JP2006192319A - パターン形成装置、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板面内に対する液滴の乾燥環境を均一にしてパターン形状の均一性を向上し、その生産性を向上したパターン形成方法、パターン形成装置、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供する。
【解決手段】 透明基板２を収容する収容室２２に連通可能な第１減圧チャンバ３１を素子形成面２ｓ直上に設け、収容室２２と第１減圧チャンバ３１との間を連通する第１連通路（吸引孔３３及び排気孔２９）を素子形成面２ｓと相対する大きさで形成し、さらに第１減圧チャンバ３１内の第１減圧室３２の容積を収容室２２の容積よりも大きい容積で形成した。そして、第１減圧室３２内の圧力を、予め液滴を減圧乾燥するための第１目標圧力に調整し、液滴１８を乾燥するときに、第１バルブ２９Ｖを開弁して、収容室２２と第１減圧室３２を連通させるようにした。
【選択図】 図７

Description

本発明は、パターン形成装置、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置に関する。

従来、発光素子を備えるディスプレイには、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を備える電気光学装置としての有機エレクロトルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）が知られている。その有機ＥＬ素子の製造方法には、透明基板の素子形成面上に高分子有機材料溶液からなる液滴を吐出して有機ＥＬ層を形成する液相プロセスが利用されている。

上記する液相プロセスでは、素子形成面上の液滴に含まれる溶媒成分を蒸発させることによって有機ＥＬ層（パターン）を形成する。そのため、素子形成面内の乾燥環境が不均一になると、パターン形状の均一性（例えば、素子形成面内におけるパターン膜厚の均一性や同パターンの平坦性等）を損なう問題を招く。

そこで、従来より、こうした液相プロセスでは、パターン形状の均一性を向上させる液滴の乾燥方法が提案されている（例えば、特許文献１）。特許文献１では、液滴を吐出した直後に、素子形成面上にカバーを被せ、同素子形成面とカバーとの間の空間を減圧することによって液滴を乾燥する（減圧乾燥する）ようにしている。これによって、液滴を吐出してから同液滴を乾燥するまでの時間を短縮することができ、周辺温度や雰囲気等によって乾燥環境を不均一にする時間を削減することができる。そのため、液滴中の溶媒が揮発性の高い溶媒であっても、乾燥工程までの時間を短縮する分だけ、素子形成面内の各液滴に均一な乾燥環境を形成することができ、パターン形状の均一性を向上させることができる。
特開２００３−２６２４６４ 号広報

しかしながら、特許文献１では、素子形成面とカバーとの間の空間を減圧するため、基板のサイズが大型になると、同空間内を所定の圧力まで減圧するために要する時間が長くなる。その結果、パターン形状の均一性やパターン形成のスループットを低下させ、ひいては電気光学装置の生産性を損なう問題を招く。

さらに、こうした減圧乾燥を行う装置（真空装置）では、一般的に、減圧乾燥する空間（乾燥空間）の一端部に真空ポンプが接続されるため、真空ポンプの接続側の真空度が高くなる。その結果、基板のサイズが大型になると、素子形成面上の圧力の偏差が顕著になり、素子形成面内の乾燥環境を不均一にする、すなわちパターン形状の均一性をさらに低下させる問題となる。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板面内に対する液滴の乾燥環境を均一にしてパターン形状の均一性を向上し、その生産性を向上したパターン形成方法、パターン形成装置、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置を提供することである。

本発明のパターン形成方法は、パターン形成基板のパターン形成面上にパターン形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記パターン形成面上にパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、第１減圧ポンプを駆動して第１減圧室内の圧力を前記所定の圧力まで予め減圧し、前記液滴の吐出されたパターン形成基板を収容室内に収容した後に、前記収容室と前記第１減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力にするようにした。

本発明のパターン形成方法によれば、第１減圧室を予め所定の圧力まで減圧する分だけ、パターン形成面上の圧力を所定の圧力まで速やかに減圧することができる。その結果、パターン形成面に対する液滴の乾燥環境を均一にすることができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成方法は、前記液滴の吐出されたパターン形成基板を収容室内に収容した後に、前記収容室の前記パターン形成面と相対向する位置と前記第１減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力まで減圧するようにした。

このパターン形成方法によれば、予め所定の圧力に減圧される第１減圧室を介して、収容室のパターン形成面と相対向する位置から収容室内の圧力を減圧するようになる。従って、収容室内をパターン形成面と相対向する位置から減圧する分だけ、パターン形成面全面に対する圧力分布を均一にすることができ、液滴を均一に乾燥させることができる。

このパターン形成方法は、第２減圧ポンプを駆動して第２減圧室内の圧力を前記所定の圧力と大気圧との間の圧力まで予め減圧し、前記収容室と前記第１減圧室とを連通する前に、前記収容室と前記第２減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力と大気圧との間の圧力まで減圧するようにした。

このパターン形成方法によれば、予め所定の圧力と大気圧との間の圧力まで減圧された第２減圧室を介して、まず収容室内を所定の圧力と大気圧との間の圧力まで減圧するため、大気圧から所定の圧力への減圧によって液滴の突沸現象を招く場合であっても、第２減圧室を介した減圧によって、その突沸現象を回避することができる。その結果、突沸現象を回避して、パターン形成面上の圧力を所定の圧力まで速やかに減圧することができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

本発明のパターン形成装置は、パターン形成面上にパターン形成材料を含む液滴を吐出されたパターン形成基板を収容する収容室と、前記収容室内を所定の圧力まで減圧する減圧手段とを備え、前記液滴を前記所定の圧力下で乾燥することによって前記パターン形成面上にパターンを形成するパターン形成装置において、前記減圧手段が、前記収容室に併設され、第１減圧ポンプによって常に前記所定の圧力に減圧される第１減圧室と、前記収容室内に前記パターン形成基板を収容する状態で、前記収容室と前記第１減圧室とを連通する第１連通路と、前記第１連通路を連通不能に閉弁し、前記第１連通路を連通可能に開弁する第１遮断弁と、を備えた。

本発明におけるパターン形成装置によれば、第１減圧室を予め所定の圧力まで減圧する分だけ、パターン形成面上の圧力を所定の圧力まで速やかに減圧することができる。その結果、パターン形成面に対する液滴の乾燥環境を均一にすることができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

このパターン形成装置において、前記第１連通路は、前記収容室内に前記パターン形成基板を収容する状態で前記収容室の前記パターン形成面と相対向する位置に設けられた。
このパターン形成装置によれば、予め所定の圧力に減圧される第１減圧室と、収容室の
パターン形成面と相対向する第１連通路を介して、収容室内の圧力を減圧するようになる。従って、収容室内をパターン形成面と相対向する位置から減圧する分だけ、パターン形成面全面に対する圧力分布を均一にすることができ、液滴を均一に乾燥させることができる。

