JP2006205130A

JP2006205130A - 塗布方法

Info

Publication number: JP2006205130A
Application number: JP2005024128A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Yoneyama; 聡米山
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2005-01-31
Filing date: 2005-01-31
Publication date: 2006-08-10

Abstract

【課題】塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、良質な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる塗布方法を提供する。
【解決手段】連続走行する帯状可撓性の支持体Ｗに塗布手段１２によって過剰の塗布液を塗布し、計量手段１４によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法。塗布開始の前には塗布手段及び計量手段を支持体より離れた待機位置に配し、塗布開始の際に支持体と接する塗布位置に移動させる。塗布手段が待機位置から支持体に接するのに要する時間ｔｌと、計量手段が待機位置から支持体の幅方向の一部に接するのに要する時間ｔ２と、支持体が塗布手段から計量手段に移動するのに要する時間ｔ３と、計量手段が支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するのに要する時間ｔ４と、の関係を、ｔ２＋ｔ４≦ｔｌ＋ｔ３となるように制御する。
【選択図】図１

Description

本発明は塗布方法に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に、複数の塗布手段により、下地層、磁気記録層等となる薄膜を塗布するのに好適に使用される塗布方法に関する。

写真感光材料や磁気記録媒体は、連続走行する帯状の支持体（以下、「ウェブ」という）上に磁性液等の所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程を経て製造される。特に、磁気記録テープ等の磁気記録媒体は、近年、放送用やコンピュータ用として急速に容量、記録密度が向上しており、膜厚が極薄く、膜厚分布が均一であり、かつ表面が平滑な磁性層を得ることのできる塗布技術が求められている。

その他、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の光学フィルム等の製造にもこのような塗布技術が求められている。

このような市場の要求に対応すべく、本出願人により、塗布膜の品質が優れ、高速な塗布を可能とする塗布方法の提案がなされている（特許文献１参照）。

この技術は、ウェブにエクストルージョン方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を塗布した後、ロッド方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を掻き落とし、所望の膜厚の塗布膜を形成するものである。
特開２０００−１２６６７３号公報

しかしながら、上記のような従来の技術においても、解決しきれていない問題点があった。すなわち、特許文献１は、定常的な塗布状態においては、ほぼ完成された技術であるが、塗布の開始時及び塗布の終了時においては、安定生産を行なうために解決すべき問題点がある。

幅広の帯状の支持体（いわゆる、ウェブ原反）の上に塗布を行う際には、ウェブ原反を巻回したロール（バルクロール）から繰り出されたウェブ原反に塗布を行ない、ウェブ原反を再度ロール状に巻き取ることが一般的に行なわれる。この際、１本のバルクロールの塗布が終了する毎にウェブ原反の走行を停止させた場合、生産性が低いので、塗布ラインを停止せずに、塗布終了後のバルクロールが新しいバルクロールに切替えられて生産が継続されるのが一般的である。

この際、塗布終了後のバルクロールのウェブ原反と新しいバルクロールのウェブ原反との間には接合部が存在することとなる。塗布、特にエクストルージョン方式の塗布を行なう場合、その接合部が塗布ヘッドを通過する際には、一旦塗布を停止して、塗布ヘッドをウェブ原反表面から離し、塗布スジ等の欠点の発生を防ぐ必要がある。

ところが、特許文献１のように、塗布装置を直列に２台設ける塗布方式の場合、塗布ヘッドのウェブ原反への着脱のタイミングによっては、部分的な厚塗りが生じることがあった。

すなわち、塗布ヘッドからの給液時間が長過ぎれば厚塗りになり、一方、給液時間が短か過ぎればカラこすりになり、ゴミを発生するため、スジ欠点の増加になりやすい。この場合、単独の塗布ヘッド構成の塗布装置であれば、給液のＯｎ／Ｏｆｆタイミングによって操作は容易であるが、複数の塗布ヘッドの構成の塗布装置の場合に操作が非常に複雑になる。

たとえば、第１の塗布ヘッドからの給液を停止したとしても、停止直前までの塗布膜が第２の塗布ヘッドを全て通過するまでは、第２の塗布ヘッドはウェブ原反に接触して塗布を続けなくてはならない。この場合、第１の塗布ヘッドからの給液を停止して、その塗布膜の終端が第２の塗布ヘッドを通過するまでの間、第１の塗布ヘッドをそのままの位置に置いておいた場合、第１の塗布ヘッドが直にウェブ原反に接触し、カラ擦りとなり、ウェブ原反の削れ異物等により、新しいバルクロールのウェブ原反の塗布開始時に塗布スジを発生させやすい。

この問題に対処すべく、第１の塗布ヘッドからの給液を停止すると同時に第１の塗布ヘッドを移動させ、第１の塗布ヘッドとウェブ原反との接触を防止させた場合、その塗布膜の終端部分近傍は、第２の塗布ヘッドで掻き取られないため厚塗りとなり、工程内の下流ローラー等を汚染することとなる。

このように、第１の塗布ヘッドと第２の塗布ヘッドとを同じ架台に固定した装置では、塗布開始時の塗布スジや塗布終了時の厚塗り等の問題点に対処するのが非常に困難である。

このため、複数の塗布ヘッドを別個に移動できるような設備とする必要がある。具体的には、塗布ヘッド毎に別々の昇降台に載せて上下動させたり、塗布ヘッド前後のガイドローラをシリンダ等で上下可動な構造にしたりする構成である。しかし、このような構成は設備の複雑化を招くため、コスト上昇や保全の負担増となり好ましくない。

