JP2008176009A - パターン形成方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板にマトリクス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して
広げることにより、基板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供す
る。
【解決手段】各第2の凹部26cが形成された対向基板の対向電極26に、液滴吐出装置
から吐出されて着弾した各液滴Fb1は、相互に結合して液層Z1を形成する。液層Z1
の中央の付近は、略山型に盛り上がっているので、液層Z1が跨っている各第2の凹部2
6cの内部全体に広がる。このとき吐出された液量が多いので、依然、液層Z1の中央の
付近は盛り上がっている。この状態において、液層Z1は、液層Z1の中央に近い側面部
分から、隣接する第2の凹部26cに濡れ広がる。以降、液層Z1は、隣接する第2の凹
部26cに濡れ広がることを繰り返す。そして、対向電極26の全面に均一に濡れ広がっ
た液層Z1を乾燥させて配向膜が形成される。
【選択図】図9

Description

本発明は、パターン形成方法に関する。
液晶表示装置は、素子基板と対向基板の間にシール材を介して液晶を封入している。そ
して、素子基板及び対向基板の液晶の接する面には、液晶を配向するための配向膜が形成
されている。配向膜は、素子基板及び対向基板の略全面に形成されていて、その形成方法
のひとつに、インクジェット法がある。インクジェット法は、基板上に吐出された液滴同
士を相互に結合させて、基板上に配向膜のパターンを形成させる。ところが、基板上に吐
出された液滴は、基板上で均一に広がらない場合があり、例えば、収縮してスジを生じた
り、他の液滴に引き寄せられてバルジを生じてしまうなど、均一な配向膜を成膜すること
が難しかった。
そこで、液滴吐出装置から吐出した液滴を、バンク(隔壁)で囲まれた範囲に、未充填
個所が生じないように、好適に配置する方法が提案されている(特許文献1)。特許文献
1は、ガラス基板上に形成された画素電極上の隔壁により区分された領域に、液滴として
の発光薄膜材料を、吐出間隔を2秒以下として続けて2滴、インクジェットノズルから吐
出、乾燥し、発光薄膜層を形成した。液滴の吐出間隔を2秒以下とすることにより、液滴
が先に吐出乾燥した液滴に引き寄せられて、結果として液滴がバンク内に広がらないこと
を防いだ。
しかしながら、特許文献1では、広範囲に液滴を均一に広げる場合にまでは適用できな
かった。
そこで、液滴吐出装置から複数の液滴を吐出して、液滴を、バンクで囲まれた範囲に未
充填個所を生じさせず配置する方法が提案されている(特許文献2)。特許文献2は、バ
ンクで囲まれた部分のバンクの隅部では、液滴を隅部の近くに吐出し、バンクで囲まれた
部分の中央に向かうにつれて、吐出する液滴間の間隔を狭くして、中央付近では、液滴を
中央の部分に吐出した。それにより、吐出した液滴がバンクに接触する時の液滴の高さを
、どこでも略均一になるようにして、バンクからの液が漏れないようにし、液滴をバンク
で囲まれた部分に均一に配置されるようにした。
特開2004−31077号公報 特開2006−178208号公報
しかしながら、特許文献2では、液滴の吐出位置の正確な位置決めが必要であり、吐出
方法が複雑となった。また、吐出に時間のかかる広範囲に液滴を広げる場合に適用するの
は容易ではなかった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、基板にマトリ
クス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して広げることにより、基
板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供することにある。
本発明のパターン形成方法は、基板に複数の凹部を隣接させて形成し、該凹部を形成し
た基板上に、液滴吐出手段にて、機能液状体を液滴にして吐出して、複数の前記凹部を跨
いで該基板上に前記機能液状体のパターンを形成した。
本発明のパターン形成方法によれば、基板に配置された液滴は、複数の凹部を跨いで配
置され、その液滴が形成するパターンの縁の部分の形状は凹部の形状に規制される。従っ
て、基板に吐出された液滴によって、凹部の形状に規制された正確な形状のパターンを形
成することができる。
また、パターンを形成する液滴は、基板への着弾精度が低くても、少なくとも目的の凹
部にその一部が跨れば、該凹部の形状に広がるとともに規制される。そのため、吐出した
液滴の基板への着弾精度が悪いことを要因とする不都合を減少させることができる。また
、液滴吐出手段に、高い液滴吐出精度が要求されないため、液滴吐出手段の構造やシステ
ムを簡易にすることができる。
このパターン形成方法は、前記複数の凹部は、マトリクス状に区画形成されると好適で
ある。
このパターン形成方法によれば、凹部はマトリクス状に区画形成されているので、液滴
吐出装置によって、液滴を吐出する凹部を選択することができる。従って、選択した凹部
に、液量の少ない液滴を吐出すれば、任意の形状にパターンを形成することができる。そ
の結果、基板に、事前に所定の形状のパターンを形成する必要がなくなり、基板へのパタ
ーン形成が容易になる。
