JP2006224057A - ブレード塗布方法及びその装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 どこにもカスレのない良好な均一厚みの塗布層のディスクＤを塗布液を無駄にしない有効利用えきるブレード塗布方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布するブレード塗布方法であって、平面基板の全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを平面基板に重ね合わせた状態でブレードを平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ移動させ、ブレードの上流側に供給された塗布液をブレードで移動させながら、ブレードの下流のギャップからマスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、複数のブレードを用い、第1のブレードが塗布を行った後に、該第1のブレードが待避すると共に、第２のブレードが逆方向に次の塗布を行なうようにする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、平面基板上に塗布液を塗布するブレード塗布方法及びその装置に関する。

従来、支持体上に塗布液を塗布する塗布方式としては、ロールコート，グラビアコート，エクストルージョンコートが知られている。
また、平面基板上に塗布液を塗布する塗布方式としては、特許文献１に示すようなブレード塗布方式が知られている。
特開平５−２２０９６６号公報

図２２は本発明が対象とするブレード塗布装置を示す斜視図、図２３はブレードの拡大断面図である。
ブレード塗布装置１００は、平面基板上に塗布液を塗布して塗布層を形成するのに用いられ、平面基板の一例としてディスク状記録媒体（以下、ディスクという。）Ｄを被塗布部材とする。
ディスクＤは塗布液が塗布される塗布面を上にして支持部材４０（図２４）によって支持されている。支持部材４０は上下方向に昇降駆動可能に構成されており、ディスクＤを該支持部材上に移載するとき、又は塗布後に支持部材から取り出すとき、塗布するとき等に、平面基板の上下位置を所定の位置に調整することができる構成である。

ディスクＤの上方には板状のマスク３０が設けられている。マスク３０には、ディスクＤの上面における塗布層を形成する塗布面Ｄ１を露出させる開口３０ａを有している。開口３０ａは直径が１２０ｍｍ程度の円形状に形成される。なお、開口３０ａの形状は、ディスクＤ上に形成される塗布層の形状に合わせた形状とすることができ、マスク３０の開口形状を適宜変更することによって、塗布層の形状は自由に設定できる。ディスクＤの塗布時には、支持されたディスクＤが、マスク３０の下面に重ね合わされるとともに、上方視においてディスクＤの外周縁がマスク３０の開口周縁に重ね合う状態で保持される。

マスク３０の上方にはブレード２０が設けられている。ブレード２０はステンレス材等の金属材料からなる長尺状の部材であり、特にＳＵＳ３１６のクロムの含有量以上のクロムの含有量とすることが好ましく、こうすることで耐磨耗性、耐腐食性、耐熱性、離型性をより一層向上させることができる。また、図２３に示すように、ブレード２０は、長尺方向に対する垂直方向の断面形状が略台形状となるように形成されている。

ブレード塗布装置１００は、塗布液をマスク３０の上面に供給する塗布液供給手段６０を備えている。塗布液供給手段６０は、塗布前又は塗布ごとに、マスク３０の上面において、開口３０ａとブレード２０との間に所定の量の塗布液Ｐを供給する。

ブレード２０とマスク３０との間には、図２３に示すように、隙間Ｇが形成され、塗布液Ｐはブレード２０の前側面２０ａ’により流れが案内されるに伴い押圧されることで、隙間Ｇに押し込まれる。そして、塗布液Ｐが、塗布面Ｄ１に対向するブレード２０の下方端面に形成される押圧面２０ｂ’を距離Ｌにわたって通過することで、塗布液Ｐがマスク３０の開口３０ａ内に充填される。そして、図２２に示すように、塗付時にはブレード２０が、前側面２０ａ’で塗布液Ｐを開口３０ａ側に押圧しつつ、マスク３０上をその面方向に沿って移動して、塗布面Ｄ１に塗布液Ｐが平坦に塗布されるようになる。

塗布液Ｐは、粘度が１５０ｃＰ〜８００ｃＰのものを用いることが好ましく、特に、粘度が２００ｃＰ〜７００ｃＰのものを用いることが好ましい。

ブレード２０の押圧面２０ｂ’と前側面２０ａ’とのなす角度αは、１１０°≦α≦１５０°の範囲に設定することが好ましく、また、ブレード２０の押圧面２０ｂ’と後側面２０ｃ’とのなす角度βは、６０°≦β＜１００°の範囲に設定することが好ましい。また、ブレード２０の押圧面２０ｂ’とマスク３０との隙間Ｇは、２０μｍ≦Ｇ≦１５０μｍの範囲とすることが好ましい。