他の未解決の問題点として、ガイドローラの傾斜により厚塗りとなり、工程内の下流ローラー等を汚染するという不具合が指摘されている。一般的に、特許文献１に記載されたような構成の塗布装置においては、ウェブ原反を水平に維持した状態で塗布を行なうのが原則である。図１５（Ａ）は、この状態を概念的に示した概略図である。エクストルージョン方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を塗布した後、ロッド方式の塗布装置を使用して余剰量の塗布液を掻き落とす塗布装置１において、図示しないロッド方式の塗布装置の上下流に配されウェブ原反Ｗを張架するガイドローラ２、３は、水平に、かつ相互に平行（Ｚ軸方向に）な関係にある。

ところが、実際に連続生産を行っている場合、ウェブ原反Ｗの特性やその他の塗布条件に応じて、ガイドローラ３を傾斜させることにより、塗布膜の均一性を図ったり、塗布膜の性能を確保したりすることが多い。図１５（Ｂ）は、この状態を概念的に示した概略図である。図１５（Ａ）と同様の塗布装置１において、図示しないロッド方式の塗布装置の上流に配されウェブ原反Ｗを張架するガイドローラ２は、水平に（Ｚ軸方向に）配されているが、塗布装置の下流に配されるガイドローラ３は、一端（手前側）の高さはガイドローラ２と同一レベルであるが、他端（奥側）はこれより高くなるように傾斜して配されている。

このような場合、塗布膜の均一性や塗布膜の性能は確保できるものの、ウェブ原反Ｗの幅方向の片側が厚塗りとなり易く、工程内の下流ローラー等を汚染することとなる。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、複数の塗布手段により、下地層、磁気記録層等となる薄膜を塗布する際に、塗布時の不安定現象を排除でき、膜厚分布が均一であり、良質な塗布層を形成でき、かつ、稼働率の向上、歩留りの向上が達成できる塗布方法を提供することを目的とする。

請求項１に係る本発明は、前記目的を達成するために、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に移動させる方法において、前記塗布手段が前記待機位置から前記塗布位置に向けて移動を開始してから、前記塗布手段が前記支持体に接するのに要する時間ｔｌと、前記計量手段が前記待機位置から前記塗布位置に向けて移動を開始してから、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接するのに要する時間ｔ２と、前記支持体が前記塗布手段から前記計量手段に移動するのに要する時間ｔ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するのに要する時間ｔ４と、の関係を、ｔ２＋ｔ４≦ｔｌ＋ｔ３となるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項１に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の先端部分が計量手段に到達する前に、計量手段が過剰分の塗布液を掻き落せる状態の塗布位置（掻き落し位置）に移動している。したがって、塗布層の先端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

特に、計量手段の箇所において支持体が水平状態より傾斜しており、所定の時間ｔ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

請求項２に係る本発明は、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に移動させる方法において、前記塗布手段が前記塗布位置から前記待機位置に向けて移動を開始してから、前記塗布手段が前記支持体より離れるのに要する時間Ｔｌと、前記計量手段が前記塗布位置から前記待機位置に向けて移動を開始してから、前記計量手段が前記支持体の幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ２と、前記支持体が前記塗布手段から前記計量手段に移動するのに要する時間Ｔ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ４と、の関係を、Ｔ２−Ｔ４≧Ｔｌ＋Ｔ３となるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項２に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の末端部分が計量手段を通過し、この部分の過剰分の塗布液が掻き落された後に、計量手段が待機位置に移動している。したがって、塗布層の末端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

請求項３に係る本発明は、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に同一の移動手段によって同時に移動させる方法において、前記移動手段の移動速度ｖと、前記支持体の走行速度Ｖと、前記塗布手段が前
記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの距離Ｉ１と、前記計量手段が前記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの距離Ｉ２と、前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＩ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、の関係を、Ｉ２＋Ｉ４≦Ｉ１＋Ｉ３・ｖ／Ｖとなるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項３に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の先端部分が計量手段に到達する前に、計量手段が過剰分の塗布液を掻き落せる状態の塗布位置（掻き落し位置）に移動している。したがって、塗布層の先端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

特に、計量手段の箇所において支持体が水平状態より傾斜しており、所定の距離Ｉ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

請求項４に係る本発明は、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に同一の移動手段によって同時に移動させる方法において、前記移動手段の移動速度ｖと、前記支持体の走行速度Ｖと、前記塗布手段が前記塗布位置から移動し前記支持体と離れるまでの距離Ｌ１と、前記計量手段が前記塗布位置から移動し前記支持体の幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＬ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、の関係を、Ｌ２−Ｌ４≧Ｌｌ＋Ｌ３・ｖ／Ｖとなるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項４に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の末端部分が計量手段を通過し、この部分の過剰分の塗布液が掻き落された後に、計量手段が待機位置に移動している。したがって、塗布層の末端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

特に、計量手段の箇所において支持体が水平状態より傾斜しており、所定の距離Ｌ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