このパターン形成装置において、前記第１連通路は、前記収容室の前記パターン形成面上を前記第１減圧室内まで貫通する貫通孔である。
このパターン形成装置によれば、パターン形成面上を前記第１減圧室まで貫通する貫通孔を介して前記収容室を減圧するため、パターン形成面全面に対する圧力分布を、さらに均一にすることができる。

このパターン形成装置において、前記第１減圧室は、前記収容室の容積よりも大きい容積を有した。
このパターン形成装置によれば、第１減圧室が収容室の容積よりも大きい容積で形成される分だけ、パターン形成面上の圧力を所定の圧力まで速やかに減圧することができる。

このパターン形成装置において、前記減圧手段は、前記収容室に併設され、第２減圧ポンプによって常に前記所定の圧力と大気圧との間の圧力に減圧される第２減圧室と、前記収容室と前記第２減圧室とを連通する第２連通路と、前記第２連通路を連通不能に閉弁し、前記第２連通路を連通可能に開弁する第２遮断弁と、を備えた。

このパターン形成装置によれば、収容室が予め所定の圧力と大気圧との間の圧力に減圧される第２減圧室を備えるため、大気圧から所定の圧力への減圧によって液滴の突沸現象を招く場合であっても、第２減圧室を介した減圧によって、その突沸現象を回避することができる。その結果、突沸現象を回避して、パターン形成面上の圧力を所定の圧力まで速やかに減圧することができ、パターン形状の均一性を向上することができる。

本発明のカラーフィルタの製造方法は、透明基板の一側面上にカラーフィルタ層形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記一側面上にカラーフィルタ層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、前記液滴を、上記するパターン形成方法によって乾燥するようにした。

本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、液滴を所定の圧力下で乾燥することによって形成したカラーフィルタ層の形状の均一性を向上することができる。
本発明のカラーフィルタは、上記するカラーフィルタの製造方法によって製造した。

本発明のカラーフィルタによれば、カラーフィルタ層の形状を均一にすることができ、その生産性を向上することができる。
本発明の電気光学装置の製造方法は、透明基板上の一側面上に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記一側面上に発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、前記液滴を、上記するパターン形成方法によって乾燥するようにした。

本発明の電気光学装置の製造方法によれば、液滴を所定の圧力下で乾燥することによって形成した発光素子の形状の均一性を向上することができる。
本発明の電気光学装置は、電気光学装置の製造方法によって製造した。

本発明の電気光学装置によれば、発光素子の形状を均一にすることができ、その生産性を向上することができる。

（第１実施形態）
以下、本発明を具体化した第１実施形態を図１〜図７に従って説明する。図１は、電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬディスプレイ）を示す概略平面図である。

図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１にはパターン形成基板としての透明基板２が備えられている。透明基板２は、四角形状に形成される無アルカリガラス基板であって、その一側面（図１における表面：パターン形成面としての素子形成面２ｓ）には、四角形状の素子形成領域３が形成されている。

素子形成領域３には、上下方向（列方向）に延びる複数のデータ線Ｌｙが所定の間隔をおいて形成されている。前記複数のデータ線Ｌｙは、それぞれ透明基板２の下側に配設されるデータ線駆動回路Ｄｒ１に電気的に接続されている。データ線駆動回路Ｄｒ１は、図示しない外部装置から供給される表示データに基づいてデータ信号を生成し、そのデータ信号を対応するデータ線Ｌｙに所定のタイミングで出力するようになっている。

その素子形成領域３には、データ線Ｌｙと同じく、列方向に延びる複数の電源線Ｌｖが所定の間隔をおいて各データ線Ｌｙに併設されている。前記複数の電源線Ｌｖは、それぞれ素子形成領域３の下側に形成される共通電源線Ｌｖｃに電気的に接続され、図示しない電源電圧生成回路の生成する駆動電源を各電源線Ｌｖに供給するようになっている。

また、素子形成領域３には、データ線Ｌｙ及び電源線Ｌｖと直交する方向（行方向）に延びる複数の走査線Ｌｘが所定の間隔をおいて形成されている。前記複数の走査線Ｌｘは、それぞれ透明基板２の左側に形成される走査線駆動回路Ｄｒ２に電気的に接続されている。走査線駆動回路Ｄｒ２は、図示しない制御回路から供給される走査制御信号に基づいて、複数の走査線Ｌｘの中から所定の走査線Ｌｘを所定のタイミングで選択駆動し、その走査線Ｌｘに走査信号を出力するようになっている。

これらデータ線Ｌｙと走査線Ｌｘの交差する位置には、対応するデータ線Ｌｙ、電源線Ｌｖ及び走査線Ｌｘに接続されることによってマトリックス状に配列される複数の画素４が形成されている。その画素４内には、図１に示すように、四角形状の制御素子形成領域５及び発光素子形成領域６が区画形成されている。

次に、上記する画素４の構成について以下に説明する。図２は、画素４のレイアウトを示す概略平面図である。図３は、図２の一点鎖線Ａ−Ａに沿った画素４を示す概略断面図である。まず、上記する画素４の制御素子形成領域５の構成について以下に説明する。尚、図２では、画素４のレイアウトを説明するため、その便宜上、後述する陰極１６、接着層７ａ及び封止基板７の記載を省略している。

図２に示すように、各画素４の下側には、制御素子形成領域５が形成され、その制御素子形成領域５内には、スイッチング用トランジスタＴ１、駆動用トランジスタＴ２及び保持キャパシタＣｓが備えられている。

スイッチング用トランジスタＴ１は、ポリシリコン型の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）であって、第１チャンネル領域Ｇ１、第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１を有したポリシリコンチャンネル膜（第１チャンネル膜Ｂ１）を備えている。これら第１チャンネル領域Ｇ１、第１ソース領域Ｓ１及び第１ドレイン領域Ｄ１は、それぞれ対応する走査線Ｌｘ、データ線Ｌｙ及び保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１に電気的に接続されている。

駆動用トランジスタＴ２は、スイッチング用トランジスタＴ１と同じく、ポリシリコン型のＴＦＴであって、第２チャンネル領域Ｇ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２を有したポリシリコンチャンネル膜（第２チャンネル膜Ｂ２）を備えている。これら第２チャンネル領域Ｇ２、第２ソース領域Ｓ２及び第２ドレイン領域Ｄ２は、それぞれ保持キャパシタＣｓの前記下部電極Ｃｐ１（スイッチング用トランジスタＴ１のドレイン領域Ｄ１）、保持キャパシタＣｓの上部電極Ｃｐ２及び後述する発光素子形成領域６の陽極１１と電気的に接続されている。

