JP2006232898A - 導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 - Google Patents
導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006232898A JP2006232898A JP2005046380A JP2005046380A JP2006232898A JP 2006232898 A JP2006232898 A JP 2006232898A JP 2005046380 A JP2005046380 A JP 2005046380A JP 2005046380 A JP2005046380 A JP 2005046380A JP 2006232898 A JP2006232898 A JP 2006232898A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer material
- effect transistor
- organic semiconductor
- semiconductor layer
- field effect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
Description
しかし、上記の材料においても、低分子系では膜の安定性に関する問題が、高分子系では純度に起因する低性能の問題があり、さらなる改良が望まれている。
また、本発明はプロセッシビリティーが高く簡便な方法で素子を作製でき、移動度が高くオンオフ比の大きい良好なトランジスタ特性を示し、かつ経時変化しにくい安定な有機TFTを提供することを目的とする。
即ち、本発明によれば、以下の(1)〜(12)が提供される。
(2)前記一般式(1)中のRが直鎖状アルキル基であることを特徴とする上記(1)の導電性高分子材料。
(3)前記一般式(1)中のRがn−ヘキシル基であることを特徴とする上記(1)、(2)の導電性高分子材料。
(4)前記一般式(1)中のnが8以上であることを特徴とする上記(1)〜(3)の導電性高分子材料。
(6)前記電界効果型トランジスタが絶縁ゲート型電界効果トランジスタであることを特徴とする上記(5)の電界効果型トランジスタ。
(7)基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、ソース・ドレイン電極を順次積層し、さらにソース・ドレイン電極上に有機半導体層を有する構造からなる上記(5)、(6)の電界効果型トランジスタ。
(8)基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、有機半導体層を順次積層し、さらに有機半導体層上にソース・ドレイン電極を有する構造からなる上記(5)、(6)の電界効果型トランジスタ。
(9)基板上にソース・ドレイン電極、有機半導体層、ゲート絶縁層を順次積層し、さらにゲート絶縁層上にゲート電極を有する構造からなる上記(5)、(6)の電界効果型トランジスタ。
(11)基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁層の順に積層し、その上に上記(1)〜(4)の導電性高分子材料の溶液を塗布した後、溶媒を乾燥させて有機半導体層を形成し、さらに前記有機半導体層上にソース電極及びドレイン電極を形成することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
(12)基板上に、ソース・ドレイン電極を形成した後、その上に上記(1)〜(4)の導電性高分子材料の溶液を塗布した後、溶媒を乾燥させて有機半導体層を形成し、さらに前記有機半導体層上にゲート絶縁層、ゲート電極を形成することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
更に、(10)〜(12)の発明により、コストパフォーマンスに優れ、かつ良好な特性を示す優れた薄膜トランジスタの湿式製造方法が提供される。
本発明の導電性高分子材料は下記一般式(1)で示される。
アルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ブチル基、i−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、3,7−ジメチルオクチル基、2−エチルヘキシル基、トリフルオロメチル基、2−シアノエチル基、ベンジル基、4−クロロベンジル基、4−メチルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を一例として挙げることができるが、特に溶解性及び、結晶構造をとりやすくするために、直鎖状アルキル基であることが好ましい。また合成の容易さ、試薬の入手のしやすさからn−ヘキシル基であることが好ましいが、それより長い長鎖アルキル基でもよい。
図1(A)、(B)、(C)は本発明に係る有機TFTの概略構造を示す図である。本発明に係る有機TFTの有機半導体層は、一般式(1)で示した繰り返し単位を有する重合体を主成分とする。デバイスには空間的に分離されたゲート電極、ソース電極、ドレイン電極が設けられており、ゲート電極と有機半導体層の間にはゲート絶縁層が設けられている。TFTデバイスはゲート電極への電圧の印加により、ソース電極とドレイン電極の間の有機半導体層内を流れる電流がコントロールされる。
また本発明の電界効果型トランジスタには公知の縦型有機静電誘導トランジスタ(縦型SIT:Static Induction Transistor )も含まれる。
デバイスにフレキシビリティー、軽量、安価等の特性が所望される場合、通常はプラスチック基板が用いられる。また、図1(A)、(B)に示すトランジスタ構造の場合には、導電性の基板を用いることにより、ゲート電極を兼ねる事が可能である。
(Ethyl thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxylateの合成)
500ml四つ口フラスコに、2−アルデヒド−3−ブロモチオフェン26.8g(140mmol)、チオグリコール酸エチル16.9g(141mmol)、炭酸カリウム 26g、ジメチルホルムアミド250mlを入れ、室温で72時間撹拌した。反応終了後、水500mlを加え、ジクロロメタンで3回洗浄した。溶媒を減圧留去し、Ethyl thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxylate 23.8gを粗生成物として得た。
(Thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxyic acidの合成)
1L三角フラスコにて、Ethyl thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxylate23.8gとテトラヒドロフラン300ml、水酸化リチウム300ml(1.0mol/l)を入れ、3時間還流した。反応終了後溶媒を濃縮し、濃塩酸150mlを加えると結晶が析出した。結晶を3回水洗し、Thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxyic acid16.0gを得た。融点は221℃であった。
(2,3,5-Tribromo-thieno[3,2-b]thiopheneの合成)
1L四つ口フラスコに窒素雰囲気下、Thieno[3,2-b]thiophene-2-carboxyic acid16.0g、酢酸水溶液500mlを入れ、臭素15.2gを滴下し、5時間撹拌し反応させた。反応終了後、水を加え、ろ過し、析出した結晶を水洗した。
白結晶の2,3,5-Tribromo-thieno[3,2-b]thiophene27.4gを得た。
(2,3,5,6-Tetrabromothieno[3,2-b]thiopheneの合成)
1L四つ口フラスコに窒素雰囲気下、THF溶液中−66℃にてLDA試薬を調製した。その後、2,3,5-Tribromo-thieno[3,2-b]thiophene10gをTHF溶液に溶かした。その後、臭素21gを入れ、4時間反応させた。反応終了後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、水洗し結晶物をろ過し、2,3,5,6-Tetrabromo-thieno[3,2-b]thiophene1.7gを得た。融点は230℃であった。
(3,6-Dibromothieno[3,2-b]thiopheneの合成)
500ml四つ口フラスコに窒素雰囲気下、2,3,5,6-Tetrabromo-thieno[3,2-b]thiophene1.7gと酢酸200ml、亜鉛0.3gを入れ、1時間還流した。反応終了後、ろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去し、ろ物をシリカゲルにてカラム精製した。3,6-Dibromothieno[3,2-b]thiophene1.1gを得た。
(3,6-Dihexylthieno[3,2-b]thiopheneの合成)
300ml四つ口フラスコに窒素雰囲気下、3,6-Dibromothieno[3,2-b]thiophene0.5gと[NiCl2(dppp)]5.6mgとジエチルエーテル50mlを入れた。0℃下、n−ヘキシルマグネシウムブロミド2.3mlを入れ、1時間撹拌した。反応終了後、氷水にあけ、有機層を抽出し、塩酸、続いて、水で洗浄した。
2,3,5,6-Tetrabromo-thieno[3,2-b]thiophene1.7gと酢酸200ml、亜鉛0.3gを入れ、1時間還流した。反応終了後、ろ過し、ろ液の溶媒を減圧留去し、ろ物をシリカゲルにてカラム精製した。3,6-Dibromothieno[3,2-b]thiophene1.1gを得た。溶媒を減圧留去し、ろ物をシリカゲルにてカラム精製した。3,6-Dihexylthieno[3,2-b]thiophene80mgを得た。
50mlなすフラスコに、上記の3,6-Dihexylthieno[3,2-b]thiophene80mg、三塩化鉄126mg、クロロホルム20mlを入れ35℃にて、18時間反応させて下記反応式(2)に示す反応を行わせた。反応終了後、メタノール100mlの溶液に入れた。固化した重合体1をメタノールで5回洗浄した。
固形分をアセトンで抽出した成分は、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量で1090、重量平均分子量は1360であった。
さらに固形分をテトラヒドロフランで抽出した成分は、GPCにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量で2010、重量平均分子量は3480であった。
テトラヒドロフランで抽出した重合体1の赤外吸収スペクトル(NaClキャスト膜)を図2に示した。
Ids=μCin W(Vg−Vth)2/2L
ただし、Cin はゲート絶縁膜の単位面積あたりのキャパシタンス、Wはチャネル幅、Lはチャネル長、Vgはゲート電圧、Idsはソースドレイン電流、μは移動度、Vthはチャネルが形成し始めるゲートのしきい値電圧である。作製したTFTの移動度はおよそ5.6×10−4(cm2/Vsec)であった。またオンオフ比(Vg=−20VでVds=−20Vの場合に観測されたIdsとVg=0VでVds=−20Vの場合に観測されたIdsの比)は3×103以上であった。ここで、Vdsはソースドレイン電圧である。
作製した有機TFTは優れた特性を示した。
有機半導体層としてポリー3−ヘキシルチオフェンを用いた以外は実施例8と同様の方法により、図1(A)に示される構造の薄膜デバイスを作製した。作製した有機TFTにおける移動度は7.76×10−5(cm2/Vsec)、オフ電流(Vg=0Vの場合のIds)が大きい為に、オンオフ比は10程度であった。
Claims (12)
- 前記一般式(1)中のRが直鎖状アルキル基であることを特徴とする請求項1記載の導電性高分子材料。
- 前記一般式(1)中のRがn−ヘキシル基であることを特徴とする請求項1または2記載の導電性高分子材料。
- 前記一般式(1)中のnが8以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性高分子材料。
- 有機半導体層を具備する電界効果型トランジスタにおいて、該有機半導体層が請求項1〜4のいずれかに記載の導電性高分子材料を主成分とすることを特徴とする電界効果型トランジスタ。
- 前記電界効果型トランジスタが絶縁ゲート型電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項5記載の電界効果型トランジスタ。
- 基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、ソース・ドレイン電極を順次積層し、さらにソース・ドレイン電極上に有機半導体層を有する構造からなる請求項5または6記載の電界効果型トランジスタ。
- 基板上にゲート電極、ゲート絶縁層、有機半導体層を順次積層し、さらに有機半導体層上にソース・ドレイン電極を有する構造からなる請求項5または6記載の電界効果型トランジスタ。