次に、このブレード塗布装置１００を用いた塗布液の塗布方法を説明する。
図２４は本発明に係る塗布方法の手順の前半を、図２５は本発明に係る塗布方法の手順の後半をそれぞれ表した説明図である。

このブレード塗布方法では、ブレード２０が上述した範囲となるように真直度と中心線平均表面粗さとの少なくとも一方が上述した範囲を満たす条件のもとで、マスク３０の開口３０ａから露出されたディスクＤの塗布面Ｄ１に塗布液Ｐを塗布する。

まず、台状の支持部材４０上にディスクＤを配置し、図２４（ａ）に示すように、支持部材４０を上昇させて、ディスクＤをマスク３０の開口３０ａに当接させる。
次いで、図２４（ｂ）に示すように、マスクキャップ５０がディスクＤの中央孔Ｄ２に向かって下降し、最終的に図２４（ｃ）に示すようにマスクキャップ５０がディスクＤの中央孔Ｄ２に挿着される。そして、図２２に示す塗布液供給手段６０によりマスク３０の隅に塗布液Ｐを供給し、ブレード２０を矢印Ｙで示す方向に移動させる。

図２５（ｄ）は移動開始後、開口３０ａに至る寸前の状態を示し、図２５（ｅ）は開口３０ａを通過した後の状態をそれぞれ示している。
ブレード２０が図中右方から左方に移動させることで、ブレード２０がディスクＤの塗布面Ｄ１を塗布液Ｐと共に通過して、ディスクＤの塗布面Ｄ１に所定厚ｔ１の塗布液層が形成される。
次に、図２５（ｆ）に示すように、マスクキャップ５０がディスクＤから引き出される。これにより、ディスクＤの中央部には塗布液Ｐの塗布されない円形段部Ｄ２が形成されることとなる。そして、図２５（ｇ）に示すように、支持部材４０が下降することによりマスク３０の開口３０ａからディスクＤが下方へと離反される。これにより、塗布面Ｄ１に塗布された塗布液Ｐは、マスク３０上の塗布液Ｐより分離される。この結果、ディスクＤの外周縁にはマスク３０に覆われていたことで、塗布液Ｐの塗布されていない非塗布部Ｄ３が形成されることとなる。
このようにして塗布液Ｐの塗布が完了したディスクＤは、支持部材４０から取り外され、図示しない次工程の塗布液乾燥工程等へと移送される。

図２６はマスクからディスクＤを離す状態を示す図で、（ａ）は支持部材が上昇時、（ｂ）は支持部材が下降時をそれぞれ表わす斜視図である。ブレード塗布装置１００では、上下駆動可能な支持部材４０にディスクＤを支持させ、支持部材４０を駆動部材４０１によって上方位置まで駆動させ、ディスクＤの被塗布部以外の部分を開口４ａを有するマスク３０に重ね合わせた状態とし、マスク３０上に供給された塗布液Ｐを長尺形状のブレード２０をマスク３０上面で矢印Ｙ方向に移動させることで塗布液Ｐを掻き延ばし、開口３０ａから露出した被塗布部に塗布液Ｐを堆積させることでディスクＤ上に塗布液６の塗布層Ｐを形成するものである。
ディスクＤに塗布液を塗布した後は、マスクキャップ５０（図２５（ｆ））を取り外した後、図２６（ｂ）に示すように、支持部材４０を下方に降下させることで、塗布層Ｐが形成された平面基板Ｄをマスク３０から離す作業が行われる。

このような塗布方式は、例えば、ディスク状の基板を有する磁気記録媒体の製造工程で、基板上に印刷面をブレード塗布（又はドクターブレード塗布）によって形成する手段として適用することができる。図２７はこのようなブレード２０とマスク３０を使った塗布方式でディスクを塗布した平面図であり、これを見ると、ディスクＤの全表面のうち、未塗布部分はわずかに中央部のＤ２部分と外周部のＤ３だけで、ほぼ１００％が塗布されていることになる。

このように高開口率マスク３０を用いてブレード２０で塗布すると、スクリーン印刷と異なり、ブレード２０の１ストロークで、多量の塗布液が消費されることになる。従来装置にあっては、多量の塗布液が無駄にならないように、ブレード２０の１ストロークで消費される塗布液量をＱとすると、１．０Ｑ〜１．２Ｑ程度の塗布液を毎回供給して、ディスクＤの塗布印刷を行っていた。