また、選択した凹部に、液量の多い液滴を吐出すれば、吐出した液滴を基板上の凹部に
沿って好適に広げることができる。その結果、基板上に好適に機能液状体の液層を形成す
ることができる。
加えて、凹部をマトリクス状に区画形成したことから、凹部の形成も容易にできる。
このパターン形成方法は、前記液滴吐出手段は、先に基板に吐出された液滴と少なくと
も一部が重なるように液滴を吐出するとよい。
このパターン形成方法によれば、吐出された液滴と液滴は、少なくとも一部が重なる。
従って、液滴と液滴が接触結合して大きな液層を作ることができる。その結果、基板に、
機能液状体を広く濡れ広がらせることや、基板に機能液状体の厚い層を形成したりするこ
とができる。
このパターン形成方法は、前記液滴吐出手段は、基板に吐出された前記液滴が配置され
た前記凹部に、別に吐出した前記液滴の少なくとも一部が配置されるように前記液滴を吐
出してもよい。
このパターン形成方法によれば、別に吐出した液滴は、すでに吐出された液滴が広がっ
ている凹部に配置される。従って、先に吐出された液滴と、後から吐出した液滴を接触結
合させることができる。その結果、基板上に吐出された液滴によって、機能液状体による
パターンを形成することができる。
このパターン形成方法は、前記凹部は、前記機能液状体に対して親液性であってもよい

このパターン形成方法によれば、凹部は機能液状体に対して親液性であるので、液滴は
凹部において好適に濡れ広がることができる。
このパターン形成方法は、前記凹部は、隣接する前記凹部との間に凸部を備え、前記凸
部は、前記機能液状体に対して撥液性であってもよい。
このパターン形成方法によれば、凸部は機能液状体に対して撥液性であるので、液滴は
凹部が形成された範囲に保持されやすくなる。従って、機能液状体の層を、凹部に好適に
形成することができる。
このパターン形成方法は、前記機能液状体は、配向膜を形成する配向性高分子を含む液
状体であって、前記基板は、液晶表示装置の素子基板または対向基板であってもよい。
このパターン形成方法によれば、液滴吐出手段から吐出された配向性高分子を含む液滴
は、凹部の形成された、素子基板または対向基板に好適に濡れ広がることができる。従っ
て、素子基板又は対向基板に、液滴吐出手段によって好適な配向膜を形成することができ
る。
このパターン形成方法は、前記機能液状体は、カラーフィルタを形成する色材料を含む
液状体であって、前記基板は、液晶表示装置の対向基板であってもよい。
このパターン形成方法によれば、液滴吐出手段から吐出された色材料を含む液滴は、凹
部の形成された、対向基板に好適に濡れ広がることができる。従って、対向基板に、液滴
吐出手段によって好適なカラーフィルタを形成することができる。
このパターン形成方法は、前記機能液状体は、導電性配線を形成する金属粒子を含む液
状体であって、前記基板は、液晶表示装置の素子基板または対向基板であってもよい。
このパターン形成方法によれば、液滴吐出手段から吐出された金属粒子を含む液滴は、
凹部の形成された、素子基板または対向基板に正確な形状で濡れ広がる。従って、素子基
板又は対向基板に、液滴吐出手段によって正確なパターンに導電性配線を形成することが
できる。
(第1実施形態)
以下、本発明を具体化した第1実施形態を図1〜図10に従って説明する。まず、本発
明のパターン形成方法によって形成した配向膜を有する液晶表示装置10について説明す
る。図1は、液晶表示装置10の斜視図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。
図1において、液晶表示装置10の下側には、LEDなどの光源11を有して四角板状
に形成されたエッジライト型のバックライト12が備えられている。バックライト12の
上方には、バックライト12と略同じサイズに形成された四角板状の液晶パネル13が備
えられている。そして、光源11から出射される光が、液晶パネル13に向かって照射さ
れるようになっている。
液晶パネル13には、相対向する素子基板14と対向基板15が備えられている。これ
ら素子基板14と対向基板15は、図2に示すように、光硬化性樹脂からなる四角枠状の
シール材16を介して貼り合わされている。そして、これら素子基板14と対向基板15
との間の間隙に、液晶17が封入されている。
素子基板14の下面(バックライト12側の側面)には、偏光板や位相差板などの光学
基板18が貼り合わされている。光学基板18は、バックライト12からの光を直線偏光
にして液晶17に出射するようになっている。素子基板14の上面(対向基板15側の側
面:素子形成面14a)には、一方向(X矢印方向)略全幅にわたって延びる複数の走査
線Lxが配列形成されている。各走査線Lxは、それぞれ素子基板14の一側に配設され
る走査線駆動回路19に電気的に接続されるとともに、走査線駆動回路19からの走査信
号が、所定のタイミングで入力されるようになっている。また、素子形成面14aには、
Y矢印方向略全幅にわたって延びる複数のデータ線Lyが配列形成されている。各データ
線Lyは、それぞれ素子基板14の他側に配設されるデータ線駆動回路21に電気的に接
続されるとともに、データ線駆動回路21からの表示データに基づくデータ信号が、所定
のタイミングで入力されるようになっている。素子形成面14aであって、走査線Lxと
データ線Lyの交差する位置には、対応する走査線Lx及びデータ線Lyに接続されてマ