- 基板上にソース・ドレイン電極、有機半導体層、ゲート絶縁層を順次積層し、さらにゲート絶縁層上にゲート電極を有する構造からなる請求項5または6記載の電界効果型トランジスタ。
- 基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁層、ソース・ドレイン電極を順次積層し、さらにその上に請求項1〜4のいずれかに記載の導電性高分子材料の溶液を塗布した後、溶媒を乾燥させて有機半導体層を形成することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
- 基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁層の順に積層し、その上に請求項1〜4のいずれかに記載の導電性高分子材料の溶液を塗布した後、溶媒を乾燥させて有機半導体層を形成し、さらに前記有機半導体層上にソース電極及びドレイン電極を形成することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
- 基板上に、ソース・ドレイン電極を形成した後、その上に請求項1〜4のいずれかに記載の導電性高分子材料の溶液を塗布した後、溶媒を乾燥させて有機半導体層を形成し、さらに前記有機半導体層上にゲート絶縁層、ゲート電極を形成することを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046380A JP2006232898A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046380A JP2006232898A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006232898A true JP2006232898A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37040915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005046380A Pending JP2006232898A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006232898A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009062537A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-03-26 | Xerox Corp | ジケトピロロピロール系ポリマーおよびその形成方法 |
JP2009135422A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-06-18 | Xerox Corp | 薄膜トランジスタおよびその形成方法 |
WO2009051390A3 (en) * | 2007-10-15 | 2009-07-16 | Dongjin Semichem Co Ltd | Novel thiophene-based dye and preparation thereof |
WO2009102031A1 (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-20 | Osaka University | 多環縮環化合物、多環縮環重合体及びこれらを含む有機薄膜 |
JP2009203447A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Ricoh Co Ltd | ベンゾチエノ[3,2−b]ベンゾチオフェン構造を含む重合体 |
WO2012111533A1 (ja) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機トランジスタ用化合物 |
JP2014234432A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 凸版印刷株式会社 | チエノチオフェン重合体とその製造方法、有機薄膜、有機薄膜光電変換素子、および有機薄膜太陽電池 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001515933A (ja) * | 1997-09-05 | 2001-09-25 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 電子デバイス用化合物 |
JP2003502874A (ja) * | 1999-06-21 | 2003-01-21 | ケンブリッジ ユニバーシティ テクニカル サービシズ リミティド | 有機tft用の配列されたポリマー |
JP2008504379A (ja) * | 2004-05-18 | 2008-02-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | モノ−、オリゴ−およびポリチエノ[3,2−b]チオフェン類 |
JP2008513460A (ja) * | 2004-09-14 | 2008-05-01 | コーニング インコーポレイテッド | 縮合チオフェン、縮合チオフェンの製造方法、およびその使用方法 |
-
2005
- 2005-02-23 JP JP2005046380A patent/JP2006232898A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001515933A (ja) * | 1997-09-05 | 2001-09-25 | ケンブリッジ ディスプレイ テクノロジー リミテッド | 電子デバイス用化合物 |
JP2003502874A (ja) * | 1999-06-21 | 2003-01-21 | ケンブリッジ ユニバーシティ テクニカル サービシズ リミティド | 有機tft用の配列されたポリマー |
JP2008504379A (ja) * | 2004-05-18 | 2008-02-14 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | モノ−、オリゴ−およびポリチエノ[3,2−b]チオフェン類 |