ところが、本出願人はこの程度の塗布液量（１．０Ｑ〜１．２Ｑ）では、ディスクＤの一部にカスレやスジがときどき発生することに気がついた。その理由を追求したところ、ディスクＤの中心付近を通る方向（直径方向）では多量の塗布液を使用し、またディスクＤの周辺を通る上記と同じ方向ではほとんど塗布液を使用しないという塗布液の消費量がブレードの長さ方向の部位によって倍以上も異なっており、したがって、塗布液の消費量に見合った塗布液量をそれぞれの部位に最初に正確に供給すれば（ブレードやマスクへの塗布液のこれ以上の付着がないという定常状態では）理論的には塗布液量Ｑでよいことになるが、実際はそのようにすることは極めて困難だからである。

ところが、その後の実験結果、２Ｑ以上の塗布液量を最初に供給すると、全面に厚みムラの発生しない極めて良好な均一厚みの塗布層が得られ、また逆に、１０Ｑのように多すぎると厚みムラがでてこれもよくないので、最終的には２Ｑ〜５Ｑが好ましいことが判った。

ところが従来装置のように塗布液量を毎回使い切ってしまう装置では全く問題にならなかった問題が、２Ｑ以上の塗布液量を最初に供給する解決法には発生した。それは、ブレード２０の１ストロークが終わっても、消費されないでマスク３０上に残留する塗布液量が無視できないほど多くなり、この残留塗布液をどう処理するかが問題となった。

第１策は、残留塗布液は毎回捨てて、次のストロークでは、また新たに塗布液を２Ｑ〜５Ｑ供給することであるが、これはムダが多く、省資源に反する。

第２策は、残留塗布液を回収槽に回収し、ノズル６０の方へ再供給して、再利用することであるが、これには回収槽や再供給パイプなど高価な新たな部品を多く必要とし、また、回収途中で乾燥して固形物となり、それがパイプが詰まったり、ディスクＤに塗布されたして、好ましくない。

本発明はこれらの欠点を解決するためになされたもので、ムダがなく、省資源となり、回収槽や再供給パイプなど高価な新たな部品を必要とせず、乾燥し固形物となることのないブレード塗布方法およびその装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、ブレード塗布方法に係り、塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布して該平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布方法であって、該平面基板の周縁部位を除く全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを前記平面基板に重ね合わせた状態で前記ブレードを前記平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ相対移動させ、前記ブレードの上流側に供給された塗布液を前記ブレードで移動させながら該ブレードの下流のギャップから前記マスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、複数のブレードを用い、第1のブレードが塗布を行った後に、該第1の前記ブレードが待避すると共に、第２のブレードが逆方向に次の塗布を行なうことを特徴としている。

請求項２記載の発明は、ブレード塗布方法に係り、塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布して該平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布方法であって、該平面基板の周縁部位を除く全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを前記平面基板に重ね合わせた状態で前記ブレードを前記平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ相対移動させ、前記ブレードの上流側に供給された塗布液を前記ブレードで移動させながら該ブレードの下流のギャップから前記マスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、前記ブレードが塗布を行った後に、該ブレードが残留塗布液に対して反対側に移動し、引き続きそこから逆方向にから次の塗布を行なうことを特徴としている。

請求項３記載の発明は、光ディスクに係り、請求項１又は２記載のブレード塗布方法によってプリンタブル面の少なくとも一層が層設されたことを特徴としている。

請求項４記載の発明はブレード塗布装置に係り、被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第１のブレードと、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って下流側から上流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第２のブレードと、前記第１のブレード側および前記第２のブレード側の少なくともどちらか側に塗布液を供給するノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記第１のブレードが塗布を行った後、該第１のブレードが待避すると共に、前記第２のブレードが逆方向から次の塗布を行なうことを特徴としている。

請求項５記載の発明は、請求項４記載のブレード塗布装置において、被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第１のブレードと、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って下流側から上流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第２のブレードと、前記第１のブレード側に塗布液を供給する第１のノズルと前記第２のブレード側に塗布液を供給する第２のノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記第１のノズルが塗布液を供給した後、前記第１のブレードが上流側から下流側へ塗布を行ない、前記第２のノズルが塗布液を供給した後、前記第２のブレードが下流側から上流側へ塗布を行なうことを特徴としている。

請求項６記載の発明は、請求項５記載のブレード塗布装置において、ブレード塗布装置に係り、前記第１のブレードが前記被塗布体載置台の下流側にあるときに前記第１のノズルが塗布液を供給し、また、前記第２のブレードが前記被塗布体載置台の上流側にあるときに前記第２のノズルが塗布液を供給することを特徴としている。

請求項７記載の発明は、ブレード塗布装置に係り、被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する１枚のブレードと、前記ブレードの進行方向前側に塗布液を供給するノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記ブレードが塗布を行った後に、該ブレードが残留塗布液に対して反対側に移動し、引き続きそこから逆方向にから次の塗布を行なうことを特徴としている。
請求項８記載の発明は、請求項７記載のブレード塗布装置において、前記ブレードが塗布を行った後に、残留塗布液の上方で該残留塗布液を中心に水平面で１８０度回転してその反対側に下降し、引き続きそこから逆方向から次の塗布を行なうことを特徴としている。