トリックス状に配列される複数の画素22が形成されている。各画素22には、それぞれ
TFTなどの図示しない制御素子や、透明導電膜などからなる光透過性の画素電極23が
備えられている。
図2において、各画素22の上側全体には、ラビング処理などによる配向処理の施され
た配向膜24が積層されている。配向膜24は、配向性ポリイミドなどの配向性高分子か
らなる薄膜パターンであって、対応する画素電極23の近傍で、液晶17の配向を所定の
配向に設定するようになっている。この配向膜24は、インクジェット法によって形成さ
れている。すなわち、配向膜24は、配向性高分子を所定の溶媒に溶解した機能液状体と
しての配向膜形成材料F(図7参照)を液滴Fb(図7参照)として各画素22の上側全
体に吐出し、着弾した液滴Fbを乾燥させることによって形成されている。
前記対向基板15の上面には、光学基板18からの光と直交する直線偏光の光を外方(
図2における上方)に出射する偏光板25が配設されている。一方、対向基板15の下面
(素子基板14側の側面)には、図3に示すように、四角枠状の隔壁(以下、枠状隔壁)
28aと、該枠状隔壁28aに囲まれた部分に格子状の隔壁(以下、格子状隔壁)28b
が形成されている。
枠状隔壁28a及び格子状隔壁28bは、同じ材質であって、本実施形態では、ポリイ
ミド樹脂やアクリル樹脂などからなる光透過性の樹脂によって形成されているとともに、
配向膜形成材料Fに対しての親液性を有している。
また、格子状隔壁28bの高さは、枠状隔壁28aよりも低い高さであって、略100
ナノメートルである。また、格子状隔壁28bの幅D1は、1〜2マイクロメートルであ
る。さらに、X矢印方向又はY矢印方向に平行に並んだ格子状隔壁28b同士の間隔D2
は、いずれも10マイクロメートルに格子状隔壁28bの幅D1を加えた距離になってい
る。
そして、格子状隔壁28bで囲まれた各部分は、対向基板15を底部とした四角形状の
第1の凹部28cが形成される。各第1の凹部28cは、素子基板14と対向基板15を
貼り合わせた際に、それぞれに対応する画素電極23と相対向する位置に形成されている
第1の凹部28cの4辺の長さは、いずれも略10マイクロメートルであり、第1の凹
部28cの深さは、格子状隔壁28bの高さと略同じ、略100ナノメートルである。つ
まり、各第1の凹部28cの容積(容量C1)は、およそ10×10のマイナス18乗立
方メートル、つまり、およそ0.01ピコリットルである。
枠状隔壁28a及び格子状隔壁28bが形成された対向基板15の下面であって、図4
に示すように、光透過性の導電膜からなる対向電極26が各画素電極23と相対向するよ
うに積層されている。
対向電極26は、格子状隔壁28b及び第1の凹部28cによる凸凹を備えている対向
基板15の表面に、スパッタリング法などで形成されている。スパッタリング法で積層さ
れる対向電極26の厚みは、全面にわたって略一定になる。そのため、対向電極26の表
面には格子状隔壁28b及び第1の凹部28cによって凸凹が形成される。つまり、対向
電極26の表面には、格子状隔壁28bに対応する部分には凸部26bが、第1の凹部2
8cに対応する部分には第2の凹部26cが形成される。このときの第2の凹部26cの
容積(容量C2)は、略容量C1と同様におよそ0.01ピコリットルである。
図2において、対向電極26は、前記データ線駆動回路21に電気的に接続されるとと
もに、そのデータ線駆動回路21からの所定の共通電位が付与されるようになっている。
対向電極26の下面全体(図4における上側)には、ラビング処理などによる配向処理の
施された配向膜27が積層されている。この配向膜27は、前記配向膜24と同じく、イ
ンクジェット法によって形成されて、前記対向電極26の近傍で、液晶17の配向を所定
の配向に設定するようになっている。
そして、各走査線Lxを線順次走査に基づいて1本ずつ所定のタイミングで選択して、
各画素22の制御素子を、それぞれ選択期間中だけオン状態にする。すると、各制御素子
に対応する各画素電極23に、対応するデータ線Lyからの表示データに基づくデータ信
号が出力される。各画素電極23にデータ信号が出力されると、各画素電極23と対向電
極26との間の電位差に基づいて、対応する液晶17の配向状態が変調される。すなわち
、光学基板18からの光の偏光状態が画素22ごとに変調される。そして、変調された光
が偏光板25を通過するか否かによって、表示データに基づく画像が、液晶パネル13の
上側に表示される。
次に、上記配向膜27を形成するための液滴吐出手段としての液滴吐出装置30を図5
〜7に従って説明する。
図5において、液滴吐出装置30には、直方体形状に形成された基台31が備えられる
とともに、その基台31の上面には、その長手方向(X矢印方向)に沿って延びる一対の
案内溝32が形成されている。その基台31の上方には、基台31に設けられたX軸モー
タMX(図10の左上参照)の出力軸に駆動連結される移動手段としての基板ステージ3
3が備えられるとともに、その基板ステージ33が、前記案内溝32に沿って、所定の速
度(搬送速度Vx)でX矢印方向及び反X矢印方向に往復動する(X矢印方向に沿って走
査される)ようになっている。
基板ステージ33の上面には、前記対向電極26を上側にした対向基板15を載置可能
にする載置面34が形成されて、載置された状態の対向基板15を基板ステージ33に対