請求項５に係る本発明は、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に個別の移動手段によってそれぞれ移動させる方法において、前記塗布手段の移動速度ｖ１と、前記計量手段の移動速度ｖ２と、前記支持体の走行速度Ｖ３と、前記塗布手段が前記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの
距離Ｉ１と、前記計量手段が前記待機位置から移動し前記支持体の幅方向の一部に接するまでの距離Ｉ２と、前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＩ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、の関係を、（Ｉ２＋Ｉ４）／ｖ２≦Ｉｌ／ｖｌ＋Ｉ３／Ｖ３となるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項５に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の先端部分が計量手段に到達する前に、計量手段が過剰分の塗布液を掻き落せる状態の塗布位置（掻き落し位置）に移動している。したがって、塗布層の先端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

請求項６に係る本発明は、連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に個別の移動手段によってそれぞれ移動させる方法において、前記塗布手段の移動速度ｖ１と、前記計量手段の移動速度ｖ２と、前記支持体の走行速度Ｖ３と、前記塗布手段が前記塗布位置から移動し前記支持体と離れるまでの距離Ｌ１と、前記計量手段が前記塗布位置から移動し前記支持体の幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＬ３と、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、の関係を、（Ｌ２−Ｌ４）／ｖ２≧Ｌｌ／ｖｌ＋Ｌ３／Ｖ３となるように制御することを特徴とする塗布方法を提供する。

請求項６に係る本発明によれば、上記式の関係より、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の末端部分が計量手段を通過し、この部分の過剰分の塗布液が掻き落された後に、計量手段が待機位置に移動している。したがって、塗布層の末端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

以上説明したように、本発明によれば、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の先端部分が計量手段に到達する前に、計量手段が過剰分の塗布液を掻き落せる状態の塗布位置（掻き落し位置）に移動している。したがって、塗布層の先端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。特に、計量手段の箇所において支持体が水平状態より傾斜していても、不具合を防ぐことができる。

また、本発明によれば、塗布手段により支持体に塗布された塗布層の末端部分が計量手段を通過し、この部分の過剰分の塗布液が掻き落された後に、計量手段が待機位置に移動している。したがって、塗布層の末端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。特に、計量手段の箇所において支持体が水平状態より傾斜していても、不具合を防ぐことができる。

以下、添付図面に基づいて、本発明の各実施態様について説明する。図１は、本発明の第１の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０の要部の構成を説明する斜視図である。

この塗布ライン１０において、ウェブＷが巻回されたロール等よりなる送り出し機（図示略）より送り出されるウェブＷは、複数のガイドローラＧ、Ｇ…によってガイドされて、塗布手段であるエクストルージョン方式の塗布装置の塗布ヘッド１２によって過剰の塗布液が塗布され、次いで計量手段（metering system ）であるバー塗布装置の塗布ヘッド１４によって過剰分の塗布液が掻き落され、所望の厚さの塗布層が形成され、その後、乾燥手段等の後工程を経て、巻き取りロール等よりなる巻取り機（図示略）により、塗布層が形成されたウェブＷが巻き取られるようになっている。

図２は、塗布ヘッド１２の一部を切断して示す斜視図であり、図３は、塗布ヘッド１２の先端部分とウェブＷとの位置関係を示す概略断面図である。

図２及び図３に示されるように、塗布ヘッド１２には、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、塗布ヘッド１２の本体１６には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１８と、液溜め部１８と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を塗出するスリット２０と、液溜め部１８へ塗布液を供給する液供給口２２と、液溜め部１８から塗布液を引き抜く液排出口２４と、を備えている。

液溜め部１８は、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図２に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１８の貫通した両端開口部は、図２に示されるように、本体１６の両端部に取付けられる閉鎖板２６、２８により閉止されている。なお、既述の液供給口２２は閉鎖板２６に、液排出口２４は閉鎖板２８にそれぞれ設けられている。

スリット２０は、液溜め部１８からウェブＷに向け、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１２の本体１６内部を貫通し、かつ液溜め部１８と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。なお、スリット２０におけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット２０から供給できればよい。

次に、塗布ヘッド１２の先端部分について、図３を参照しながら説明する。スリット２０は、塗布ヘッド１２の本体１６（図２参照）のフロントエッジ３０とバックエッジ３２とにより形成される。塗布ヘッド１２の本体１６の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａがそれぞれ形成されている。

図３に示されるように、フロントエッジ面３０ａは断面が略直線状に、バックエッジ面３２ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面３０ａの後端エッジ部３０ｂとバックエッジ面３２ａの先端エッジ部３２ｂとには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆの所定厚さの膜が形成できるようになっている。

なお、図２に示されるフロントエッジ面３０ａ、バックエッジ面３２ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。

スリット２０の、液溜め部１８との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スリット２０のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件により異なるが、スリット２０のウェブＷの幅方向の開口長さが１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。

図４に示されるように、バー塗布装置の塗布ヘッド１４は、一対のガイドローラＧ３、Ｇ４でガイドされて走行するウェブＷに対して、塗工用バー３６を備えた塗布ヘッド１４で塗布液を塗布する装置である。一対のガイドローラＧ３、Ｇ４は、ウェブＷが塗工用バー３６に近接走行するように配置されている。

塗布ヘッド１４は主として、塗工用バー３６、バックアップ部材３８、コーターブロック４０、４２で構成され、塗工用バー３６は、バックアップ部材３８に回動自在に支持されている。バックアップ部材３８と各コーターブロック４０、４２との間には、マニホールド４４、４６及びスロット４８、５０が形成され、各マニホールド４４、４６に塗布液Ｆが供給される。