請求項９記載の発明は、請求項４〜８のいずれか１項記載のブレード塗布装置において、前記ノズルが、前記ブレードの１ストロークで前記平面基板上に塗布する塗布液量の２倍〜６倍の塗布液を常時前記ブレードが移動させるように、毎ストローク毎に又は所定ストローク毎に補充するものであることを特徴としている。

請求項１０記載の発明は、請求項４〜９のいずれか１項記載のブレード塗布装置において、前記ブレードの両端からそれぞれ所定の間隔を置いて前記ブレードの進行方向に平行に敷設された塗布液流漏阻止堰を備えたことを特徴としている。

本発明にかかるブレード塗布方法によれば、最初の供給塗布液量を十分にしてディスクＤのどの部位にも十分な量の塗布液が供給されて極めて良好な均一厚みの塗布層が得られるるにもかかわらず、残留塗布液に新たに新鮮な塗布液を追加して常に移動状態におくことで、乾燥させたりすることなく、一旦供給された塗布液は最後まですべて使い切ることができるようになる。

以下、本発明に係るブレード塗布方法をディスク用の印刷面塗布装置に実施した実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。

図１は実施例１に用いられる各部品等をすべて開陳した状態を示す斜視図である。１０は実施例１のブレード塗布装置で、図２２の従来装置１００と比較して判るように、図２２の従来装置１００は、マスク３０の上方にはブレード２０と塗布液供給手段６０とをそれぞれ１本ずつ備えているのに対して、実施例１のブレード塗布装置１０は、マスク３０の上方にブレード２０ａ、２０ｂと塗布液供給手段（以下、ノズルという）６０ａ、６０ｂとそれぞれ２本ずつ備えているのが大きく異なる点である。
なお、図において、Ｐ１とＰ２はれぞれノズル６０ａ、６０ｂがマスク３０上に吐出供給した塗布液である。Ｙ１、Ｙ２はブレード２０ａ、２０ｂの移動方向である。
その他、各部品の名称と機能は、図２２の従来装置のそれと同じ符号のものは同じ名称と機能を有するので、重複説明は省略する。
また、マスクキャップ５０はここでも必要であるが、その動作は従来装置と同じ動作であるので、本発明の説明を簡潔にするため、その図示および動作説明は省略する。

以下、図１の実施例１に係るブレード塗布装置１０の動作について、図２〜図１４を用いて説明する。
図２について：
図２は実施例１に係るブレード塗布装置１０の初期状態である。したがって、ブレード２０ａ、２０ｂとノズル６０ａ、６０ｂはそれぞれ原点に復帰して、待機状態にある。表面に塗布されるべき新しいディスクＤが支持部材４０の上に載置され、真空吸引で固定された状態で、モータ４１によって上昇させられて、マスク３０の裏面に密着し、マスク３０の開口３０ａにその被塗布部を臨ませている。

図３について：
図３では、ノズル６０ａがブレード２０ａの上方にある駆動装置（図示なし）と干渉しない待避位置から、塗布液Ｐ１を吐出供給のために、吐出供給位置まで下降して、塗布液Ｐ１を吐出供給したところである。
この後、ノズル６０ａは元の待避位置まで待避し、ブレード２０ａはＹ１方向（図１）に移動開始する。
なお、ノズル６０ａはブレード２０ａの長さ方向に沿って移動して塗布液Ｐ１を均等に供給しているが、移動させずに、複数の固定インジェクタをブレード２０ａの長さ方向に所定間隔で配置して、各インジェクタからスポット状に吐出させてもよい。

図４について：
図４では、ブレード２０ａが開口３０ａ（図３）の半分ほどまで移動して、新しいディスクＤの半分まで塗布液Ｐが塗布された状態を示している。
このとき、ノズル６０ｂがブレード２０ｂの上方にある駆動装置（図示なし）と干渉しない待避位置から、塗布液Ｐ２を吐出供給のために、吐出供給位置まで下降して、塗布液Ｐ２を吐出供給している。
なお、ノズル６０ｂの塗布液Ｐ２の吐出供給は、図３のタイミングで行っても良い。