保持キャパシタＣｓは、前記下部電極Ｃｐ１と前記上部電極Ｃｐ２との間に容量膜としての絶縁膜ＩＬＤ（図３参照）を有するキャパシタであって、その上部電極Ｃｐ２は、対応する電源線Ｌｖに電気的に接続されている。そして、これら各トランジスタＴ１，Ｔ２、保持キャパシタＣｓ、各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖの層間及び線間には、シリコン酸化膜等からなる絶縁膜ＩＬＤ（図３参照）が形成され、この絶縁膜ＩＬＤによって各層間及び線間が電気的に絶縁されている。

そして、走査線駆動回路Ｄｒ２が、順次走査線Ｌｘを介して対応する第１チャンネル領域Ｇ１に走査信号を入力する（線順次走査）すると、選択されたスイッチング用トランジスタＴ１が選択期間中だけオン状態になる。スイッチング用トランジスタＴ１がオン状態となると、データ線駆動回路Ｄｒ１から出力されるデータ信号が、対応するデータ線Ｌｙ及びスイッチング用トランジスタＴ１を介して保持キャパシタＣｓの下部電極Ｃｐ１に供給される。データ信号が下部電極Ｃｐ１に供給されると、保持キャパシタＣｓは、そのデータ信号に相対する電荷を前記容量膜に蓄積する。そして、スイッチング用トランジスタＴ１がオフ状態になると、保持キャパシタＣｓに蓄積される電荷に相対した駆動電流が、駆動用トランジスタＴ２を介して発光素子形成領域６の陽極１１に供給される。

次に、上記する画素４の発光素子形成領域６の構成について以下に説明する。
図２に示すように、各画素４の上側には、発光素子形成領域６が形成されている。図３に示すように、その発光素子形成領域６であって前記絶縁膜ＩＬＤの上層には、透明電極としての陽極１１が形成されている。陽極１１は、光透過性を有する透明導電膜であって、後述する液滴１８（図６参照）に対する親液性（親水性）を有している。そして、陽極１１の一端は、図２に示すように、駆動用トランジスタＴ２の第２ドレイン領域Ｄ２に電気的に接続されている。

図３に示すように、陽極１１の上層には、各陽極１１を互いに絶縁する隔壁層１２が形成されている。隔壁層１２は、後述する液滴１８（図６参照）を撥液するフッ素系樹脂等の有機材料で形成されている。この隔壁層１２は、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒ（図５参照）を露光すると、露光された部分のみがアルカリ性溶液等の現像液に可溶となる、いわゆるポジ型の感光性材料で形成されている。

その隔壁層１２であって陽極１１の略中央位置には、上側に向かってテーパ状に開口する収容孔１３が形成されている。そして、隔壁層１２に収容孔１３が形成されることによって、陽極１１上面を囲う隔壁１４が形成され、陽極１１の上面には、同隔壁１４で囲まれる着弾面１１ａが区画形成される。

着弾面１１ａ（陽極１１）の上層には、パターンとしての有機エレクトロルミネッセンス層（有機ＥＬ層１５）が形成されている。この有機ＥＬ層１５は、正孔輸送層と発光層の２層からなる有機化合物層である。この有機ＥＬ層１５は、図６に示すように、後述する液滴吐出工程（図４におけるステップＳ１３）においてパターン形成材料としての発光素子形成材料１５ｓを含む液滴１８を収容孔１３内に形成し、その液滴１８を後述する乾
燥工程（図４におけるステップＳ１４）において乾燥することにより形成されている。尚、本実施形態における各有機ＥＬ層１５は、それぞれ対応する色の光を発光する発光素子形成材料、すなわち赤色の光を発光する赤色発光素子形成材料又は緑色の光を発光する緑色発光素子形成材料又は青色を発光する青色発光素子形成材料によって形成されている。

図３に示すように、有機ＥＬ層１５の上側には、アルミニウム等の光反射性を有する金属膜からなる陰極１６が形成されている。陰極１６は、素子形成領域３の素子形成面２ｓ側全面を覆うように形成され、各画素４が共有することによって各発光素子形成領域６に共通する電位を供給するようになっている。そして、本実施形態では、これら陽極１１、有機ＥＬ層１５及び陰極１６によって、発光素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子１７）を構成している。

図３に示すように、陰極１６（有機ＥＬ素子１７）の上側には、エポキシ樹脂等からなる接着層７ａが形成され、その接着層７ａを介して素子形成領域３を覆う封止基板７が透明基板２の素子形成面２ｓに貼着されている。封止基板７は、無アルカリガラス基板であって、各有機ＥＬ素子１７及び各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ等の酸化等を防止するようになっている。

そして、データ信号に応じた駆動電流が陽極１１に供給されると、有機ＥＬ層１５は、その駆動電流に応じた輝度で発光する。この際、有機ＥＬ層１５から陰極１６側（図３における上側）に向かって発光された光は、同陰極１６によって反射される。そのため、有機ＥＬ層１５から発光された光は、その殆どが、陽極１１、絶縁膜ＩＬＤ及び透明基板２を通過して、透明基板２の裏面（表示面２ｔ）側から外方に向かって出射される。すなわち、データ信号に基づくフルカラーの画像が有機ＥＬディスプレイ１の表示面２ｔに表示される。
（有機ＥＬディスプレイ１の製造方法）
次に、有機ＥＬディスプレイ１の製造方法について以下に説明する。図４は、有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明するフローチャートである。図５及び図６は、有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明する説明図である。図７は、パターン形成装置としての減圧乾燥装置２０の概略構成を示すブロック図である。

図４に示すように、はじめに、有機ＥＬ層前工程として、透明基板２の素子形成面２ｓ上に各トランジスタＴ１，Ｔ２、各種配線Ｌｘ，Ｌｙ，Ｌｖ，Ｌｖｃ、絶縁膜ＩＬＤ及び陽極１１を公知の有機ＥＬディスプレイ製造技術に基づいて形成する（ステップＳ１１）。

有機ＥＬ層前工程を終了すると、続いて、着弾面１１ａ及び隔壁１４を形成する隔壁形成工程を行う（ステップＳ１２）。すなわち、図５に示すように、絶縁膜ＩＬＤ及び陽極１１の上側全面に、感光性ポリイミド樹脂等を塗布して隔壁層１２を形成する。そして、マスクＭｋを介して、陽極１１と相対向する位置の隔壁層１２に、所定の波長からなる露光光Ｌｐｒを露光し、その隔壁層１２を現像することによって収容孔１３をパターニングする。これによって、陽極１１上面略中央位置に着弾面１１ａを区画形成し、同着弾面１１ａを囲う隔壁１４を形成する。