各マニホールド４４、４６に供給された塗布液Ｆは、狭隘なスロット４８、５０を介してウェブ幅方向で均一に押し出される。これにより、塗工用バー３６に対してウェブＷの送り方向の上流側（以下、「１次側」という）に１次側塗布ビード５２が形成され、下流側（以下「２次側」という）に２次側塗布ビード５４が形成される。これらの塗布ビード５２、５４を介して、走行するウェブＷに塗布液が塗布される。

ただし、本塗布装置においては、ウェブＷに余剰の塗布液が塗布された状態で塗布ヘッド１４に到達することとなる。したがって、塗工用バー３６とウェブＷとの間隔が適正に制御されることにより、過剰分の塗布液Ｆが掻き落され、ウェブＷに所望の厚さの塗布層が形成されることとなる。

そして、マニホールド４４、４６から過剰に供給された塗布液Ｆは各コーターブロック４０、４２とウェブＷとの間からオーバーフローし、図示しない側溝を介して回収される。同様に、塗布ヘッド１２（図２、図３参照）によって過剰に塗布された塗布液Ｆも、この部分で回収される。なお、マニホールド４４、４６への塗布液Ｆの供給はマニホールド４４、４６の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。

塗工用バー３６は、図５に示されるように、丸棒状のロッド６０にワイヤ６２を螺旋状に密着巻回して形成されたワイヤ列６４を備えており、このワイヤ列６４に塗布液Ｆを保持させることにより、走行するウェブＷに塗布液を転移塗布できるようになっている。

なお、塗布ヘッド１４は、単独で使用する場合には、走行するウェブＷに塗布液を転移塗布するために用いられるが、本実施形態においては、塗布ヘッド１２（図２、図３参照）によって過剰に塗布された塗布液Ｆを塗工用バー３６によって計量して所定膜厚の塗布層を形成するために用いられ、また、マニホールド４４、４６より供給される塗布液Ｆは、塗工用バー３６の乾燥を防止する目的にも使用される。すなわち、塗工用バー３６が乾燥すると、塗布スジ等の欠点を生じ易く、これを防止する必要がある。

塗工用バー３６を構成するロッド６０及びワイヤ６２の材質としては、ステンレスをはじめとする各種金属が使用可能であり、塗布液を汚染させず、強度的に満足するものであればよい。また、ロッド６０は、２〜１５ｍｍの径のものが好適に使用される。

一方、ワイヤ６２は、真円度が２μｍ以下のものが使用される。具体的には、ワイヤ６２の単位断面積（仮想真円）に対し、欠損や突起等の不整部分の面積の割合が小さいもの（たとえば０．５％以下のもの）を使用することが好ましい。上記のように構成された塗工用バー３６は、図４に示されるように、ウェブＷの搬送方向に対して順転又は逆転される。

なお、塗工用バー３６として、図５に示されるようなワイヤ列６４を備えていない、単に丸棒状のロッド６０のみのもの（いわゆる、フラットロッド）、円柱の外周面に溝を刻設した溝付きロッド等も使用できる。

塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の昇降は、各種の１軸駆動手段により行える。このような１軸駆動手段としては、エアシリンダ、油圧シリンダ、リニアモータ、超音波モータ、ねじ部材とモータの組み合わせ（たとえば、ボールねじとステッピングモータとの組み合わせ）等、公知の各種手段が採用できる。

すなわち、１軸駆動手段としては、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４とを、待機位置と塗布位置に確実に移動させ得る手段であればよい。なお、図１に実線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は待機位置にあり、破線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は、待機位置より塗布位置に移動中の状態で、それぞれの先端がウェブＷに接する前の状態を示している。

その後、図１の破線の状態から、更に塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４が上昇し、塗布位置まで移動して停止する。

なお、１軸駆動手段に加えて、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の停止位置を確実にするためのストッパや、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の位置を検出する位置センサーを設けることもできる。

次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。

ウェブＷの幅としては、０. １〜３ｍが、ウェブＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、ウェブＷの厚さとしては、０. ５〜１００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。

これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。

また、ウェブＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。

塗布液の液組成としては、目的に応じて公知の各種の組成が選択できる。

磁性体を含む塗布液を使用し、磁性層を形成する場合には、磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。

磁性体を含まない塗布液を使用し、非磁性層を形成する場合には、塗布液に含まれる非磁性の構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。

次に、図１に示される塗布ライン１０を使用した塗布方法について説明する。先ず、塗布開始の前には塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４をウェブＷより離れた待機位置に配しておく（図１に実線で示される状態）。

塗布開始のタイミングは、塗布終了後のロールのウェブＷと、新しいロールのウェブＷとの接合部が塗布ヘッド１２を通過した直後に、ウェブＷと塗布ヘッド１２の先端とが接するような状態が好ましく、このように、塗布ヘッド１２を上昇させる。

そして、塗布ヘッド１２が待機位置から塗布位置に向けて移動を開始してから、塗布ヘッド１２がウェブＷに接するのに要する時間ｔｌと、塗布ヘッド１４が待機位置から塗布位置に向けて移動を開始してから、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部に接するのに要する時間ｔ２と、ウェブＷが塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４に移動するのに要する時間ｔ３と、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するのに要する時間ｔ４と、の関係を、ｔ２＋ｔ４≦ｔｌ＋ｔ３となるように調整する。