図５について：
図５では、ブレード２０ａがディスクＤの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態を示している。このとき、ブレード２０ａの先端下方には、残留塗布液Ｐ１が十分残っている。
従来装置では残留塗布液Ｐ１が残らないようにギリギリの塗布液供給をしていたので、ディスク面に部分的にカスレが生じることがあったが、本発明では上述の２Ｑ〜５Ｑといった残留塗布液Ｐ１が残るほど、十分な供給をしているので、ディスク面に部分的にカスレが生じることがない。
さらに、本願発明ではこの残留塗布液Ｐ１を廃棄することも回収槽へ回収することもせずに、直ちに新たに新しい塗布液Ｐ２と共に再利用するのが特徴である。

図６について：
図６では、最終ゴールに到達したブレード２０ａは、役目を終えて、上方へ待避する。これと同時に、塗布液Ｐの塗布されたディスクＤが支持部材４０の上に載置されたままモータ４１によってＺ方向に下降する。

図７について：
図７では、図６でディスクＤが下降した後、（図１７で後述するように）塗布完了ディスクＤは支持部材４０から取り除かれ、次に塗布されるべき新しいディスクＤが支持部材４０の上へ載置され、真空吸引で固定された状態で、モータ４１によってＺ方向に上昇させられて、再びマスク３０の裏面に密着し、マスク３０の開口３０ａにその被塗布部を臨ませている。
ブレード２０ａが待避状態（上昇状態）のままＹ２方向に移動開始し、残留塗布液Ｐ１と新規吐出された塗布液Ｐ２とをＹ２方向に移動させるブレード２０ｂも移動を開始する。
また、このとき、ノズル６０ａがブレード２０ａの上方から吐出供給位置まで下降して、塗布液Ｐ１を吐出供給している。

図８について：
図８では、ブレード２０ｂが塗布液Ｐ１、Ｐ２を開口３０ａ（図３）の半分ほどまでＹ２方向に移動させて、新しいディスクＤの半分まで塗布が完了した状態を示している。ブレード２０ａは依然待避状態（上昇状態）のままＹ２方向に移動している。

図９について：
図９では、ブレード２０ｂがディスクＤの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態を示している。このとき、ブレード２０ｂの先端下方には、残留塗布液Ｐ２が残っている。
一方、ブレード２０ａは新たに吐出供給された塗布液Ｐ１の上流側に待避位置から下降している。

図１０について：
図１０では、最終ゴールに到達したブレード２０ｂが役目を終えて、上方へ待避する。これと同時に、塗布液Ｐの塗布されたディスクＤが新しいディスクＤと交換のため、支持部材４０の上に載置されたままモータ４１によってＺ方向に下降する。

図１１について：
図１１では、次に塗布されるべき新しいディスクＤが支持部材４０の上へ載置され、マスク３０の開口３０ａにその被塗布部を臨ませている。
ブレード２０ｂが待避状態（上昇状態）のままＹ１方向に移動開始し、残留塗布液Ｐ２と新規吐出された塗布液Ｐ１とをＹ１方向に移動させるブレード２０ａも移動を開始する。
また、このとき、ノズル６０ｂが吐出供給位置まで下降して、塗布液Ｐ２を吐出供給している。

図１２について：
図１２では、ブレード２０ａが開口の半分ほどまでＹ１方向に移動して、新しいディスクＤの半分まで塗布液Ｐを塗布完了した状態を示している。ブレード２０ｂは依然待避状態（上昇状態）のままＹ１方向に移動している。

図１３について：
図１３では、ブレード２０ａがディスクＤの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態を示している。このとき、ブレード２０ａの先端下方には、残留塗布液Ｐ１が残っている。
一方、ブレード２０ｂは新たに吐出供給された塗布液Ｐ１の上流側上方の待避位置にあり、そこから下降する。

図１４について：
図１４では、最終ゴールに到達したブレード２０ａは、役目を終えて、上方へ待避する。これと同時に、塗布液Ｐの塗布されたディスクＤが支持部材４０の上に載置されたままモータ４１によってＺ方向に下降する。
この図１４は図５と同じ状態を示している。
なお、ブレード２０ａが上方へ待避するときブレード２０ａの下端から塗布液が滴（したた）り落ちるので、ブレード２０ａにカバーを取付けて、常時は塗布作業に干渉しない位置（例えば、上方位置）に待避させておき、ブレード２０ａが上方へ待避するときカバーを下方に移動させてブレード２０ａ下にカバーを配する構成とするのがよい。

