JP2006188415A - ガラス成形型用セラミックス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるガラス成形型用セラミックス、前記ガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、ガラス接触面の全部若しくは一部が前記ガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、前記ガラス成形型用セラミックスを使用するガラス成形型の製造方法、並びに、炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるセラミックスのガラス成形型としての使用。
【選択図】なし
Description
〔1〕 炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるガラス成形型用セラミックス、
〔2〕 前記〔1〕に記載のガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、
〔3〕 ガラス接触面の全部若しくは一部が前記〔1〕に記載のガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型、
〔4〕 前記〔1〕に記載のガラス成形型用セラミックスを使用するガラス成形型の製造方法、並びに
〔5〕 炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるセラミックスのガラス成形型としての使用、
に関する。
表1に示す炭素源、平均粒子径0.5μmのβ−炭化ケイ素(純度98重量%)、及び焼結助剤としてB4C 2重量%を振動ミルでエタノール湿式混合し、アルゴンガス雰囲気下600℃で1.5時間仮焼した。仮焼後の混合物からCIP法でブロックを形成し、得られたブロックをNC加工機で加工してガラスレンズ用ガラス成形型を形成し、アルゴンガス雰囲気下2200℃で4時間焼成した。この段階で、本発明のセラミックスが製造されていることになる。焼成後の成形型のガラスと接触する表面を平均粒子径0.5μmのダイヤモンド砥粒で研磨し、最終的なガラス成形型及びセラミックスを得た。なお、表1中、フェノール樹脂はノボラックタイプ、残炭率49重量%のもの、コールタールピッチは残炭率53重量%のものである。また、炭素含有量は、炭化ケイ素100重量部に対する炭素の含有量を示す。
レーザーラマン比、すなわち、炭素の結晶相と非晶相とのレーザーラマン分光強度のピーク面積比(結晶相/非晶相)を、NEC社製アルゴンレーザーラマン分光装置により求めた。
相対密度を、JIS R1634で嵩密度を求め、それを理論密度で除することにより求めた。
表面粗さ、すなわち、ガラスと接触する表面の中心線平均粗さRaを、小坂技研製粗さ計を用い、JIS B 0651に準じ測定した。
ガラス成形型を用いてガラスレンズを作製し、ガラスレンズのガラス成形型からの離型性を以下のようにして評価した。すなわち、700℃の熱間下で、レンズガラスカレットを300kg/cm2(3.0×106kg/m2)の印加加重で成形し、100回連続成形時の型離れ性で以下の評価基準に従って評価した。本実施例では、成形型の離型性の評価は、そのまま本発明のセラミックスの離型性の評価となる。
〔評価基準〕
◎:100回とも良好な型離れを示した
○:100回中1回型離れ不良を起した
△:100回中2〜4回型離れ不良を起した
×:100回中5回以上型離れ不良を起した
耐久性を、前記(4)の試験後の成形型の表面観察及び粗さを目視により以下の評価基準に従って評価した。本実施例では、成形型の耐久性の評価は、そのまま本発明のセラミックスの耐久性の評価となる。また、本発明の成形型及びセラミックスで耐久性の評価が高い場合、耐磨耗性も良好である。
〔評価基準〕
◎:表面に曇り無く、且つ粗さ変化がない
○:表面に曇り無く、且つ粗さ変化が若干認められる
△:表面に一部曇りと粗さ変化が若干認められる
×:表面全面に曇りと粗さ変化が認められる
Claims (8)
- 炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるガラス成形型用セラミックス。
- 炭素の結晶相と非晶相とのレーザーラマン分光強度のピーク面積比(結晶相/非晶相)が1〜10である請求項1記載のガラス成形型用セラミックス。
- 請求項1又は2記載のガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型。
- ガラス接触面の全部若しくは一部が請求項1又は2記載のガラス成形型用セラミックスからなるガラス成形型。
- 相対密度が95%以上である請求項3又は4記載のガラス成形型。
- ガラスと接触する表面の中心線平均粗さRaが1〜200nmである請求項3〜5いずれか記載のガラス成形型。
- 請求項1又は2記載のガラス成形型用セラミックスを使用するガラス成形型の製造方法。
- 炭化ケイ素100重量部に対し、6〜50重量部の炭素を含有してなるセラミックスのガラス成形型としての使用。
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