このように調整することにより、塗布ヘッド１２によりウェブＷに塗布された塗布層の先端部分が塗布ヘッド１４に到達する前に、塗布ヘッド１４が過剰分の塗布液を掻き落せる状態の塗布位置（掻き落し位置）に移動している。したがって、塗布層の先端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

特に、塗布ヘッド１４の箇所においてウェブＷが水平状態より傾斜しており、所定の時間ｔ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

次に、本発明の第２の実施態様について説明する。図６は、本発明の第２の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０’の要部の構成を説明する斜視図である。なお、図１と同一、類似の部材については、同様の符号を附し、その説明を省略する。

本実施態様において、図１の第１実施態様と相違する点は、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４とが同一の架台７０に固定されており、同一の移動手段（１軸駆動手段）によって同時に移動される構成である。

次に、図６に示される塗布ライン１０’を使用した塗布方法について説明する。ただし、塗布開始の前の状態、及び塗布開始のタイミングは、第１実施態様と同様である。

そして、架台７０の移動速度ｖ（塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の移動速度でもある）と、ウェブＷの走行速度Ｖと、塗布ヘッド１２が待機位置から移動しウェブＷと接す
るまでの距離Ｉ１と、塗布ヘッド１４が待機位置から移動しウェブＷと接するまでの距離Ｉ２と、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＩ３と、塗布ヘッド１４に接するウェブＷの幅方向両端部の高低差Ｉ４、すなわち、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、の関係を、Ｉ２＋Ｉ４≦Ｉ１＋Ｉ３・ｖ／Ｖとなるように調整する。

特に、塗布ヘッド１４の箇所においてウェブＷが水平状態より傾斜しており、所定の高低差Ｉ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

次に、本発明の第３の実施態様について説明する。図７は、本発明の第３の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０の要部の構成を説明する斜視図である。なお、図１と同一の部材については、同じ符号を附し、その説明を省略する。

本実施態様において、図１の第１実施態様と構成は同一であり、第１実施態様と相違する点は、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４との移動を表示する方法である。すなわち、第１実施態様では、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４の移動に要する時間を表示しており、本実施態様では、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４の移動に要する距離を表示している。

次に、図７に示される塗布ライン１０を使用した塗布方法について説明する。ただし、塗布開始の前の状態、及び塗布開始のタイミングは、第１及び第２実施態様と同様である。

そして、塗布ヘッド１２の移動速度ｖ１と、塗布ヘッド１４の移動速度ｖ２と、ウェブＷの走行速度Ｖ３と、塗布ヘッド１２が待機位置から移動しウェブＷと接するまでの距離
Ｉ１と、塗布ヘッド１４が待機位置から移動しウェブＷの幅方向の一部と接するまでの距離Ｉ２と、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＩ３と、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、の関係を、（Ｉ２＋Ｉ４）／ｖ２≦Ｉｌ／ｖｌ＋Ｉ３／Ｖ３となるように調整する。

特に、塗布ヘッド１４の箇所においてウェブＷが水平状態より傾斜しており、所定の距離Ｉ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

次に、本発明の第４の実施態様について説明する。図８は、本発明の第４の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０の要部の構成を説明する斜視図である。なお、図１と同一の部材については、同じ符号を附し、その説明を省略する。

本実施態様において、図１の第１実施態様と構成は同一であり、第１実施態様と相違する点は、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４との移動する態様である。すなわち、第１実施態様は、塗布開始の状態の実施態様であり、本実施態様は、塗布終了の状態の実施態様である。

図８において、実線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は塗布位置にあり、破線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は、塗布位置より待機位置に移動中の状態で、それぞれの先端がウェブＷから離れた状態を示している。その後、更に塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４が下降し、待機位置まで移動して停止する。

次に、図８に示される塗布ライン１０を使用した塗布方法について説明する。塗布終了のタイミングは、塗布終了後のロールのウェブＷと、新しいロールのウェブＷとの接合部が塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４を通過する前に、ウェブＷと塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の先端とが離れているような状態が好ましく、このように、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４を下降させる。

そして、塗布ヘッド１２が塗布位置から待機位置に向けて移動を開始してから、塗布ヘッド１２がウェブＷより離れるのに要する時間Ｔｌと、塗布ヘッド１４が塗布位置から待機位置に向けて移動を開始してから、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ２と、ウェブＷが塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４に移動するのに要する時間Ｔ３と、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ４と、の関係を、Ｔ２−Ｔ４≧Ｔｌ＋Ｔ３となるように調整する。

このように調整することにより、塗布ヘッド１２によりウェブＷに塗布された塗布層の末端部分が塗布ヘッド１４を通過し、この部分の過剰分の塗布液が掻き落された後に、塗布ヘッド１４が待機位置に移動している。したがって、塗布層の末端部分が厚塗り状態となる不具合を防ぐことができる。

次に、本発明の第５の実施態様について説明する。図９は、本発明の第５の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０’の要部の構成を説明する斜視図である。なお、図２と同一の部材については、同一の符号を附し、その説明を省略する。

本実施態様において、図６の第２実施態様と構成は同一であり、第２実施態様と相違する点は、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４との移動する態様である。すなわち、第２実施態様は、塗布開始の状態の実施態様であり、本実施態様は、塗布終了の状態の実施態様である。