以後、図５から定常状態の図６に進み、図１４まで来たら、再び図６に戻ることを繰り返すことにより、ディスクの塗布液塗布が行なわれる。

以上のように、従来装置では残留塗布液Ｐ３が残らないようにギリギリの塗布液供給をしていたので、ディスク面に部分的にカスレが生じることがあったが、本発明では残留塗布液Ｐ３が残るほど、十分な供給をしているので、ディスク面に部分的にカスレが生じることがなく、しかも、本願発明では２本のブレードを用いてこの残留塗布液を常に往復移動させることで、再利用を行ない、しかも回収槽へ回収するような乾燥し易い通路を経ずに、残留塗布液がゴールに到達したら直ぐに引き返えさせ、しかも時々新しい塗布液を追加することで、残留塗布液に固化するスキを与えないようにしている。

図１５〜図１９は、本願発明の実施例２に係るブレード塗布装置である。
実施例２が実施例１と共通する点は、残留塗布液を常に往復移動させることで、有効利用しかつ固化させない点であり、相異する点は実施例２が１本のブレードだけでそれを行う点である。

図１５について：
図１５では、ブレード２０ｃがディスクＤの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態を示している。このとき、ブレード２０ｃの先端下方には、残留塗布液Ｐ３が十分残っている。

図１６について：
図１６では、最終ゴールに到達したブレード２０ｃは、役目を終えて、上昇する。これと同時に、塗布液Ｐの塗布されたディスクＤが支持部材４０の上に載置されたままモータ４１によってＺ方向に下降する。

図１７について：
図１７では、上昇したブレード２０ｃは、そこで水平面内で１８０度回転する。 また、塗布完了ディスクＤは支持部材４０から取り除かれ、次に塗布されるべき新しいディスクＤが支持部材４０の上へ載置される。

図１８について：
図１８では、水平面内で１８０度回転した後、ブレード２０ｃは下降して、マスク３０の上へ着地する。
また、新しいディスクＤが支持部材４０の上へ載置され、真空吸引で固定された状態で、モータ４１によってＺ方向に上昇させられる。

図１９について：
図１９では、マスク３０の上へ着地したブレード２０ｃは、今度はＹ２方向に移動開始する。ブレード２０ｃの直前には残留塗布液Ｐ３が残留している。実施例２の場合、前述の２Ｑ〜５Ｑの値は大きめの値を選定しているので、残留塗布液Ｐ３は実施例１でのＰ１＋Ｐ２に相当する量がまだ残留しているようになっている。したがって、ノズル６０ｃ１本だけで十分である。

このように、実施例２によれば、十分な残留塗布液Ｐ３が残るほど、最初に多量の供給しているので、１個のノズル６０ｃだけでよく、また、１本のブレード２０ｃだけで残留塗布液Ｐ３に絶えず往復運動を与えることができるので、塗布液Ｐ３は乾燥・固化することなく、最後まで有効利用されることができるようになる。

図２０は、実施例２の変形例である。
実施例２は１本のブレードを往復運動させるものであり、以上ではブレードを水平面内で１８０度回転させたが、ここではブレードの長さ方向を軸としてその軸を中心に回転させるものである。
ここで使用するブレード２０ｄの断面は、図２３で示した矩形ブレード２０を２個、図の上辺を対称軸として上方へ線対象に投影した形状をしている。
（１）において、ブレード２０ｄがディスクＤの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態を示している。このとき、ブレード２０ｄの先端下方には、残留塗布液Ｐ３が十分残っている。
（２）最終ゴールに到達したブレード２０ｄは、上昇して残留塗布液Ｐ３を乗り越える運動をすると共に、軸２１ｄ１を中心に１８０度の自転を開始する。
一方、塗布液Ｐの塗布されたディスクＤは新しいディスクと交換されるため支持部材４０の上に載置されたまま下降する。
（３）ブレード２０ｄは軸２１ｄ１を中心に１８０度の自転を度回転した後、マスク３０の上の残留塗布液Ｐ３の左側（前回移動方向下流側）へ着地し、逆方向に塗布開始する。このとき、既に新しいディスクＤが支持部材４０の上へ載置され、真空吸引で固定された状態で、上昇している。
ブレード２０ｄの前回のストロークで使用した塗布面は軸２１ｄ１を中心に１８０度の回転をして上方に位置しているので、前回のストロークで付着した塗布液はブレード２０ｄに伝って下方へ滴（したた）り落ちて今回の塗布に再使用されるため、有効利用できることとなる。

このように、実施例２の変形例によれば、残留塗布液Ｐ３は実施例１でのＰ１＋Ｐ２に相当する量がまだ残留しているようになっているので、ノズルは１本だけで十分であり、また、１本のブレード２０ｄだけで残留塗布液Ｐ３に絶えず往復運動を与えることができるので、塗布液Ｐ３は乾燥・固化することなく、最後まで有効利用されることができるようになる。