JP2008513460A (ja) * | 2004-09-14 | 2008-05-01 | コーニング インコーポレイテッド | 縮合チオフェン、縮合チオフェンの製造方法、およびその使用方法 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009062537A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-03-26 | Xerox Corp | ジケトピロロピロール系ポリマーおよびその形成方法 |
JP2009135422A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-06-18 | Xerox Corp | 薄膜トランジスタおよびその形成方法 |
WO2009051390A3 (en) * | 2007-10-15 | 2009-07-16 | Dongjin Semichem Co Ltd | Novel thiophene-based dye and preparation thereof |
CN103254659A (zh) * | 2007-10-15 | 2013-08-21 | 株式会社东进世美肯 | 噻吩系染料及其制备方法 |
CN103254658A (zh) * | 2007-10-15 | 2013-08-21 | 株式会社东进世美肯 | 噻吩系染料及其制备方法 |
CN103254658B (zh) * | 2007-10-15 | 2015-03-11 | 株式会社东进世美肯 | 噻吩系染料及其制备方法 |
CN103254659B (zh) * | 2007-10-15 | 2015-11-18 | 株式会社东进世美肯 | 噻吩系染料及其制备方法 |
WO2009102031A1 (ja) * | 2008-02-13 | 2009-08-20 | Osaka University | 多環縮環化合物、多環縮環重合体及びこれらを含む有機薄膜 |
JP2009203447A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-10 | Ricoh Co Ltd | ベンゾチエノ[3,2−b]ベンゾチオフェン構造を含む重合体 |
WO2012111533A1 (ja) * | 2011-02-15 | 2012-08-23 | 住友化学株式会社 | 有機トランジスタ用化合物 |
JP2014234432A (ja) * | 2013-05-31 | 2014-12-15 | 凸版印刷株式会社 | チエノチオフェン重合体とその製造方法、有機薄膜、有機薄膜光電変換素子、および有機薄膜太陽電池 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100933764B1 (ko) | 유기 박막 트랜지스터 | |
JP4383161B2 (ja) | 新規有機半導体高分子およびこれを利用した有機薄膜トランジスタ | |
US10011684B2 (en) | Arylamine polymer, method for producing the same, ink composition, film, electronic device, organic thin-film transistor, and display device | |
TWI549327B (zh) | 有機場效電晶體及有機半導體材料 | |
JP2006232898A (ja) | 導電性高分子材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | |
JP2009197218A (ja) | 重合体、それを含む有機膜及びトランジスタ | |
JP2009170906A (ja) | 高分子半導体化合物、薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタを製造する方法 | |
US20050277760A1 (en) | Device with small molecular thiophene compound having divalent linkage | |
US20050276981A1 (en) | Device with small molecular thiophene compound | |
JP5170507B2 (ja) | 有機薄膜トランジスタ | |
JP2013201363A (ja) | 有機薄膜トランジスタ、有機薄膜トランジスタアレイおよび表示装置 | |
JP4891552B2 (ja) | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法 | |
JP2004067862A (ja) | 有機半導体材料、これを用いた電界効果トランジスタ | |
KR101072477B1 (ko) | 고분자 곁사슬에 알킬티오펜 기가 치환된 유기 반도체 화합물 및 이를 이용한 유기 박막 트랜지스터 | |
JP5948765B2 (ja) | π電子共役系化合物前駆体を用いた電子デバイス用インク組成物、有機膜の製造方法、及び電界効果トランジスタの製造方法 | |
JP5104428B2 (ja) | 有機半導体材料、これを用いた電界効果トランジスタ | |
JP5205778B2 (ja) | 有機薄膜トランジスタ | |
JP5030444B2 (ja) | 有機薄膜トランジスタ | |
JP4942943B2 (ja) | 有機半導体材料、それを用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | |
JP5320877B2 (ja) | 有機薄膜トランジスタ及びディスプレイ装置 | |
KR101121204B1 (ko) | 방향족 엔다이인 유도체를 이용한 유기 반도체 박막의제조방법, 그에 의한 유기 반도체 박막 및 이를 채용한전자소자 | |
JP2007250710A (ja) | 有機薄膜トランジスタ | |
JP2006049775A (ja) | 電界効果型有機トランジスタ及びその製造方法 | |
JP2008163348A (ja) | 有機半導体材料、これを用いた電界効果トランジスタ | |
JP2007250711A (ja) | 有機薄膜トランジスタ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080122 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100409 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100603 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110414 |