図４に示すように、隔壁層１２をパターニングして隔壁１４を形成すると、収容孔１３内に、発光素子形成材料１５ｓを含む液滴１８を形成する液滴吐出工程を行う（ステップＳ１４）。すなわち、公知のインクジェット法によって、図６に示すように、液滴吐出ヘッドＨの液滴吐出ノズルＮから、発光素子形成材料１５ｓを含む微小液滴Ｄｓ（図７参照）を各収容孔１３内に吐出し、同収容孔１３内に、所定の容量からなる液滴１８を形成する。この際、液滴１８は、着弾面１１ａの親液性によって同着弾面１１ａ全面に濡れ広が
り、隔壁１４の撥液性によって隣接する収容孔１３内への漏れを回避した球面状の表面を呈するようになる。尚、本実施形態において、この液滴吐出工程は、後述する減圧乾燥装置２０のロードチャンバＬＣ（図７参照）内で行われるようになっている。

図４に示すように、各収容孔１３内にそれぞれ液滴１８を形成すると、パターン形成装置としての減圧乾燥装置２０によって、各液滴１８を減圧乾燥する液滴乾燥工程を行う（ステップＳ１４）。図７は、減圧乾燥装置２０の概略構成を示すブロック図である。なお、図７において、各構成要素を接続する実線は窒素を給排する管路の接続を示し、各構成要素を接続する二点鎖線は電気的な接続を示す。まず、減圧乾燥装置２０における空圧回路の構成について説明する。

図７に示すように、減圧乾燥装置２０には、耐食性金属（例えば、アルミニウムやステンレス等）によって箱体状に形成される収容チャンバ２１が備えられている。その収容チャンバ２１内には、透明基板２を収容可能にする空間（収容室２２）が形成されている。

その収容室２２内には、素子形成面２ｓを上側にした状態で透明基板２を水平に載置するための基板ステージ２３が配設されている。尚、その基板ステージ２３の上側面（載置面２３ｓ）には、図示しない複数の吸引孔が設けられ、載置面２３ｓに載置される透明基板２を基板ステージ２３側に吸引して載置面２３ｓの略中央位置に位置決め固定するようになっている。また、基板ステージ２３には、後述するロードチャンバＬＣ及びアンロードチャンバＵＣに対して透明基板２の移載を行うときに、図７の２点差線で示すように、透明基板２を載置面２３ｓから離間させて収容室２２内からの移載を可能にする図示しないリフト機構が設けられている。

収容チャンバ２１の左側壁２１ａには、収容室２２内から左側外方に向かって貫通する搬入孔２４が形成され、この搬入孔２４が透明基板２よりも大きいサイズで形成されることによって、同搬入孔２４を介した収容室２２内への透明基板２の搬入を可能にしている。その収容チャンバ２１の左側壁２１ａ外方には、同左側壁２１ａの搬入孔２４と相対向する位置に設けられたゲートバルブ（搬入バルブ２４Ｖ）を介してロードチャンバＬＣが併設されている。

搬入バルブ２４Ｖは、空気圧式のアクチュエータ２４Ａを備えた常閉型のゲートバルブであって、アクチュエータ２４Ａの通電時に開弁して非通電時に閉弁するようになっている。ロードチャンバＬＣは、耐食性金属によって箱体状に形成されるチャンバであって、その内部空間（ロード室ＬＬ）には窒素供給配管ＬＮが接続され、循環供給される窒素によって常に大気圧の窒素雰囲気に維持されるようになっている。そのロード室ＬＬ内には、収容孔１３（隔壁１４）の形成された透明基板２を載置する搬入ステージＬＬａが配設され、その搬入ステージＬＬａに載置される透明基板２に対して、微小液滴Ｄｓを吐出する前記液滴吐出ヘッドＨが配設されている。また、ロード室ＬＬの内部には、液滴１８の形成された透明基板２を収容室２２内の基板ステージ２３に移載するための移載アーム等を備えた図示しない搬入機構が設けられている。

そして、アクチュエータ２４Ａを通電状態にして図示しない搬入機構を駆動すると、搬入バルブ２４Ｖが開弁して、液滴１８の形成された透明基板２が搬入ステージＬＬａ（ロード室ＬＬ）から基板ステージ２３（収容室２２）に搬入される。

収容チャンバ２１の右側壁２１ｂには、収容室２２内から右側外方に向かって貫通する搬出孔２５が形成され、この搬出孔２５が透明基板２よりも大きいサイズで形成されることによって、同搬出孔２５を介した収容室２２外への透明基板２の搬出を可能にしている。その収容チャンバ２１の右側壁２１ｂ外方には、同右側壁２１ｂの搬出孔２５と相対向
する位置に設けられるゲートバルブ（搬出バルブ２５Ｖ）を介してアンロードチャンバＵＣが併設されている。

搬出バルブ２５Ｖは、搬入バルブ２４Ｖと同じく、空気圧式のアクチュエータ２５Ａを備えた常閉型のゲートバルブであって、アクチュエータ２５Ａの通電時に開弁して非通電時に閉弁するようになっている。アンロードチャンバＵＣは、耐食性金属によって箱体状に形成されるチャンバであって、その内部空間（アンロード室ＵＬ）には窒素供給配管ＵＮが接続され、循環供給される窒素によって常に大気圧の窒素雰囲気に維持されるようになっている。そのアンロード室ＵＬ内には、透明基板２を載置する搬出ステージＵＬａが配設されている。また、アンロード室ＵＬ内には、基板ステージ２３に載置される透明基板２を搬出ステージＵＬａに移載するための移載アーム等を備えた図示しない搬出機構が設けられている。

そして、アクチュエータ２５Ａを通電状態にして図示しない搬出機構を駆動すると、搬出バルブ２５Ｖが開弁して、基板ステージ２３上（収容室２２内）の透明基板２が搬出ステージＵＬａ上（アンロード室ＵＬ内）に搬出される。

また、収容チャンバ２１の右側壁２１ｂには、収容室２２に連通する窒素導入ポート２６と圧力ポート２７が設けられている。窒素導入ポート２６には、遮断バルブ２６Ｖを介して、収容室２２内を大気圧にする窒素を供給可能な窒素供給配管２６Ｌが接続されている。遮断バルブ２６Ｖは、常閉型のピエゾバルブであって、通電時に開弁して非通電時に閉弁するようになっている。そして、遮断バルブ２６Ｖを通電状態にすると、同遮断バルブ２６Ｖが開弁して、窒素供給配管２６Ｌから供給される窒素によって、収容室２２内がベントされるようになっている。また、圧力ポート２７には、収容室２２内の実圧力を検出する圧力センサ２７Ｓが接続されている。

収容チャンバ２１の上側壁２１ｃには、収容室２２内から上側外方に向かって貫通する排気孔２９が形成されている。排気孔２９は、図７に示すように、基板ステージ２３に透明基板２を載置する状態で、同透明基板２の素子形成面２ｓ直上であってその素子形成面２ｓと相対する大きさで形成されている。