して位置決め固定するようになっている。尚、本実施形態では、載置面34に対向基板1
5を載置する構成にしているが、これに限らず、前記各画素電極23を上側にした素子基
板14を載置する構成にしてもよい。また、載置面34には、種々のサイズの基板を位置
決め固定することができる。
基台31のY矢印方向両側には、門型に形成されたガイド部材35が配設されるととも
に、そのガイド部材35には、Y矢印方向に延びる上下一対のガイドレール36が形成さ
れている。また、ガイド部材35には、ガイド部材35に設けられたY軸モータMY(図
10の左下参照)の出力軸に駆動連結されるキャリッジ37が備えられるとともに、その
キャリッジ37が、ガイドレール36に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向に往復動する
(Y矢印方向に沿って走査される)ようになっている。キャリッジ37の内部には、前記
配向膜形成材料F(図7参照)を導出可能に収容するインクタンク38が配設されるとと
もに、そのインクタンク38の収容する配向膜形成材料Fが、キャリッジ37の下方に搭
載される液滴吐出ヘッド41まで導出されるようになっている。
図6は、キャリッジ37(液滴吐出ヘッド41)を下方(対向基板15側)から見た概
略斜視図であって、図7は、液滴吐出ヘッド41をY矢印方向側から見た概略側面図であ
る。
図6において、キャリッジ37の下側(図6における上側)には、Y矢印方向に延びる
直方体形状の筐体40が配設され、その取着面40bには、Y矢印方向に沿って延びる直
方体形状に形成された液滴吐出ヘッド(以下単に、吐出ヘッドという。)41が備えられ
ている。吐出ヘッド41の下側(図6において上側)には、ノズルプレート42が備えら
れるとともに、そのノズルプレート42の対向基板15側(図6における上側)には、取
着面40bと平行なノズル形成面42aが形成されている。そのノズル形成面42aには
、吐出口としての複数のノズルNが、Y矢印方向に沿って等ピッチに配列形成されている
図7において、各ノズルNは、ノズル形成面42a(取着面40b)の法線方向、すな
わち吐出方向Aに沿ってノズルプレート42に貫通形成されている。本実施形態では、各
ノズルNの吐出方向Aに対応する位置を、それぞれ着弾位置PFという。
各ノズルNの吐出方向Aの反対側には、前記インクタンク38に連通するキャビティ4
3が形成されて、インクタンク38からの配向膜形成材料Fを、対応するノズルNに供給
させるようになっている。各キャビティ43の吐出方向Aの反対側には、吐出方向A及び
その反対方向に振動可能な振動板44が貼り付けられていて、キャビティ43内の容積を
拡大・縮小させるようになっている。振動板44の上側には、各ノズルNに対応する複数
の圧電素子PZが配設されている。各圧電素子PZは、それぞれ圧電素子PZを駆動制御
するための信号(圧電素子駆動信号COM:図10の左下参照)を受けて収縮・伸張し、
対応する振動板44を吐出方向A及びその反対方向に振動させるようになっている。
そして、対向電極26(対向基板15)上であって、前記配向膜27を形成する領域(
枠状隔壁28a内)に、液滴Fbを着弾させるための格子点(以下、「目標位置P」とす
る。)を、X矢印方向に沿って等間隔(吐出間隔W)に規定するようになっている。基板
ステージ33をX矢印方向へ搬送させ、吐出ヘッド41のノズルNの直下を各目標位置P
が、通過するタイミングで、各圧電素子PZに圧電素子駆動信号COMを供給する。
すると、各キャビティ43の容積が拡大・縮小して、各ノズルN内のメニスカス(配向
膜形成材料Fの界面)が振動する。各ノズルN内のメニスカスが振動すると、圧電素子駆
動信号COMに応じた所定重量の配向膜形成材料Fが、対応するノズルNから、所定の外
径、つまり所定の液量からなる液滴Fbとして吐出される。吐出された各液滴Fbは、吐
出方向Aに沿って、飛行距離Lだけ飛行して、やがて、対向電極26上の目標位置P(着
弾位置PF)の領域に着弾する。本実施形態においては、液滴Fbの所定の液量は、対向
電極26に着弾した液滴Fbが複数の第2の凹部26cに広がる量であり、例えば第2の
凹部26cの容量C2の1000倍である10ピコリットルに設定されている。
尚、本実施形態の圧電素子駆動信号COMは、予め試験等に基づいて設定された波形デ
ータWD(図10参照)に基づいて生成されて、メニスカスを円滑に振動させて、液滴F
bの重量を、所定重量に安定させるように設定されている。すなわち、本実施形態の液滴
吐出装置30は、共通する圧電素子駆動信号COM(波形データWD)によって各液滴F
bを吐出させて、各液滴Fbの外径を、つまり吐出する液量を安定させるようになってい
る。
次に、上記のように構成した液滴吐出装置30の電気的構成を図10に従って説明する

図10において、制御装置51には、CPU、RAM、ROMなどが備えられている。
そして、制御装置51は、RAMやROMなどに格納された各種データ及び各種プログラ
ムに従って、基板ステージ33及びキャリッジ37を走査させるとともに、吐出ヘッド4
1の各圧電素子PZを駆動制御させるようになっている。
制御装置51には、入力装置52、X軸モータ駆動回路53、Y軸モータ駆動回路54
及び吐出ヘッド駆動回路55が接続されている。
入力装置52は、起動スイッチ、停止スイッチなどの操作スイッチを有して各種操作信
