JP2006215522A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の液晶表示装置の下基板の製造方法は、(a)表面に第1金属層と第1保護層を具えた透明基板を提供し、且つ該第1金属層は少なくとも一種類の軟性金属或いはその合金で形成する工程、(b)ハーフトーンマスク工程を利用して第1パターンを第1金属層上に形成し、且つ第2パターンを金属保護層上に形成する工程、(c)窒化アルミニウム層を第1金属層と金属保護層上に形成する工程、(d)第1金属層と金属保護層上の窒化アルミニウム層を除去して第1金属層に凹凸状表面を呈させる工程、(e)薄膜トランジスタとパターンを具えた画素電極を形成する工程、を包含する。
【選択図】 図4
Description
(a)表面に第1金属層と第1保護層を具えた透明基板を提供し、該第1金属層は金属保護層と透明基板の間に挟設し、且つ第1金属層は少なくとも一種類の軟性金属或いはその合金で形成する工程、
(b)ハーフトーンマスク工程を利用して第1パターンを第1金属層上に形成し、且つ第2パターンを金属保護層上に形成する工程、
(c)窒化アルミニウム層を第1金属層と金属保護層上に形成する工程、
(d)第1金属層と金属保護層上の窒化アルミニウム層を除去して第1金属層に凹凸状表面を呈させる工程、
(e)ゲート、ソースパターン及びドレインパターンを金属保護層上に形成して薄膜トランジスタ領域となし、並びに導電性の第2金属層を該凹凸状表面の第1金属層上に形成して、ストレージコンデンサ領域となし、そのうち導電性の第2金属層をドレインと電気的に接触させる工程、
(f)パターンを具えた画素電極を形成する工程、
を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項2の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(f)の工程が更に、平坦層を、画素電極と第2金属層の間に挟まれるように形成する工程、を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項3の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、第1金属層と透明基板の間にバッファ層を形成し、バッファ層材料はチタン、窒化チタン、モリブデン、クロム或いはその合金とすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項4の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(a)の工程中の少なくとも一種類の軟性金属を、アルミニウム、銀、ニッケル、銅、或いはパラジウムとすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項5の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、金属保護層を、チタン、窒化チタン、モリブデン、クロム或いはその合金で形成することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項6の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、窒化アルミニウム層の厚さ範囲を、150Å〜1500Åとすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項7の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(e)の工程の薄膜トランジスタ領域内にあって、ゲート、ソース、ドレイン、及び金属保護層の間に、更に絶縁層、及び少なくとも一つの半導体層を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項8の発明は、請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(e)の工程のストレージコンデンサ領域内にあって、導電性の第2金属層及び凹凸状表面の第1金属層の間に、更に絶縁層を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法としている。
請求項9の発明は、液晶表示装置において、
複数の画素ユニットを具え、該画素ユニットが薄膜トランジスタ、画素電極、及び少なくとも一つのコンデンサ電極を包含し、且つ該コンデンサ電極がアルミニウム、銀、ニッケル或いはその合金で形成され、並びに凹凸状表面を具えている、下基板と、
表面に少なくとも一つの透明電極を具えた上基板と、
該下基板と該上基板の間に介装された液晶層と、
を包含したことを特徴とする、液晶表示装置としている。
請求項10の発明は、請求項9記載の液晶表示装置において、上基板が更にカラーフィルタを包含し、該カラーフィルタは上基板と透明電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶表示装置としている。
請求項11の発明は、請求項9記載の液晶表示装置において、透明電極の材料はインジウム錫酸化物或いはインジウム亜鉛酸化物とされることを特徴とする、液晶表示装置としている。
請求項12の発明は、請求項9記載の液晶表示装置において、液晶層が負の誘電異方性液晶或いは正の誘電異方性液晶とされたことを特徴とする液晶表示装置としている。
130 型 500 基板 510 凸塊パターン
520 樹脂層 530 金属層
100 領域 200 領域
10 基板 11 バッファ層
20 アルミニウム金属層 30 チタン金属層
40 窒化アルミニウム層 50 絶縁層
51 ソース 52a ドレイン(又は第2電極層)
52b 第2電極層 53 保護層
60 半導体層 70 平坦層
80 画素電極
Claims (12)
- 液晶表示装置の下基板の製造方法において、
(a)表面に第1金属層と第1保護層を具えた透明基板を提供し、該第1金属層は金属保護層と透明基板の間に挟設し、且つ第1金属層は少なくとも一種類の軟性金属或いはその合金で形成する工程、
(b)ハーフトーンマスク工程を利用して第1パターンを第1金属層上に形成し、且つ第2パターンを金属保護層上に形成する工程、
(c)窒化アルミニウム層を第1金属層と金属保護層上に形成する工程、
(d)第1金属層と金属保護層上の窒化アルミニウム層を除去して第1金属層に凹凸状表面を呈させる工程、
(e)ゲート、ソースパターン及びドレインパターンを金属保護層上に形成して薄膜トランジスタ領域となし、並びに導電性の第2金属層を該凹凸状表面の第1金属層上に形成して、ストレージコンデンサ領域となし、そのうち導電性の第2金属層をドレインと電気的に接触させる工程、
(f)パターンを具えた画素電極を形成する工程、
を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。 - 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(f)の工程が更に、平坦層を、画素電極と第2金属層の間に挟まれるように形成する工程、を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、第1金属層と透明基板の間にバッファ層を形成し、バッファ層材料はチタン、窒化チタン、モリブデン、クロム或いはその合金とすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(a)の工程中の少なくとも一種類の軟性金属を、アルミニウム、銀、ニッケル、銅、或いはパラジウムとすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、金属保護層を、チタン、窒化チタン、モリブデン、クロム或いはその合金で形成することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、窒化アルミニウム層の厚さ範囲を、150Å〜1500Åとすることを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(e)の工程の薄膜トランジスタ領域内にあって、ゲート、ソース、ドレイン、及び金属保護層の間に、更に絶縁層、及び少なくとも一つの半導体層を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 請求項1記載の液晶表示装置の下基板の製造方法において、(e)の工程のストレージコンデンサ領域内にあって、導電性の第2金属層及び凹凸状表面の第1金属層の間に、更に絶縁層を包含することを特徴とする、液晶表示装置の下基板の製造方法。
- 液晶表示装置において、
複数の画素ユニットを具え、該画素ユニットが薄膜トランジスタ、画素電極、及び少なくとも一つのコンデンサ電極を包含し、且つ該コンデンサ電極がアルミニウム、銀、ニッケル或いはその合金で形成され、並びに凹凸状表面を具えている、下基板と、
表面に少なくとも一つの透明電極を具えた上基板と、
該下基板と該上基板の間に介装された液晶層と、
を包含したことを特徴とする、液晶表示装置。 - 請求項9記載の液晶表示装置において、上基板が更にカラーフィルタを包含し、該カラーフィルタは上基板と透明電極の間に挟まれたことを特徴とする、液晶表示装置。
- 請求項9記載の液晶表示装置において、透明電極の材料はインジウム錫酸化物或いはインジウム亜鉛酸化物とされることを特徴とする、液晶表示装置。
- 請求項9記載の液晶表示装置において、液晶層が負の誘電異方性液晶或いは正の誘電異方性液晶とされたことを特徴とする液晶表示装置。
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