図９において、実線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は塗布位置にあり、破線で示されている塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４は、塗布位置より待機位置に移動中の状態で、それぞれの先端がウェブＷから離れた状態を示している。

次に、図９に示される塗布ライン１０’を使用した塗布方法について説明する。ただし、塗布終了の前の状態、及び塗布終了のタイミングは、第４実施態様と同様である。

そして、架台７０の移動速度ｖ（塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４の移動速度でもある）と、ウェブＷの走行速度Ｖと、塗布ヘッド１２が塗布位置から移動しウェブＷと離れ
るまでの距離Ｌ１と、塗布ヘッド１４が塗布位置から移動しウェブＷの幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＬ３と、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、の関係を、Ｌ２−Ｌ４≧Ｌｌ＋Ｌ３・ｖ／Ｖとなるように調整する。

特に、塗布ヘッド１４の箇所においてウェブＷが水平状態より傾斜しており、所定の距離Ｌ４を生じていても、上記式の関係より不具合を防ぐことができる。

次に、本発明の第６の実施態様について説明する。図１０は、本発明の第６の実施態様であり、本発明に適用される塗布方法が適用される塗布ライン１０の要部の構成を説明する斜視図である。なお、図８と同一の部材については、同じ符号を附し、その説明を省略する。

本実施態様において、図８の第４実施態様と構成は同一であり、第４実施態様と相違する点は、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４との移動を表示する方法である。すなわち、第４実施態様では、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４の移動に要する時間を表示しており、本実施態様では、塗布ヘッド１２と塗布ヘッド１４の移動に要する距離を表示している。

次に、図１０に示される塗布ライン１０を使用した塗布方法について説明する。ただし、塗布終了の前の状態、及び塗布終了のタイミングは、第４及び第５実施態様と同様である。

そして、塗布ヘッド１２の移動速度ｖ１と、塗布ヘッド１４の移動速度ｖ２と、ウェブＷの走行速度Ｖ３と、塗布ヘッド１２が塗布位置から移動しウェブＷと離れるまでの距離
Ｌ１と、塗布ヘッド１４が塗布位置から移動しウェブＷの幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＬ３と、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、の関係を、（Ｌ２−Ｌ４）／ｖ２≧Ｌｌ／ｖｌ＋Ｌ３／Ｖ３となるように調整する。

以上、本発明に係る塗布方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。

たとえば、本実施形態の例では、図２及び図３に示されるエクストルージョン塗布方法を採用したが、このような塗布方法に限らず、各種の態様、たとえば、グラビアコート方法、ロールコート方法、ディップコート方法、スライドコート方法、バーコート方法、カーテンコート方法等も採用できる。

また、本実施形態では、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４が移動手段により上下に移動する態様が採用されているが、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４を固定し、ウェブＷが巻き掛けられている一対のガイドローラＧを上下に移動させる態様も採用できる。

磁性層用の塗布液を塗布した後に、この塗布膜を乾燥させたウェブＷのロールを準備した。ウェブＷのベースとして、幅８００ｍｍ、厚さ９μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を１６０ｍ／分とした。ウェブＷの塗布膜（磁性層）上に塗布ヘッド（塗布手段）１２及び塗布ヘッド（計量手段）１４により、下記のバックコート液を乾燥後の厚さが０．５μｍになるように塗布した。

バックコート液の処方を以下に示す。なお、「部」の表示は「重量部」を意味する。
（バックコート液の原液）
・カーボンブラック１００部
平均粒径１７μｍ
ＢＥＴ法による比表面積２２０ｍ²／ｇ
・ニトロセルロースＲＳｌ／２１００部
・ポリエステルポリウレタン３０部
・メチルエチルケトン５００部
・トルエン５００部
上記のバックコート液の原液を混練／分散させた後、以下の処方でバックコート液を作成した。
・バックコート液の原液１００部
・カーボンブラック１００部
平均粒径２５０μｍ
ＢＥＴ法による比表面積１２ｍ²／ｇ
・α−Ａｌ₂Ｏ₃ ０．１部
平均粒径０．２μｍ
［実施例１］
本実施例は、塗布開始の状態の実施態様である。

図１１は、実施例１の構成を説明する斜視図であり、図７と同様の構成のものである。この塗布ライン１０’において、ガイドローラＧ４は、図７と同様に手前側（Ａサイド）より奥側（Ｂサイド）が高くなるように傾斜して配されている。

この構成においては、ウェブＷの塗布始端部において、塗布ヘッド１２により過剰に塗布された塗布液が塗布ヘッド１４によって掻き落され、所望の厚さの塗布層が形成されるためには、塗布ヘッド１４が待機位置から移動してウェブＷの全幅に接触するまでの距離（Ｉ２＋Ｉ４）又は時間（ｔ２＋ｔ４）を小さくする必要がある。具体的には、
１）塗布ヘッド１４の上昇速度ｖを大きくする。

２）塗布ヘッド１４の上下流に設けたガイドローラＧ３、Ｇ４の位置を下げる。

３）塗布ヘッド１４の設置位置を高くする。

の手段が考えられる。本実施例１では、このうち簡便に実施が可能な１）を採用して、効果の確認を行った。

図１１の構成において、塗布ヘッド１２が待機位置から移動しウェブＷと接するまでの距離Ｉ１を１０．０ｍｍに、塗布ヘッド１４が待機位置から移動しウェブＷの幅方向の一部と接するまでの距離Ｉ２を１５．０ｍｍに、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＩ３を２５０ｍｍに、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４を５．０ｍｍに、ウェブＷの走行速度Ｖを１
６０ｍ／分にそれぞれ設定した。