収容チャンバ２１の上側壁２１ｃ外方であって前記排気孔２９と相対向する位置には、第１遮断弁としてのゲートバルブ（第１バルブ２９Ｖ）を介して減圧手段を構成する第１減圧チャンバ３１が併設されている。第１バルブ２９Ｖは、搬入バルブ２４Ｖ及び搬出バルブ２５Ｖと同じく、空気圧式のアクチュエータ２９Ａを備えた常閉型のゲートバルブであって、アクチュエータ２９Ａの通電時に開弁して非通電時に閉弁するようになっている。

第１減圧チャンバ３１は、耐食性金属によって箱体状に形成されるチャンバであって、その内部空間（第１減圧室３２）は、前記収容室２２の容積よりも大きい容積で形成されている。その第１減圧チャンバ３１の下側壁３１ａであって排気孔２９と相対向する位置には、第１減圧室３２内から収容チャンバ２１（収容室２２）に向かって貫通する吸引孔３３が、排気孔２９と略同じサイズ、すなわち素子形成面２ｓと相対する大きさで形成されている。

そして、アクチュエータ２９Ａを通電状態にすると、第１バルブ２９Ｖが開弁して、これら吸引孔３３、第１バルブ２９Ｖ及び排気孔２９によって、収容室２２と第１減圧室３２を連通して減圧手段を構成する第１連通路が素子形成面２ｓと相対する大きさで形成される。

第１減圧チャンバ３１の右側壁３１ｂには、第１減圧室３２に連通する圧力検出ポート３４及び排気ポート３５が設けられている。圧力検出ポート３４には、第１減圧室３２内の実圧力を検出する圧力センサ３４Ｓが接続されている。一方、排気ポート３５には、排気配管３５Ｌが接続され、その排気配管３５Ｌの途中には、第１減圧室３２側から順に、圧力制御バルブ３５Ｖ、減圧手段を構成する第１減圧ポンプＰ１及び第２減圧ポンプＰ２が配設されている。第１減圧ポンプＰ１は、第１減圧ポンプモータＭ１の回転駆動によって駆動される大排気速度を有したポンプ（例えば、ターボ分子ポンプ）であって、第１減圧室３２内の実圧力を１Ｐａ以下に減圧可能な排気能力を有する。第２減圧ポンプＰ２は、第２減圧ポンプモータＭ２の回転駆動によって駆動される小排気速度を有したポンプ（例えば、ドライポンプ）であって、第１減圧ポンプＰ１の排気能力を維持するために、同第１減圧ポンプＰ１の排気側を常に所定の背圧まで排気する。圧力制御バルブ３５Ｖは、所定のパルス信号を受けてステップ単位で回転するステッピングモータと、そのステッピングモータに連結駆動される弁体を備えたバルブであって、同ステッピングモータのステップ数に相対する排気コンダクタンスを排気配管３５Ｌに付与して、第１減圧室３２内の実圧力を所定の圧力（第１目標圧力）に調整する。

尚、第１目標圧力は、液滴１８を乾燥するための収容室２２内の圧力であって、本実施形成では１Ｐａとする。
そして、大気圧状態の第１減圧チャンバ３１に対して、第２減圧ポンプモータＭ２及び第１減圧ポンプモータＭ１を順次回転駆動して第２減圧ポンプＰ２及び第１減圧ポンプＰ１を駆動すると、第１減圧室３２が減圧され、圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御すると、第１減圧室３２内の圧力が第１目標圧力に調整される。

次に、上記する減圧乾燥装置２０の電気的構成について以下に説明する。
図７に示すように、減圧乾燥装置２０には制御部４０が備えられている。制御部４０は、図示しないＣＰＵ（中央処理装置）、ＲＯＭ（読み出し専用メモリ）及びＲＡＭ（書き込み読み出し専用メモリ）等から構成され、後述する減圧乾燥処理の処理時間を計測するタイマーＴが備えられている。

その制御部４０には、図７に示すように、各ゲートバルブのアクチュエータ２４Ａ，２５Ａ，２９Ａ、第１及び第２減圧ポンプモータＭ１，Ｍ２、各圧力センサ２７Ｓ，３４Ｓ、遮断バルブ２６Ｖ、圧力制御バルブ３５Ｖ及び入力部４１が、それぞれ各種インターフェースを介して電気的に接続されている。

制御部４０のＣＰＵは、入力部４１から入力される減圧乾燥処理命令など、各種操作命令を実行し、減圧乾燥装置２０を制御するための各種演算処理を行う。ＲＯＭは、減圧乾燥装置２０を制御するための各種制御プログラム及び各種制御データを格納する。例えば、ＲＯＭは、液滴１８を乾燥させるための減圧乾燥プログラムを格納する。また、ＲＯＭは、液滴１８を乾燥させるための収容室２２内の圧力、すなわち第１目標圧力と、第１減圧室３２内（収容室２２内）を第１目標圧力にするために圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御する制御パラメータ（例えば、第１減圧室３２内の圧力に相対するステップ数等）を格納する。ＲＡＭは、ＲＯＭの格納する各種制御プログラムに基づいてＣＰＵが各種演算処理を実行するために必要とする各種演算データを一時格納する。

制御部４０は、アクチュエータ２４Ａ，２５Ａ，２９Ａに駆動信号を出力して、搬入バルブ２４Ｖ、搬出バルブ２５Ｖ及び第１バルブ２９Ｖを開閉駆動する。また、制御部４０は、第１及び第２減圧ポンプモータＭ１，Ｍ２に駆動信号を出力して、第１減圧ポンプＰ１及び第２減圧ポンプＰ２を駆動する。

各圧力センサ２７Ｓ，３４Ｓは、対応するインターフェースを介してその圧力検出信号
を制御部４０に出力する。制御部４０（ＣＰＵ）は、その検出信号に基づいて、その時の収容室２２内及び第１減圧室３２内の圧力（実圧力）を演算する。そして、制御部４０は、演算した収容室２２内の実圧力に基づいて、遮断バルブ２６Ｖを開閉制御する。また、制御部４０は、演算した第１減圧室３２内の実圧力と制御パタメータに基づいて、第１減圧室３２の圧力が第１目標圧力を維持するように、圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御する。

次に、上記する減圧乾燥装置２０によって減圧乾燥処理動作について以下に説明する。
まず、この減圧乾燥処理に際して、制御部４０は、予め搬入バルブ２４Ｖ、搬出バルブ２５Ｖ及び第１バルブ２９Ｖをそれぞれ閉弁し、遮断バルブ２６Ｖを開弁して収容室２２内を大気圧の窒素雰囲気にする。また、制御部４０は、第１減圧ポンプＰ１及び第２減圧ポンプＰ２を駆動し、圧力センサ３４Ｓの検出する圧力検出信号（第１減圧室３２内の実圧力）と制御パタメータに基づいて圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御して、第１減圧室３２内の圧力を予め第１目標圧力に維持する。

