることが判明した。
[発明の効果コ 上述のように本発明は、従来入手が難しかった6N以上
の高純度銅箔の入手が容易になったことに基づき、この
銅箔の用途開発の一つとして、従来品と比較して高い電
気伝導性を有し、樹脂の硬化キュア温度で軟化し、そし
て耐疲労特性の優れた性質を有する箔状工業的材料、特
にフレキシブルプリント基板用として最適な工業材料を
提供するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、各純度の銅のアニール温度とビ、ンカース硬
度の関係を示すグラフである。 第2図は、各純度の銅の繰り返し応力と破壊までの繰り
返し数の関係を示すグラフである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)純度が99.9999重量%以上の高純度銅を素
    材として、圧延加工によって最終厚さ0.3mm以下に
    加工された箔体からなることを特徴とする高度可撓性高
    純度圧延銅箔。
  2. (2)絶縁性のフレキシブル基板と、該フレキシブル基
    板上に形成された導体リードパターンによって構成され
    、前記リードパターンは、純度が99.9999重量%
    以上の高純度銅を素材として、圧延加工によって最終厚
    さ0.3mm以下に加工された箔体からなることを特徴
    とする高度可撓性高純度圧延銅箔であることを特徴とす
    るフレキシブルプリント基板。
JP29813490A 1990-11-02 1990-11-02 高度可撓性高純度圧延銅箔およびその利用物 Pending JPH04173943A (ja)

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