そして、塗布ヘッド１２及び塗布ヘッド１４（架台７０）の上昇速度ｖを１０〜１６０ｍｍ／秒の範囲で変化させた。

速度ｖの各条件において、塗布ヘッド１４が待機位置から移動しウェブＷのＡサイドと接するまでに要する時間（単位：秒）ｔ２、塗布ヘッド１４がウェブＷのＡサイドと接した後、ウェブＷのＢサイドと接するのに要する時間（単位：秒）ｔ４、ウェブＷが塗布ヘッド１２を通過してから塗布ヘッド１４に到達するまでに要する時間（単位：秒）ｔ３、及び、塗布ヘッド１２が待機位置から移動しウェブＷと接するまでに要する時間（単位：秒）ｔ１をそれぞれ実測した。

そして、ｔ２＋ｔ４（単位：秒）である、塗布ヘッド１４が待機位置から移動しウェブＷのＢサイドと接するまでに要する時間、及び、ｔ１＋ｔ３（単位：秒）である、塗布ヘッド１２が待機位置から移動を開始してから、塗布膜の先端が塗布ヘッド１４に到達するまでに要する時間を算出し、更に、（ｔ２＋ｔ４）−（ｔ１＋ｔ３）を算出した。

同時に、ウェブＷのＡサイド及びＢサイドのそれぞれにおいて、厚塗りの発生の有無を評価した。この評価は、ウェブＷの長手方向（走行方向）の塗布膜の厚さ偏差を光学濃度（ＯＤ値）測定により行った。そして、定常状態での塗布膜の厚さとの変化の有無を評価した。この評価は、ウェブＷの幅方向についても行った。評価結果の判定は、厚塗りの発生が認められた場合を×と、厚塗りの発生が認められなかった場合を○とした。また、塗布ヘッド１４より下流のガイドローラＧの汚染を目視により評価した。

以上の結果を図１２の表に纏めた。この実施例１の結果より、ｔ２＋ｔ４≦ｔｌ＋ｔ３となる条件であれば、ガイドローラＧの汚染を防げることが確認された。また、この条件であれば、幅方向のいずれの部分においても、厚塗りを防止できることが確認された。

［実施例２］
本実施例は、塗布終了の状態の実施態様である。

図１３は、実施例２の構成を説明する斜視図であり、図１０と同様の構成のものである。この塗布ライン１０において、ガイドローラＧ４は、図１０と同様に手前側（Ａサイド）より奥側（Ｂサイド）が高くなるように傾斜して配されている。

この構成においては、ウェブＷの塗布終端部において、塗布ヘッド１２により過剰に塗布された塗布液が塗布ヘッド１４によって掻き落され、所望の厚さの塗布層が形成されるためには、塗布ヘッド１４が塗布位置から移動してウェブＷから離れ始めるまでの距離（Ｌ２−Ｌ４）又は時間（Ｔ２−Ｔ４）を大きくする必要がある。具体的には、
１）塗布ヘッド１４の下降速度ｖを小さくする。

３）塗布ヘッド１４の設置位置を高くする。

の手段が考えられる。本実施例２では、このうち簡便に実施が可能な１）を採用して、効果の確認を行った。

図１３の構成において、塗布ヘッド１２が定常の塗布位置から移動しウェブＷと離れるまでの距離Ｌ１を１０．０ｍｍに、塗布ヘッド１４が定常の塗布位置から移動しウェブＷの幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２を２０．０ｍｍに、塗布ヘッド１２から塗布ヘッド１４までのウェブＷの長さＬ３を２５０ｍｍに、塗布ヘッド１４がウェブＷの幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４を５．０ｍｍに、ウェブＷの走行速度Ｖ３を１６０ｍ／分にそれぞれ設定した。

そして、塗布ヘッド１２の下降速度ｖ１及び塗布ヘッド１４の下降速度ｖ２を同一の速度ｖに設定し、この下降速度ｖを４０〜１７０ｍｍ／秒の範囲で変化させた。

速度ｖの各条件において、塗布ヘッド１４が定常塗布位置から移動しウェブＷより完全に離れるまでに要する時間、すなわち、ウェブＷのＡサイドより離れるまでに要する時間（単位：秒）Ｔ２、塗布ヘッド１４がウェブＷのＢサイドより離れた後、ウェブＷのＡサイドより離れるまでに要する時間（単位：秒）Ｔ４、ウェブＷが塗布ヘッド１２を通過してから塗布ヘッド１４に到達するまでに要する時間（単位：秒）Ｔ３、及び、塗布ヘッド１２が定常塗布位置から移動しウェブＷより離れるまでに要する時間（単位：秒）Ｔ１をそれぞれ実測した。

そして、Ｔ２−Ｔ４（単位：秒）である、塗布ヘッド１４が定常塗布から移動しウェブＷのＢサイドより離れるまでに要する時間、及び、Ｔ１＋Ｔ３（単位：秒）である、塗布ヘッド１２が定常塗布位置から移動を開始してから、塗布膜の終端が塗布ヘッド１４に到達するまでに要する時間を算出し、更に、（Ｔ２−Ｔ４）−（Ｔ１＋Ｔ３）を算出した。

