JP2006244891A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5422854B2 (ja) 2007-08-31 2014-02-19 国立大学法人東北大学 半導体装置の製造方法
JP2009224455A (ja) * 2008-03-14 2009-10-01 Tokyo Electron Ltd 平面アンテナ部材およびこれを備えたプラズマ処理装置
KR101235027B1 (ko) * 2008-07-15 2013-02-21 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 마이크로파 플라즈마 처리 장치 및, 냉각 재킷의 제조 방법
JP2010177065A (ja) * 2009-01-30 2010-08-12 Tokyo Electron Ltd マイクロ波プラズマ処理装置、マイクロ波プラズマ処理装置用のスロット板付き誘電体板及びその製造方法
JP5578865B2 (ja) * 2009-03-25 2014-08-27 東京エレクトロン株式会社 誘導結合プラズマ処理装置のカバー固定具およびカバー固定装置
JP2011003464A (ja) * 2009-06-19 2011-01-06 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置用冷却装置
JP2011029416A (ja) * 2009-07-27 2011-02-10 Tokyo Electron Ltd 平面アンテナ部材およびこれを備えたプラズマ処理装置
JP5214774B2 (ja) * 2010-11-19 2013-06-19 株式会社日立国際電気 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP5377587B2 (ja) * 2011-07-06 2013-12-25 東京エレクトロン株式会社 アンテナ、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
KR101966797B1 (ko) * 2011-10-13 2019-04-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치
GB201410703D0 (en) * 2014-06-16 2014-07-30 Element Six Technologies Ltd A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material
JP2016086099A (ja) * 2014-10-27 2016-05-19 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP2016225203A (ja) * 2015-06-02 2016-12-28 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置
JP6883953B2 (ja) * 2016-06-10 2021-06-09 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法
CN106053357A (zh) * 2016-07-12 2016-10-26 中国石油化工股份有限公司 一种等离子体原位表征方法
KR101966807B1 (ko) * 2017-03-27 2019-04-08 세메스 주식회사 기판 처리 장치
JP6973718B2 (ja) * 2018-03-19 2021-12-01 株式会社神戸製鋼所 プラズマcvd装置、及びフィルムの製造方法
PL3686916T3 (pl) * 2019-01-25 2021-06-28 Ining S.R.O. Urządzenie zgazowujące i przesłona plazmowa z układem spowolnienia urządzenia zgazowującego
CN114689267B (zh) * 2022-05-30 2022-08-05 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 等离子体电子密度分布的七通道微波干涉仪数据处理方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11195499A (ja) * 1997-12-29 1999-07-21 Anelva Corp プラズマ処理装置
JP3893888B2 (ja) * 2001-03-19 2007-03-14 株式会社日立製作所 プラズマ処理装置
JP4540926B2 (ja) * 2002-07-05 2010-09-08 忠弘 大見 プラズマ処理装置
JP2004055614A (ja) * 2002-07-16 2004-02-19 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置
JP2004265916A (ja) * 2003-02-06 2004-09-24 Tokyo Electron Ltd 基板のプラズマ酸化処理方法
JP4588329B2 (ja) * 2003-02-14 2010-12-01 東京エレクトロン株式会社 プラズマ発生装置およびリモートプラズマ処理装置
JP4073816B2 (ja) * 2003-03-31 2008-04-09 シャープ株式会社 プラズマプロセス装置

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