図２１は本願発明の実施例３に係るブレード塗布装置である。
１０”は本願発明の実施例３に係るブレード塗布装置で、図１（実施例１）および図１５（実施例２）が備えている部品は、実施例３にも使用されているが、実施例３を判りやすく説明するために、図示は省略している。
実施例３に係るブレード塗布装置は、本発明が塗布液を多量に使用することから、ブレードが何回も往復運動を繰り返して時間が経過するうちに、塗布液がブレードの長さ方向に広がっていって、マスク３０の端（図でマスク３０の向こう側と手前側）から垂れ落ちる恐れがあった。

実施例３に係る発明はこれを防止するもので、図から判るように、マスク３０上でブレードの長さ方向の両端からそれぞれ所定の間隔を置いてブレードの進行方向に平行に（すなわち、図で向こう側と手前側に）塗布液流漏阻止堰７０ａ、７０ｂを敷設している。
これによって、塗布液がブレードの長さ方向に広がっていって、マスクの端から垂れ落ちるのを防止している。

被塗布体が特にプリンタブル光ディスクのプリンタブル面のようにプリンタブル面に対してマスクの開口率が１００％に近い印刷が要求されるので、本発明に係るこの塗布方法を実施したところ、塗布液量を無駄にせずに塗布層にカスレのないきれいな塗布層が得られた。

一般に、スクリーン印刷の場合であれば、被塗布物の塗布面に対してマスクの開口率は小さくしかもマスクの開口率がブレードの長さ方向中央部から端部に向けて所定の関係で減少するといったことがないので、塗布ムラなど考えられないことであったが、本願発明の塗布対象であるディスクの塗布の場合、ディスクＤの全面積に対するマスク３０の開口率がほとんど１００％に近いマスクを使うブレード塗布印刷だからこそ、ブレードの中心を通る部位での塗布液の消耗が著しく、その部位でカスレる恐れがあった。
したがって、１ストロークで消耗する塗布液量の２倍〜５倍といった十分な塗布液量を供給することで、このカスレをなくすることができたが、その結果生じる新たな問題、すなわち毎ストローク毎に発生する多量の残留塗布液をどう捌くか、といった問題に本出願人は直面した。
本発明では、第1のブレードが運んだ残留塗布液を次に反対側から別のブレードや第1のブレードが回り込んで、逆方向に運ぶことを順次繰り返すことで、一旦、マスクの上に供給された塗布液は最終的にはすべて塗布されることになるので、本発明により無駄にならず有効利用をすることができる。

実施例１に係るブレード塗布装置を示す斜視図である。 実施例１に係るブレード塗布装置の初期状態を示す斜視図である。 ノズルが塗布液を吐出供給した状態の斜視図である。 ブレードがディスクの半分まで塗布した状態の斜視図である。 ブレードがディスクの全面に塗布液を塗布し終わった状態の斜視図である。 ブレードが上方の待避位置へ待避した状態の斜視図である。 第２のブレードが残留塗布液と新規吐出された塗布液と移動を開始する状態の斜視図である。 第２のブレードがディスクの半分まで塗布した状態の斜視図である。 第２のブレードがディスクの全面に塗布液を塗布し終わった状態の斜視図である。 最終ゴールに到達した第２のブレード上方へ待避した状態の斜視図である。 第２のブレードが待避状態のまま逆戻りする状態の斜視図である。 第１と第２のブレードが最終ゴールまで戻った状態の斜視図である。 第１のブレードがディスクの全面に塗布液Ｐを塗布して、最終ゴールに到達した状態状態の斜視図である。 実施例１に係るブレードがディスクの全面に塗布液を塗布し終わった状態の斜視図である。 実施例２に係るブレード塗布装置を説明する図で、１本のブレードがディスクを塗布して最終ゴールに到達した状態の斜視図である。 ブレードが上昇した状態の斜視図である。 上昇したブレードが水平面内で１８０度回転する状態の斜視図である。 １８０度回転後のブレードがマスクの上へ着地した状態の斜視図である。 実施例２に係るブレードが逆方向に移動開始するた状態の斜視図である。 実施例２に係るブレード塗布装置の変形例を説明する図である。 本願発明の実施例３に係るブレード塗布装置を示す斜視図である。 従来のブレード塗布装置を示す斜視図である。 ブレードの拡大断面図である。 本発明に係る塗布方法の手順を（ａ）〜（ｃ）で表した説明図である。 本発明に係る塗布方法の手順（ｃ）に続く手順を（ｄ）〜（ｇ）で表した説明図である。 マスクから被塗布部材（ディスク）を離す状態を示す図である。 塗布の完了した被塗布部材（ディスク）の平面図である。