今、入力部４１から、液滴１８の形成された透明基板２に対して減圧乾燥処理を実行するための減圧乾燥処理命令が入力されると、制御部４０は、アクチュエータ２４Ａを通電状態にして搬入バルブ２４Ｖを開弁し、図示しない搬入機構を駆動して、透明基板２を搬入ステージＬＬａ（ロード室ＬＬ）から基板ステージ２３（収容室２２）に移載する。

透明基板２を基板ステージ２３に移載すると、制御部４０は、アクチュエータ２９Ａを通電状態にして第１バルブ２９Ｖを開弁し、収容室２２と、予め第１目標圧力に調整された第１減圧室３２とを連通させる。すると、収容室２２内の窒素は、第１減圧室３２及び排気配管３５Ｌを介して減圧乾燥装置２０の外側に排気される。

この際、第１連通路（吸引孔３３及び排気孔２９）が素子形成面２ｓ直上であって素子形成面２ｓと相対する大きさで形成される分だけ、収容室２２は、その素子形成面２ｓ直上の圧力分布を均一にして減圧される。しかも、第１減圧室３２の容積が収容室２２の容積よりも大きい容積で形成され、かつ第１減圧室３２内が予め第１目標圧力に調整される分だけ、収容室２２は、素子形成面２ｓ直上の実圧力を、速やかに、第１減圧室３２の実圧力と等圧にする、すなわち第１目標圧力にする。

収容室２２内の実圧力が第１目標圧力に到達して圧力センサ２７Ｓが第１目標圧力に相対する圧力検出信号を出力すると、制御部４０は、タイマーＴを駆動して減圧乾燥処理の処理時間を計測する。

このとき、収容室２２内の圧力は、各液滴１８内の溶媒成分が揮発することによって一旦上昇するが、第１減圧室３２の容積が収容室２２の容積よりも大きい容積で形成され、かつ制御部４０が第１減圧室３２内の圧力を第１目標圧力にするように圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御する分だけ、収容室２２内の圧力は、速やかに第１目標圧力に調整される。

これによって、各液滴１８内の溶媒成分は、素子形成面２ｓ直上の圧力分布が均一に減圧される分だけ均一に蒸発し、素子形成面２ｓ直上の実圧力が第１目標圧力に速やかに到達する分だけ速やかに蒸発する。そして、減圧乾燥装置２０は、液滴１８の溶媒成分を均一に乾燥する分だけ、均一な形状の有機ＥＬ層１５を形成する。

減圧乾燥処理の処理時間が所定の処理時間に到達すると、制御部４０は、第１バルブ２９Ｖを閉弁した後に遮断バルブ２６Ｖを開弁して収容室２２内を窒素によってベントする。収容室２２内をベントすると、制御部４０は、搬出バルブ２５Ｖを開弁し、図示しない
搬出機構を駆動して、減圧乾燥した基板ステージ２３上の透明基板２を搬出ステージＵＬａ上（アンロード室ＵＬ内）に搬出する。

図４に示すように、液滴１８を減圧乾燥する（有機ＥＬ層１５を形成する）と（ステップＳ１４）、有機ＥＬ層１５及び隔壁層１２上に陰極１６を形成し、画素４を封止する有機ＥＬ層後工程を行う（ステップ１５）。すなわち、有機ＥＬ層１５及び隔壁層１２の上側全面にアルミニウム等の金属膜からなる陰極１６を堆積し、陽極１１、有機ＥＬ層１５及び陰極１６からなる有機ＥＬ素子１７を形成する。有機ＥＬ素子１７を形成すると、陰極１６（画素４）の上側全面にエポキシ樹脂等を塗布して接着層７ａを形成し、その接着層７ａを介して封止基板７を透明基板２に貼着する。

これによって、有機ＥＬ層１５の形状を均一にした有機ＥＬディスプレイ１を製造することができる。
次に、上記のように構成した第１実施形態の効果を以下に記載する。

（１）上記実施形態によれば、透明基板２を収容する収容室２２に連通可能な第１減圧室３２を設け、同第１減圧室３２内の圧力を、予め減圧乾燥するための第１目標圧力に調整するようにした。そして、液滴１８を乾燥するときに、第１バルブ２９Ｖを開弁して、収容室２２と第１減圧室３２を連通させるようにした。

従って、第１減圧室３２内を予め第１目標圧力に調整する分だけ、収容室２２内の圧力（素子形成面２ｓ直上の実圧力）を、速やかに、第１減圧室３２の実圧力と等圧にする、すなわち第１目標圧力にすることができる。その結果、減圧乾燥を開始するまでの時間を短縮できる分だけ、素子形成面２ｓ内の各液滴１８に対する乾燥環境を均一にすることができ、有機ＥＬ層１５の形状の均一性を向上することができる。ひいては、有機ＥＬディスプレイ１の生産性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、第１減圧室３２の容積を収容室２２の容積よりも大きい容積で形成するようにした。従って、収容室２２内の圧力（素子形成面２ｓ直上の実圧力）を、より速やかに第１目標圧力にすることができる。その結果、減圧乾燥を開始するまでの時間をさらに短縮することができ、素子形成面２ｓ内の各液滴１８に対する乾燥環境を均一にすることができる。

（３）上記実施形態によれば、第１連通路（吸引孔３３及び排気孔２９）を素子形成面２ｓ直上であって素子形成面２ｓと相対する大きさで形成するようにした。従って、素子形成面２ｓ直上の圧力分布をより均一にして減圧することができ、素子形成面２ｓ内の各液滴１８に対する乾燥環境をさらに均一にすることができる。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を、図８に従って説明する。尚、第２実施形態では、上記する第１実施形態の減圧手段を変更したものであり、その他の点では第１実施形態と同一の構成になっている。そのため以下では、変更点である減圧手段について詳細に説明する。また、図８では、変更点である減圧手段について示すため、第１実施形態におけるロードチャンバＬＣ、アンロードチャンバＵＣ、搬入バルブ２４Ｖ及び搬出バルブ２５Ｖを説明の便宜上省略している。

収容チャンバ２１の前側壁２１ｄには、収容室２２内から外方に向かって貫通する排気孔４５が形成されている。収容チャンバ２１の前側壁２１ｄ外方であって前記排気孔４５と相対向する位置には、第２遮断弁としてのゲートバルブ（第２バルブ４５Ｖ）を介して減圧手段を構成する第２減圧チャンバ５１が併設されている。

第２バルブ４５Ｖは、第１バルブ２９Ｖと同じく、空気圧式のアクチュエータ４５Ａを備える常閉型のゲートバルブであって、アクチュエータ４５Ａの通電時に開弁して非通電時に閉弁するようになっている。