号を制御装置51に入力するとともに、対向基板15に形成する配向膜27の目標膜厚に
関する情報を、既定形式の膜厚情報Itとして制御装置51に入力するようになっている
。そして、膜厚情報Itを入力装置52から制御装置51に入力する。すると、制御装置
51は、入力装置52からの膜厚情報Itを受けて、対向電極26上に吐出する配向膜形
成材料Fの総重量を演算するとともに、演算した総重量と、波形データWDに対応する液
滴Fbの吐出重量に基づいて、液滴Fbの吐出間隔W(各目標位置Pの位置座標)を演算
するようになっている。各目標位置Pの位置座標を演算すると、制御装置51は、液滴F
bを吐出させるためのビットマップデータBMDを生成して格納するようになっている。
ビットマップデータBMDは、対向電極26上の各目標位置Pに、それぞれ各ビットの
値(0あるいは1)を対応させたデータであって、各ビットの値に応じて、各圧電素子P
Zのオンあるいはオフを規定したデータである。そして、ビットマップデータBMDは、
各着弾位置PFが、対応する各目標位置Pに位置するたびに、液滴Fbを吐出させるよう
に規定される。
X軸モータ駆動回路53は、制御装置51からのX軸モータ駆動回路53に対応する駆
動制御信号に応答して、基板ステージ33を往復移動させるX軸モータMXを正転又は逆
転させるようになっている。そのX軸モータ駆動回路53には、X軸モータ回転検出器M
EXが接続されて、X軸モータ回転検出器MEXからの検出信号が入力されるようになっ
ている。X軸モータ駆動回路53は、X軸モータ回転検出器MEXからの検出信号に基づ
いて、基板ステージ33(対向基板15)の移動方向及び移動量を演算するとともに、基
板ステージ33の現在位置に関する情報をステージ位置情報SPIとして生成するように
なっている。そして、制御装置51は、X軸モータ駆動回路53からのステージ位置情報
SPIを受けて、各種信号を出力するようになっている。
Y軸モータ駆動回路54は、制御装置51からのY軸モータ駆動回路54に対応する駆
動制御信号に応答して、キャリッジ37を往復移動させるY軸モータMYを正転又は逆転
させるようになっている。そのY軸モータ駆動回路54には、Y軸モータ回転検出器ME
Yが接続されて、Y軸モータ回転検出器MEYからの検出信号が入力されるようになって
いる。Y軸モータ駆動回路54は、Y軸モータ回転検出器MEYからの検出信号に基づい
て、キャリッジ37(ヘッドユニット30)の移動方向及び移動量を演算するとともに、
キャリッジ37の現在位置に関する情報をキャリッジ位置情報CPIとして生成するよう
になっている。そして、制御装置51は、Y軸モータ駆動回路54からのキャリッジ位置
情報CPIを受けて、各種駆動信号を出力するようになっている。
詳述すると、制御装置51は、ステージ位置情報SPI及びキャリッジ位置情報CPI
に基づいて、対向基板15がキャリッジ37の直下に侵入する前に、対向基板15の走査
分(往動もしくは復動)に対応するビットマップデータBMDに基づいて所定のクロック
信号に同期させた、吐出制御信号SIを生成するようになっている。そして、制御装置5
1は、キャリッジ37を走査するたびに、生成した吐出制御信号SIを、吐出ヘッド駆動
回路55に順次シリアル転送するようになっている。
また、制御装置51は、ステージ位置情報SPIに基づいて、各着弾位置PFが、それ
ぞれ対応する目標位置Pに位置するたびに、波形データWDに基づく圧電素子駆動信号C
OMを、圧電素子PZに出力させるための信号(吐出タイミング信号LP)を生成するよ
うになっている。そして、制御装置51は、生成した吐出タイミング信号LPを、吐出ヘ
ッド駆動回路55に順次出力するようになっている。
吐出ヘッド駆動回路55には、吐出ヘッド41が接続されるとともに、制御装置51か
らの波形データWD、吐出制御信号SI及び吐出タイミング信号LPが供給されるように
なっている。吐出ヘッド駆動回路55は、制御装置51からの吐出制御信号SIを受けて
、その吐出制御信号SIを、それぞれ各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレ
ル変換するようになっている。そして、吐出ヘッド駆動回路55は、制御装置51からの
吐出タイミング信号LPを受けるたびに、シリアル/パラレル変換した吐出制御信号SI
に基づいて、波形データWDに基づく圧電素子駆動信号COMを、各圧電素子PZに供給
するようになっている。すなわち、吐出ヘッド駆動回路55は、各着弾位置PFが目標位
置Pに位置するたびに、対応する圧電素子PZに圧電素子駆動信号COMを供給するよう
になっている。
次に、上記する液滴吐出装置30を使用して配向膜27を形成する方法について説明す
る。
まず、図5に示すように、基板ステージ33上に、対向基板15を載置する。このとき
、基板ステージ33は、キャリッジ37よりも反X矢印方向側に配置されて、キャリッジ
37は、ガイド部材35の最も反Y矢印方向に配置されている。
この状態から、入力装置52を操作して膜厚情報Itを制御装置51に入力する。する
と、制御装置51は、膜厚情報Itに基づくビットマップデータBMDを生成して格納す
る。
ビットマップデータBMDを生成すると、制御装置51は、Y軸モータMYを駆動制御
して、キャリッジ37を配置移動する。そして、対向基板15がX矢印方向に搬送される