符号の説明

１０ 本発明の実施例１に係るブレード塗布装置
１０’ 本発明の実施例２に係るブレード塗布装置
１０” 本発明の実施例３に係るブレード塗布装置
２０、２０ａ、２０ｂ、２０ｃ、６０ｄ ブレード
３０ マスク
３０ａ 開口
４０ 支持部材
５０ マスクキャップ
６０ａ、６０ｂ、６０ｃ 塗布液供給手段
Ｄ 被塗布部材たるディスク状記録媒体（ディスク）
Ｄ１ 塗布面
Ｄ２ ディスク中央孔
Ｄ３ 非塗布部
Ｐ、Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３ 塗布液
Ｙ ブレード移動方向
Ｚ 支持部材上下移動方向

Claims (10)

1. 塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布して該平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布方法であって、該平面基板の周縁部位を除く全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを前記平面基板に重ね合わせた状態で前記ブレードを前記平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ相対移動させ、前記ブレードの上流側に供給された塗布液を前記ブレードで移動させながら該ブレードの下流のギャップから前記マスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、
   複数のブレードを用い、第1のブレードが塗布を行った後に、該第1の前記ブレードが待避すると共に、第２のブレードが逆方向に次の塗布を行なうことを特徴とするブレード塗布方法。
2. 塗布液を円板状平面基板の表面にブレードによって塗布して該平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布方法であって、該平面基板の周縁部位を除く全面に塗布液を塗布するための大きな開口を有するマスクを前記平面基板に重ね合わせた状態で前記ブレードを前記平面基板と所定の間隔を保ちながら上流側から下流側へ相対移動させ、前記ブレードの上流側に供給された塗布液を前記ブレードで移動させながら該ブレードの下流のギャップから前記マスク上に塗布液を流出させて塗布層を層設する塗布方法において、
   前記ブレードが塗布を行った後に、該ブレードが残留塗布液に対して反対側に移動し、引き続きそこから逆方向にから次の塗布を行なうことを特徴とするブレード塗布方法。
3. 請求項１又は２記載のブレード塗布方法によってプリンタブル面の少なくとも一層が層設されたことを特徴とする光ディスク。
4. 被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第１のブレードと、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って下流側から上流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第２のブレードと、前記第１のブレード側および前記第２のブレード側の少なくともどちらか側に塗布液を供給するノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記第１のブレードが塗布を行った後、該第１のブレードが待避すると共に、前記第２のブレードが逆方向から次の塗布を行なうことを特徴とするブレード塗布装置。
5. 被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第１のブレードと、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って下流側から上流側へ該被塗布体載置台と相対移動する第２のブレードと、前記第１のブレード側に塗布液を供給する第１のノズルと前記第２のブレード側に塗布液を供給する第２のノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記第１のノズルが塗布液を供給した後、前記第１のブレードが上流側から下流側へ塗布を行ない、前記第２のノズルが塗布液を供給した後、前記第２のブレードが下流側から上流側へ塗布を行なうことを特徴とする請求項４記載のブレード塗布装置。
6. 前記第１のブレードが前記被塗布体載置台の下流側にあるときに前記第１のノズルが塗布液を供給し、また、前記第２のブレードが前記被塗布体載置台の上流側にあるときに前記第２のノズルが塗布液を供給することを特徴とする請求項５記載のブレード塗布装置。
7. 被塗布体である円板状平面基板を載置する被塗布体載置台と、該被塗布体載置台の上方で該被塗布体載置台と所定の間隔を保って上流側から下流側へ該被塗布体載置台と相対移動する１枚のブレードと、前記ブレードの進行方向前側に塗布液を供給するノズルとを備えたブレード塗布装置において、前記ブレードが塗布を行った後に、該ブレードが残留塗布液に対して反対側に移動し、引き続きそこから逆方向にから次の塗布を行なうことを特徴とするブレード塗布装置。
8. 前記ブレードが塗布を行った後に、残留塗布液の上方で該残留塗布液を中心に水平面で１８０度回転してその反対側に下降し、引き続きそこから逆方向から次の塗布を行なうことを特徴とする請求項７記載のブレード塗布装置。
9. 前記ノズルは、前記ブレードの１ストロークで前記平面基板上に塗布する塗布液量の２倍〜５倍の塗布液を常時前記ブレードが移動させるように、毎ストローク毎に又は所定ストローク毎に補充するものであることを特徴とする請求項４〜８のいずれか１項記載のブレード塗布装置。
10. 前記ブレードの両端からそれぞれ所定の間隔を置いて前記ブレードの進行方向に平行に敷設された塗布液流漏阻止堰を備えたことを特徴とする請求項４〜１１のいずれか１項記載のブレード塗布装置。

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