第２減圧チャンバ５１は、箱体状に形成されるチャンバであって、その内部空間（第２減圧室５２）は、前記収容室２２の容積よりも大きい容積で形成されている。その第２減圧チャンバ５１の左側壁であって排気孔４５と相対向する位置には、第２減圧室５２内から収容チャンバ２１（収容室２２）に向かって貫通する吸引孔５３が形成されている。そして、アクチュエータ４５Ａを通電状態にすると、第２バルブ４５Ｖが開弁して、これら吸引孔５３、第２バルブ４５Ｖ及び排気孔４５によって、収容室２２と第２減圧室５２を連通して減圧手段を構成する第２連通路が形成される。

第２減圧チャンバ５１には、第２減圧室５２に連通する圧力検出ポート５４を介して第２減圧室５２内の実圧力を検出する圧力センサ５４Ｓが接続されている。また、第２減圧チャンバ５１には、排気ポート５５を介して、第１減圧ポンプＰ１と第２減圧ポンプＰ２との間の排気配管３５Ｌに配設される切り替えバルブ５６の一方に接続される排気配管５５Ｌが接続されている。

切り替えバルブ５６は、第２減圧ポンプと第１減圧ポンプＰ１（第１減圧室３２）との流路を結ぶ流路と、第２減圧ポンプＰ２と排気配管５５Ｌ（第２減圧室５２）を結ぶ流路のいずれか一方の流路に切り替えるバルブである。その排気配管５５Ｌの途中には、圧力制御バルブ５５Ｖが配設されている。

圧力制御バルブ５５Ｖは、圧力制御バルブ３５Ｖと同じく、ステッピングモータのステップ数に相対する排気コンダクタンスを排気配管５５Ｌに付与して、第２減圧室５２内の実圧力を所定の圧力（第２目標圧力）に調整する。

尚、第２目標圧力は、第１目標圧力（１Ｐａ）と大気圧との間の圧力であって、液滴１８の突沸現象を回避可能な圧力である。本実施形成では、その第２目標圧力を１００Ｐａとする。

つまり、第２減圧チャンバ５１は、小排気速度を有した第２減圧ポンプＰ２によって第２減圧室５２内を減圧され、圧力制御バルブ５５Ｖによってその圧力を第２目標圧力に調整可能にしている。

これらアクチュエータ４５Ａ、圧力センサ５４Ｓ、圧力制御バルブ５５Ｖ及び切り替えバルブ５６は制御部４０に電気的に接続され、制御部４０は、アクチュエータ４５Ａに駆動信号を出力して第２バルブ４５Ｖを開閉駆動する。各圧力センサ５４Ｓは、その圧力検出信号を制御部４０に出力し、制御部４０（ＣＰＵ）は、その検出信号に基づいて、その時の第２減圧室５２内の圧力（実圧力）を演算する。そして、制御部４０は、演算した第２減圧室５２内の実圧力に基づいて、第２減圧室５２の圧力が第２目標圧力を維持するように、圧力制御バルブ５５Ｖを駆動制御する。

今、入力部４１から減圧乾燥処理を実行するための減圧乾燥処理命令が入力されると、制御部４０は、透明基板２を搬入ステージＬＬａ（ロード室ＬＬ）から基板ステージ２３（収容室２２）に移載する。

尚、この際、制御部４０は、予め第１減圧室３２及び第２減圧室５２内の圧力をそれぞれ第１目標圧力及び第２目標圧力に調整した後、切り替えバルブ５６を第２減圧ポンプＰ２と排気配管５５Ｌ（第２減圧室５２）を結ぶ流路に切り替える。

そして、透明基板２を基板ステージ２３に移載すると、制御部４０は、まず、アクチュエータ４５Ａを通電状態にして第２バルブ４５Ｖを開弁し、収容室２２と、予め第２目標圧力に調整された第２減圧室５２とを連通させる。これによって、第２減圧室５２の容積が収容室２２の容積よりも大きい容積で形成され、かつ第２減圧室５２内が予め第２目標圧力に調整される分だけ、収容室２２は、その実圧力を、速やかに、第２減圧室５２の実圧力と等圧にする、すなわち第２目標圧力にする。

収容室２２内の圧力が第２目標圧力に到達すると、制御部４０は、第２バルブ４５Ｖを閉弁し、切り替えバルブ５６を第２減圧ポンプと第１減圧ポンプＰ１（第１減圧室３２）との流路を結ぶ流路に切り替える。続いて、制御部４０は、第１バルブ２９Ｖを開弁し、第１実施形態と同じく、収容室２２内の圧力を第１目標圧力にして液滴１８を減圧乾燥する。

次に、上記のように構成した第２実施形態の効果を以下に記載する。
（１）上記実施形態によれば、透明基板２を収容する収容室２２に連通可能な第２減圧室５２を設け、同第２減圧室５２内の圧力を、予め液滴１８の突沸現象を回避可能な第２目標圧力に調整するようにした。そして、第１バルブ２９Ｖを開弁する前に、第２バルブ４５Ｖを開弁して収容室２２と第２減圧室５２を連通させるようにした。

従って、第２減圧室５２内を予め第２目標圧力に調整する分だけ、収容室２２内の圧力を、速やかに、第２減圧室５２の実圧力と等圧にする、すなわち第２目標圧力にすることができ、急激な減圧による液滴１８の突沸現象を回避することができる。その結果、素子形成面２ｓ内の各液滴１８に対する乾燥環境を均一にすることができ、有機ＥＬ層１５の形状の均一性を向上することができる。ひいては、有機ＥＬディスプレイ１の生産性を向上することができる。

（２）上記実施形態によれば、第２減圧室５２の容積を収容室２２の容積よりも大きい容積で形成するようにした。従って、収容室２２内の圧力を、より速やかに第２目標圧力にすることができる。その結果、減圧乾燥を開始するまでの時間を短縮することができ、素子形成面２ｓ内の各液滴１８に対する乾燥環境を均一にすることができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記第１実施形態では、第１目標圧力が液滴１８を乾燥させるための圧力となるようにしたが、これに限らず、例えば第２目標圧力と同じく、第１目標圧力を液滴１８の突沸現象を回避可能な圧力に設定するようにしてもよい。

これによれば、液滴１８の突沸現象を回避して、かつ減圧開始直後の素子形成面２ｓ直上の圧力分布を均一にすることができる。従って、液滴１８の溶媒が蒸発を開始するときの圧力分布を均一にすることができ、有機ＥＬ層１５の形状の均一性を向上することができる。尚、この際、収容室２２内の圧力が第１目標圧力に到達すると、制御部４０が、圧力制御バルブ３５Ｖを駆動制御して、同収容室２２内の圧力を、液滴１８を乾燥させるための圧力まで減圧するのが好ましい。
・上記第２実施形態では、第１減圧チャンバ３１を素子形成面２ｓと相対向する側に併設したが、これに限らず、第２減圧チャンバ５１を同素子形成面２ｓと相対向する側に併設するようにしてもよい。