ときに、各着弾位置PFが、対応する目標位置Pの走査経路上(X矢印方向)に位置する
ように、キャリッジ37(各ノズルN)をセットする。キャリッジ37をセットすると、
制御装置51は、X軸モータMXを駆動制御して、基板ステージ33(対向基板15)の
X矢印方向への搬送を開始する。
この際、制御装置51は、波形データWDを所定のクロック信号に同期させて、吐出ヘ
ッド駆動回路55に出力する。また、制御装置51は、基板ステージ33の1回の走査分
に対応するビットマップデータBMDを所定のクロック信号に同期させた吐出制御信号S
Iを生成するとともに、生成した吐出制御信号SIを、吐出ヘッド駆動回路55に順次シ
リアル転送する。
やがて、制御装置51は、ステージ位置情報SPI及びキャリッジ位置情報CPIに基
づいて、各着弾位置PFが対向電極26上の各格子点(目標位置P)に位置するたびに、
吐出タイミング信号LPを出力し、吐出制御信号SIに基づく液滴吐出動作を実行する。
すなわち、制御装置51は、各着弾位置PFが目標位置Pに位置するタイミングで、各
圧電素子PZに、波形データWDに対応する圧電素子駆動信号COMを供給し、各着弾位
置PFが目標位置Pに対応する各ノズルNから、一斉に配向膜形成材料Fの液滴Fbを吐
出させる。
この際、吐出される各液滴Fbは、吐出方向Aに沿って飛行して、X矢印方向に沿って
吐出間隔Wだけ離間する目標位置Pの領域に順次着弾する。
目標位置Pに着弾した液滴Fbは、図7に示すように、対向電極26の上面に、飛行中
の液滴Fbの径よりも大きい径(着弾径R1)の液滴Fb1を形成する。また、着弾径R
1の長さは、少なくとも第2の凹部26cの対角よりも長くなるようになっている。着弾
径R1は液滴Fbの吐出重量で決まり、波形データWDで決まる。
着弾したひとつの液滴Fb1は、図8(a)に示すように、複数の第2の凹部26cに
跨るとともに、中央は表面張力によって半円球状に盛り上がっている。この液滴Fb1の
形状は、表面張力によって維持できないので、液滴Fb1は、着弾したそれぞれの第2の
凹部26cの内部に、各矢印の方向に向かって濡れ広がる。そして、液滴Fb1は、図8
(b)に示すように、それぞれの第2の凹部26cの内部に均一に広がって、それぞれの
凸部26bによって一時的に保持された液層Z0を形成する。
この液層Z0の略中央も、表面張力によって盛り上がっている。液層Z0の表面のうち
、L字状に窪んでいる中央部分K(図8(b)参照)は、その他の表面に比べて表面の傾
斜が急になっている。従って、液層Z0は、該中央部分Kから矢印で示す方向に、一時的
に保持している凸部26bを越えて、矢印方向に、即ち、対角線方向に隣接する第2の凹
部26cへ広がる。その結果、図8(c)に示すように、矩形状の液層Z0が一時的に形
成される。
矩形形状になった液層Z0の表面は、全体的に略同様の傾斜を形成するので、安定しや
すい。このとき、液層Z0の表面が表面張力によって保持できるのならば、液層Z0の濡
れ広がりは止まる。一方、液層Z0の表面が表面張力によって保持できないのならば、液
層Z0は、いずれかの表面部分から隣接する第2の凹部26cに濡れ広がり、液層Z0の
表面が安定するまでこれを繰り返す。
ところで、順次着弾する各液滴Fbは、対向電極26の上面において着弾径R1の液滴
Fb1となるが、図9(a)に示すように、それぞれ先に着弾した各液滴Fb1と重なる
ようになっている。
従って、各液滴Fbは、対向電極26に着弾すると、相互に接触して結合し、ひとつの
液層Z1を形成する。このときの液層Z1の中央の付近は、図9(b)に示すように、縁
の部分に比べて盛り上がっていて、つまり液層Z1の断面は略山型の形状になっている。
液層Z1は、中央が盛り上がっているために、図9(c)に示すように、跨っている各
第2の凹部26cの内部全体に広がる。各液滴Fbの吐出量は多いので、液層Z1が跨っ
ていた各第2の凹部26cの内部全体に広がっても、図9(d)に示すように、液層Z1
の中央の付近は盛り上がっている。この状態において、液層Z1は、その表面のうち、中
央に近い側面部分から、まだ濡れ広がっていない隣接する第2の凹部26cに、それぞれ
濡れ広がる。以降、液層Z1は、中央に近い表面の側面部分から、まだ濡れ広がっていな
い隣接する第2の凹部26cに、それぞれ濡れ広がることを繰り返す。
そして、制御装置51は、各着弾位置PFが、対応する目標位置Pの走査経路上(X矢
印方向)を対向基板15の端部分に位置したら、X軸モータMXを駆動制御して、基板ス
テージ33(対向基板15)のX矢印方向への搬送を終了する。
また、液層Z1は、図9(e)及び(f)に示すように、対向電極26の全面に均一に
濡れ広がる。そして、この液層Z1を乾燥させると配向膜27が形成される。
これによって、液滴Fbを接合させて正確で均一な膜厚の配向膜27を形成させること
ができる。
本実施形態によれば以下のような効果を得ることができる。
(1)本実施形態によれば、対向電極26に第2の凹部26cを形成した。従って、対
向電極26上に吐出される液滴Fbは、着弾したそれぞれの第2の凹部26cに好適に濡
れ広がることができる。
(2)本実施形態によれば、液滴吐出装置30が吐出する液滴Fbは、第2の凹部26
cの容積(容量C2)よりも大きな液滴にした。従って、各液滴Fbは、着弾したそれぞ
れの第2の凹部26cに濡れ広がってから、次々に隣接する第2の凹部26cに広がる。