以上の結果を図１４の表に纏めた。この実施例２の結果より、Ｔ２−Ｔ４≧Ｔｌ＋Ｔ３となる条件であれば、ガイドローラＧの汚染を防げることが確認された。また、この条件であれば、幅方向のいずれの部分においても、厚塗りを防止できることが確認された。

本発明の第１の実施態様の構成を説明する斜視図エクストルージョン塗布装置の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図図２の塗布ヘッドの先端部分とウェブとの位置関係を示す概略断面図バー塗布装置の塗布ヘッドとウェブとの位置関係を示す概略断面図塗工用バーの構成を示す概略断面図本発明の第２の実施態様の構成を説明する斜視図本発明の第３の実施態様の構成を説明する斜視図本発明の第４の実施態様の構成を説明する斜視図本発明の第５の実施態様の構成を説明する斜視図本発明の第６の実施態様の構成を説明する斜視図実施例１の構成を説明する斜視図実施例１の結果を示す表実施例２の構成を説明する斜視図実施例２の結果を示す表現状の問題点を説明する概略図

符号の説明

１０、１０’…塗布ライン、１２…塗布ヘッド（塗布手段）、１４…塗布ヘッド（計量手段）、７０…架台、Ｆ…塗布液、Ｇ…ガイドローラ、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）

Claims

連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に移動させる方法において、
前記塗布手段が前記待機位置から前記塗布位置に向けて移動を開始してから、前記塗布手段が前記支持体に接するのに要する時間ｔｌと、
前記計量手段が前記待機位置から前記塗布位置に向けて移動を開始してから、前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接するのに要する時間ｔ２と、
前記支持体が前記塗布手段から前記計量手段に移動するのに要する時間ｔ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するのに要する時間ｔ４と、
の関係を、ｔ２＋ｔ４≦ｔｌ＋ｔ３となるように制御することを特徴とする塗布方法。
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に移動させる方法において、
前記塗布手段が前記塗布位置から前記待機位置に向けて移動を開始してから、前記塗布手段が前記支持体より離れるのに要する時間Ｔｌと、
前記計量手段が前記塗布位置から前記待機位置に向けて移動を開始してから、前記計量手段が前記支持体の幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ２と、
前記支持体が前記塗布手段から前記計量手段に移動するのに要する時間Ｔ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるのに要する時間Ｔ４と、
の関係を、Ｔ２−Ｔ４≧Ｔｌ＋Ｔ３となるように制御することを特徴とする塗布方法。
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に同一の移動手段によって同時に移動させる方法において、
前記移動手段の移動速度ｖと、
前記支持体の走行速度Ｖと、
前記塗布手段が前記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの距離Ｉ１と、
前記計量手段が前記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの距離Ｉ２と、
前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＩ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、
の関係を、Ｉ２＋Ｉ４≦Ｉ１＋Ｉ３・ｖ／Ｖとなるように制御することを特徴とする塗布方法。
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に同一の移動手段によって同時に移動させる方法において、
前記移動手段の移動速度ｖと、
前記支持体の走行速度Ｖと、
前記塗布手段が前記塗布位置から移動し前記支持体と離れるまでの距離Ｌ１と、
前記計量手段が前記塗布位置から移動し前記支持体の幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、
前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＬ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、
の関係を、Ｌ２−Ｌ４≧Ｌｌ＋Ｌ３・ｖ／Ｖとなるように制御することを特徴とする塗布方法。
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布開始の前には前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体より離れた待機位置に配しておき、塗布開始の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置に個別の移動手段によってそれぞれ移動させる方法において、
前記塗布手段の移動速度ｖ１と、
前記計量手段の移動速度ｖ２と、
前記支持体の走行速度Ｖ３と、
前記塗布手段が前記待機位置から移動し前記支持体に接するまでの距離Ｉ１と、
前記計量手段が前記待機位置から移動し前記支持体の幅方向の一部に接するまでの距離Ｉ２と、
前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＩ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部に接した後、幅方向の略全部に接するまでの距離Ｉ４と、
の関係を、（Ｉ２＋Ｉ４）／ｖ２≦Ｉｌ／ｖｌ＋Ｉ３／Ｖ３となるように制御することを特徴とする塗布方法。
連続走行する帯状可撓性の支持体に塗布手段によって過剰の塗布液を塗布し、次いで計量手段によって過剰分の塗布液を掻き落して所望の厚さに計量した塗布層を形成する塗布方法であって、
塗布終了の際に前記塗布手段及び前記計量手段を前記支持体に接する塗布位置から前記支持体より離れた待機位置に個別の移動手段によってそれぞれ移動させる方法において、
前記塗布手段の移動速度ｖ１と、
前記計量手段の移動速度ｖ２と、
前記支持体の走行速度Ｖ３と、
前記塗布手段が前記塗布位置から移動し前記支持体と離れるまでの距離Ｌ１と、
前記計量手段が前記塗布位置から移動し前記支持体の幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ２と、
前記塗布手段から前記計量手段までの前記支持体の長さＬ３と、
前記計量手段が前記支持体の幅方向の一部より離れた後、幅方向の略全部より離れるまでの距離Ｌ４と、
の関係を、（Ｌ２−Ｌ４）／ｖ２≧Ｌｌ／ｖｌ＋Ｌ３／Ｖ３となるように制御することを特徴とする塗布方法。