JP2006178310A - スペーサ形成方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 先に吐出されるインク液滴の吐出圧力よりも後に吐出されるインク液滴の吐出圧力を大きくすることで後から吐出されるインク液滴ほど吐出速度が速くなるように複数滴のインク滴dを吐出口6から吐出させ、先に吐出されたインク液滴が基板3上のスペーサ形成位置に到達する前に、後から吐出されたインク液滴を先に吐出されたインク液滴に飛翔中に追いつかせて、吐出口6から吐出された複数滴のインク液滴が一体となってスペーサ形成位置に滴下されるようにする。
【選択図】 図1
Description
すなわち、本発明のスペーサ形成方法は、先に吐出されるインク液滴の吐出圧力よりも後に吐出されるインク液滴の吐出圧力を大きくすることで後から吐出されるインク液滴ほど吐出速度が速くなるように複数滴のインク滴をインクジェットヘッドの吐出口から吐出させ、先に吐出されたインク液滴がスペーサ形成位置に到達する前に、後から吐出されたインク液滴を先に吐出されたインク液滴に飛翔中に追いつかせて、吐出口から吐出された複数滴のインク液滴が一体となってスペーサ形成位置に滴下されるようにする。
一箇所のスペーサ形成位置毎に、圧力室内のスペーサ含有インクに複数回圧力をかけて複数の液滴を吐出させ、かつ、それら複数液滴の内、後に吐出された液滴が先に吐出された液滴に飛翔中に追いついて一体になるようにスペーサ含有インクに複数回圧力をかけ着弾液滴中のスペーサ個数を制御する駆動部と、を備えることを特徴としている。
Claims (3)
- 一対の基板間に形成される液晶封入間隙を一定に保つための粒状のスペーサを溶媒中に分散させたスペーサ含有インクを、前記一対の基板の内の一方の基板上のスペーサ形成位置に対向して位置されるスペーサ吐出ヘッドの吐出口から吐出させて前記スペーサ形成位置に滴下するスペーサ形成方法において、
先に吐出されるインク液滴の吐出圧力よりも後に吐出されるインク液滴の吐出圧力を大きくすることで後から吐出されるインク液滴ほど吐出速度が速くなるように複数滴のインク滴を前記吐出口から吐出させ、先に吐出されたインク液滴が前記スペーサ形成位置に到達する前に、後から吐出されたインク液滴を先に吐出されたインク液滴に飛翔中に追いつかせて、前記吐出口から吐出された複数滴のインク液滴が一体となって前記スペーサ形成位置に滴下されるようにすることを特徴とするスペーサ形成方法。 - 前記インク中における前記スペーサの濃度を2.5重量%以下にすることを特徴とする請求項1に記載のスペーサ形成方法。
- 一対の基板間に形成される液晶封入間隙を一定に保つための粒状のスペーサを溶媒中に分散させたスペーサ含有インクを、前記一対の基板の内の一方の基板上のスペーサ形成位置に滴下するスペーサ形成装置であって、
内部に生じる圧力変化により前記スペーサ含有インクを取り込んで液滴として吐出させる圧力室を有し、前記基板に対して相対的に移動可能なスペーサ吐出ヘッドと、
一箇所のスペーサ形成位置毎に、前記圧力室内のスペーサ含有インクに複数回圧力をかけて複数の液滴を吐出させ、かつ、前記複数液滴の内、後に吐出された液滴が先に吐出された液滴に飛翔中に追いついて一体になるように前記スペーサ含有インクに複数回圧力をかけて着弾液滴中のスペーサ個数を制御する駆動部と、
を備えることを特徴とするスペーサ形成装置。
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Cited By (4)
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---|---|---|---|---|
JP2010045011A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | 発光装置及びその製造方法 |
JP2010082580A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Ulvac Japan Ltd | 微粒子塗布方法 |
JP4814215B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2011-11-16 | 長瀬産業株式会社 | スペーサの配置方法 |
TWI617361B (zh) * | 2009-06-05 | 2018-03-11 | 塔工程有限公司 | 分配膠的方法及以此方法形成具有膠圖案的基板 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188235A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器 |
JP2003266671A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Seiko Epson Corp | 描画方法、描画装置並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 |
JP2004037855A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Micro Jet:Kk | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2004175037A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Sharp Corp | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188235A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | 液晶装置の製造方法、液晶装置及び電子機器 |
JP2003266671A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-24 | Seiko Epson Corp | 描画方法、描画装置並びにこれを用いた液晶表示装置の製造方法、有機el装置の製造方法、電子放出装置の製造方法、pdp装置の製造方法、電気泳動表示装置の製造方法、カラーフィルタの製造方法、有機elの製造方法、スペーサ形成方法、金属配線形成方法、レンズ形成方法、レジスト形成方法および光拡散体形成方法 |
JP2004037855A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Micro Jet:Kk | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2004175037A (ja) * | 2002-11-28 | 2004-06-24 | Sharp Corp | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4814215B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2011-11-16 | 長瀬産業株式会社 | スペーサの配置方法 |
JP2010045011A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-25 | Fujifilm Corp | 発光装置及びその製造方法 |
JP2010082580A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Ulvac Japan Ltd | 微粒子塗布方法 |
TWI617361B (zh) * | 2009-06-05 | 2018-03-11 | 塔工程有限公司 | 分配膠的方法及以此方法形成具有膠圖案的基板 |
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