そして、対向電極26の全面に、配向膜27を形成するための液層Z1を均一に形成する
ことができる。その結果、対向電極26の上面に、略均一な配向膜27を好適に形成する
ことができる。
(3)本実施形態によれば、第2の凹部26c及び凸部26bを親液性とした。従って
、液層Z1は、対向電極26の上面において、より均一に形成される。
(4)本実施形態によれば、対向電極26に着弾する液滴Fbは、第2の凹部26cの
形状に規制される。従って、目標位置から少しずれて着弾した液滴Fbでも、第2の凹部
26cの形状に規制される。従って、液滴Fbの濡れ広がりが、着弾精度によって影響さ
れることを低減することができる。その結果、液滴吐出装置30の構造やシステムを簡易
にすることができる。
(5)本実施形態によれば、第2の凹部26cは、マトリクス状に区画形成された。従
って、液滴Fbを好適に広げるための第2の凹部26cは、簡単な形状なので、比較的容
易に形成することができる。
(第2実施形態)
以下、本発明を具体化した第2実施形態を図11〜14に従って説明する。尚、本実施
形態は液晶パネルの対向基板に、液滴吐出装置を使ってカラーフィルタを形成する方法で
ある。
本実施形態の液晶パネルは、第1実施形態と比べて液晶パネルのサイズが大きいが、素
子基板の構造は略同様である。また、製造に用いる液滴吐出装置の構造も、第1実施形態
の液滴吐出装置30と略同様なので、その説明を省略する。説明の便宜上、第1実施形態
の液晶表示装置10の番号を使って説明する。
まず、図11及び図12に基づいて、対向基板60について説明する。
対向基板60の表面(素子基板14側の側面)全体には、素子基板14の各画素22と
相対向する位置に、カラーフィルタ61が形成されている。カラーフィルタ61には、格
子形状にブラックマトリクスBMが形成されている。
ブラックマトリクスBMは、クロム膜などの遮光性を有する膜の上に、遮光性を有する
樹脂などを積層して形成されている。本実施形態では、ブラックマトリクスBMの高さH
1は、1マイクロメートル以上に形成されており、ブラックマトリクスBMの幅D3は、
略10マイクロメートルに形成されている。また、X矢印方向及びY矢印方向に平行に並
ぶブラックマトリクスBMの格子の間隔D4は略100マイクロメートルに形成されてい
る。
ブラックマトリクスBMに囲まれた部分には、略四角枠状にフィルタ形成凹部62が形
成されている。フィルタ形成凹部62の4辺の長さは、それぞれブラックマトリクスBM
の格子の間隔D4からブラックマトリクスBMの幅D3を減じた長さであり、その深さは
、ブラックマトリクスBMの高さH1と略同じ、1マイクロメートル以上に形成されてい
る。また、フィルタ形成凹部62は、前記素子基板14と貼り合わせたとき、各画素電極
23と相対向する位置に形成されている。
図13(a)は、1つのフィルタ形成凹部62を示す。フィルタ形成凹部62の底面(
対向基板60の表面)には、図13(a)に示すように、格子形状に凸部としての格子状
隔壁63が形成されている。格子状隔壁63は、透光性のある樹脂、例えば、ポリイミド
樹脂やアクリル樹脂などにて形成されている。本実施形態では、格子状隔壁63の高さは
、略50〜60ナノメートルに形成されており、格子状隔壁63の間隔は、略10マイク
ロメートルに形成されている。
格子状隔壁63に囲まれた部分には、それぞれ四角枠状の形成凹部64が形成されてい
る。本実施形態では、形成凹部64の上面の4辺の長さは、略10マイクロメートルに形
成されており、形成凹部64の深さは、格子状隔壁63の高さと略同じ、50〜60ナノ
メートルに形成されている。
各フィルタ形成凹部62には、底面に形成された格子状隔壁63及び形成凹部64を覆
って、それぞれ四角枠状の赤色フィルタ層R、緑色フィルタ層G及び青色フィルタ層Bが
形成されている。本実施形態では、各フィルタ層R,G,Bの4辺の長さは、それぞれ、
略10マイクロメートルに形成されており、その厚みは、略1マイクロメートルに形成さ
れている。また、各フィルタ層R,G,Bは、素子基板14の各画素電極23に対応する
位置に形成される。各フィルタ層R,G,Bは、対向基板60上において、図11に示す
ように、X矢印方向には、赤色フィルタ層R、緑色フィルタ層G及び青色フィルタ層Bの
順番に繰り返して形成され、Y矢印方向には、フィルタ層R,フィルタ層G,フィルタ層
Bがそれぞれ一列になるように形成されている。
カラーフィルタ61の上面は、透明性を有する保護膜66が形成され、該保護膜66の
上面には、対向電極26が形成されている。対向電極26の上面には、ラビング処理した
配向膜27が積層されている。
次に、液滴吐出装置を使用して各フィルタ層R,G,Bを形成する方法について説明す
る。この液滴吐出装置は図5に示す液滴吐出装置30と略同様の構成であるので、その詳
細な説明を省略する。また、説明の便宜上、図5〜7及び図10に示す、液滴吐出装置3
0の符号を使って説明する。
尚、各フィルタ層R,G,Bを形成する液滴吐出装置30は、ステージ33には対向基
板60を載置され、インクタンク38には、各フィルタ層を形成する色材料を所定の分散
媒で分散した機能液状体としての液状体Cr,Cg,Cbが収納されている。該液状体C
r,Cg,Cbは、格子状隔壁63及び形成凹部64に対しての親液性を有している。そ