これによれば、上記変更例と同じく、液滴１８の突沸現象を回避して、かつ減圧開始直後の素子形成面２ｓ直上の圧力分布を均一にすることができる。従って、液滴１８の溶媒が蒸発を開始するときの圧力分布を均一にすることができ、有機ＥＬ層１５の形状の均一
性を向上することができる。
・上記実施形態では、パターン及びパターン形成面をそれぞれ有機ＥＬ層１５及び素子形成面２ｓに具体化して有機ＥＬディスプレイ１を製造するようにした。これに限らず、例えばパターン及びパターン形成面をそれぞれ有色のカラーフィルタ層及び透明基板２の一側面に具体化して、カラーフィルタ層形成材料を含む液滴１８を減圧乾燥してカラーフィルタを製造するようにしてもよく、液滴１８を減圧乾燥してパターンを形成するものであればよい。
・上記実施形態では、第１減圧室３２と第２減圧室５２の容積を収容室２２の容積よりも大きい容積で構成したが、これに限らず、例えば第１減圧室３２と第２減圧室５２の容積が収容室２２の容積よりも小さく構成してもよく、収容室２２内の圧力を速やかに目標圧力に到達可能な容積であればよい。
・上記実施形態では、第１減圧ポンプＰ１及び第２減圧ポンプＰ２によって第１減圧室３２及び第２減圧室５２を減圧するようにしたが、これに限らず、一体の減圧ポンプによって第１減圧室３２又は第２減圧室５２を減圧する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、液滴１８をインクジェット法によって形成するようにしたが、これに限定されるものでなく、例えばスピンコート法やディスペンサ法によって形成するようにしてもよい。
・上記実施形態では、制御素子形成領域５にスイッチング用トランジスタＴ１及び駆動用トランジスタＴ２を備える構成にしたが、これに限定されるものでなく、所望の素子設計によって、例えば１つのトランジスタや多数のトランジスタ、あるいは多数のキャパシタからなる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１として具体化したが、これに限定されるものでなく、例えば液晶パネル等であってもよく、あるいは平面状の電子放出素子を備え、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型ディスプレイ（ＦＥＤやＳＥＤ等）であってもよい。

本発明を具体化した第１実施形態の有機ＥＬディスプレイを示す概略平面図。 同じく、画素を示す概略平面図。 同じく、発光素子形成領域を示す概略断面図。 同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を示すフローチャート。 同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明する概略断面図。 同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明する概略断面図。 同じく、減圧乾燥装置の概略構成を示すブロック図。 同じく、第２実施形態における減圧乾燥装置の概略構成を示すブロック図。

符号の説明

１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、２…透明基板、２ｓ…パターン形成面としての素子形成面、１４…隔壁、１５…パターンとしての有機エレクトロルミネッセンス層、１５ｓ…発光素子形成材料、１７…発光素子としての有機エレクロトルミネッセンス素子、１８…液滴、２０…パターン形成装置としての減圧乾燥装置、２２…収容室、２９…第１連通路を構成する排気孔、２９Ｖ…第１遮断弁としての第１バルブ、３２…第１減圧室、５２…第２減圧室、Ｐ１…第１減圧ポンプ、Ｐ２…第２減圧ポンプ。

Claims (12)

1. パターン形成基板のパターン形成面上にパターン形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記パターン形成面上にパターンを形成するようにしたパターン形成方法において、
   第１減圧ポンプを駆動して第１減圧室内の圧力を前記所定の圧力まで予め減圧し、前記液滴の吐出されたパターン形成基板を収容室内に収容した後に、前記収容室と前記第１減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力にするようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
2. 請求項１に記載するパターン形成方法において、
   前記液滴の吐出されたパターン形成基板を収容室内に収容した後に、前記収容室の前記パターン形成面と相対向する位置と前記第１減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力まで減圧するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
3. 請求項１又は２に記載するパターン形成方法において、
   第２減圧ポンプを駆動して第２減圧室内の圧力を前記所定の圧力と大気圧との間の圧力まで予め減圧し、前記収容室と前記第１減圧室とを連通する前に、前記収容室と前記第２減圧室とを連通して、前記収容室内の圧力を前記所定の圧力と大気圧との間の圧力まで減圧するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
4. パターン形成面上にパターン形成材料を含む液滴を吐出されたパターン形成基板を収容する収容室と、前記収容室内を所定の圧力まで減圧する減圧手段とを備え、前記液滴を前記所定の圧力下で乾燥することによって前記パターン形成面上にパターンを形成するパターン形成装置において、
   前記減圧手段は、
   前記収容室に併設され、第１減圧ポンプによって常に前記所定の圧力に減圧される第１減圧室と、
   前記収容室内に前記パターン形成基板を収容する状態で、前記収容室と前記第１減圧室とを連通する第１連通路と、
   前記第１連通路を連通不能に閉弁し、前記第１連通路を連通可能に開弁する第１遮断弁と、
   を備えたことを特徴とするパターン形成装置。
5. 請求項４に記載するパターン形成装置において、
   前記第１連通路は、前記収容室内に前記パターン形成基板を収容する状態で前記収容室の前記パターン形成面と相対向する位置に設けられたことを特徴とするパターン形成装置。
6. 請求項４又は５に記載するパターン形成装置において、
   前記第１連通路は、前記収容室の前記パターン形成面上を前記第１減圧室内まで貫通する貫通孔であることを特徴とするパターン形成装置。
7. 請求項５又は６に記載するパターン形成装置において、
   前記第１減圧室は、前記収容室の容積よりも大きい容積を有したことを特徴とするパターン形成装置。
8. 請求項５〜７のいずれか１つに記載するパターン形成装置において、
   前記減圧手段は、
   前記収容室に併設され、第２減圧ポンプによって常に前記所定の圧力と大気圧との間の
   圧力に減圧される第２減圧室と、
   前記収容室と前記第２減圧室とを連通する第２連通路と、
   前記第２連通路を連通不能に閉弁し、前記第２連通路を連通可能に開弁する第２遮断弁と、
   を備えたことを特徴とするパターン形成装置。
9. 透明基板の一側面上にカラーフィルタ層形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記一側面上にカラーフィルタ層を形成するようにしたカラーフィルタの製造方法において、
   前記液滴を、請求項１〜３のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって乾燥するようにしたことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
10. 請求項９に記載するカラーフィルタの製造方法によって製造したカラーフィルタ。
11. 透明基板上の一側面上に発光素子形成材料を含む液滴を吐出し、吐出した前記液滴を所定の圧力下で乾燥することによって前記一側面上に発光素子を形成するようにした電気光学装置の製造方法において、
    前記液滴を、請求項１〜３のいずれか１つに記載するパターン形成方法によって乾燥するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
12. 請求項１１に記載する電気光学装置の製造方法によって製造した電気光学装置。

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