して、液滴吐出装置30は、該液状体Cr,Cg,Cbを、液滴吐出ヘッド41から対向
基板60に、図7に示すような、液滴Fbとして吐出可能となっている。本実施形態では
、液滴Fbの吐出重量は、フィルタ形成凹部62に着弾した液滴Fbが複数の形成凹部6
4に広がる量であり、例えば10ピコリットルに設定されている。
また、制御装置51は、対向基板60のブラックマトリクスBMで囲まれたフィルタ形
成凹部62に、各フィルタ層R,G,Bを形成するためのビットマップデータBMD2(
図10にかっこで表示)に基づいて、液滴Fbを配置するようになっている。
以下、フィルタ層Rを形成する方法についてのみ説明するが、フィルタ層G,Bの形成
についても同様である。
対向基板60の目標位置に着弾する各液滴Fbは、図13(a)に示すように、着弾径
R2の液滴Fb2として、格子状隔壁63及び各形成凹部64に跨って配置される。また
、着弾した液滴Fb2は、先に着弾した液滴Fb2と重なるようになっている。従って、
各液滴Fb2は、フィルタ形成凹部62に着弾すると、相互に接触して結合し、1つの液
層Z2を形成する。このとき液層Z2の中央の付近は、縁の部分に比べて盛り上がってい
る。
液層Z2は、中央が盛り上がっているために、図13(b)に示すように、跨っている
形成凹部64の内部全体に広がる。液層Z2が跨っていた形成凹部64の内部全体に広が
っても、液滴Fbの吐出量が多いため、液層Z2の中央の付近は盛り上がっている。この
状態において、液層Z2は、その表面のうち中央に近い部分から、まだ濡れ広がっていな
い隣接する形成凹部64に濡れ広がる。以降、液層Z2は、中央に近い表面の部分から、
まだ濡れ広がっていない隣接する形成凹部64に濡れ広がることを繰り返す。
そして、液滴吐出装置30による、液滴Fbの吐出が終了する。また、液層Z2は、図
13(c)に示すように、フィルタ形成凹部62、つまりブラックマトリクスBMで囲ま
れた部分の内側に均一に濡れ広がる。この液層Z2を乾燥させると赤色フィルタ層Rが形
成される。
本実施形態によれば、前記第1実施形態の効果に加えて以下のような効果を得ることが
できる。
(1)本実施形態によれば、液滴Fbは、形成凹部64の容積よりも大きな液滴にした
。従って、液滴Fbは、着弾したそれぞれの形成凹部64に規制された凹部に広がってか
ら、格子状隔壁63を跨いで、次々に隣接する形成凹部64に広がる。そして、フィルタ
形成凹部62に、フィルタ層R,G,Bを形成するための液層Z2を均一に形成すること
ができる。その結果、フィルタ形成凹部62に、好適に略均一なフィルタ層R,G,Bを
形成することができる。
(第3実施形態)
以下、本発明を具体化した第3実施形態について説明する。
以下、本発明を具体化した第3実施形態を図14及び図15に従って説明する。尚、本
実施形態は、第2実施形態における素子基板の画素電極を液滴吐出装置を使用して形成す
る方法である。尚、説明の便宜上、第1実施形態の液晶表示装置10の番号を使って説明
する。また、第1実施形態と同様の部材には同一の番号を付してその説明を省略する。
図14は、素子基板70における導電性配線としての画素電極23の部分を拡大した断
面図である。
図14に示すように、画素電極23の下層であって、素子基板70の上面には、シリコ
ン酸化膜等からなる凸部としての絶縁層71が形成されている。絶縁層71の上面には、
図15に示すように、フォトリゾグラフィ法によるエッチングによって、マトリクス状に
区画形成された四角枠状の複数の凹み72が形成されている。凹み72の4辺の長さは、
いずれも略10マイクロメートル、高さは、50〜60ナノメートルに形成されている。
つまり、画素電極23は、絶縁層71の上面に、その底面に形成されている各凹み72
を覆うように、液滴吐出装置30によって形成されている。
次に、液滴吐出装置を使用して画素電極23を形成する方法について説明する。この液
滴吐出装置は図5に示す液滴吐出装置30と略同様の構成であるので、その詳細な説明を
省略する。また、説明の便宜上、図5〜7及び図10に示す、液滴吐出装置30の符号を
使って説明する。
尚、画素電極23を形成する液滴吐出装置30は、ステージ33には絶縁層71を上面
にした素子基板70を載置され、インクタンク38には、画素電極23を形成する金属粒
子としての金属微粒子、例えば銀粒子を含む機能液状体としてのインク73が収納されて
いる。該インク73は、絶縁層71及び凹み72に対して親液性を有している。そして、
液滴吐出装置30は、該インク73を、液滴吐出ヘッド41から素子基板70に、図7に
示すような、液滴Fbとして吐出可能となっている。また、制御装置51は、素子基板7
0の絶縁層71の上面に、画素電極23を形成するためのビットマップデータBMD3(
図10にかっこで表示)に基づいて、液滴Fbを配置するようになっている。本実施形態
では、液滴Fbは、液滴Fbが着弾した各凹み72にのみ広がる液量、例えば1ピコリッ
トルに設定されている。
そして、素子基板70の目標位置に着弾する各液滴Fbは、図15(a)に示すように
、着弾径R3の液滴Fb3として、複数の凹み72に跨って配置される。また、着弾した
液滴Fb3は、先に着弾した液滴Fb3が広がった凹み72が、その着弾した凹み72の
一部に含まれるように着弾される。
液滴Fb3は、中央が盛り上がっているために、各液滴Fb3が着弾した各凹み72の
内部全体に広がる。しかし、吐出された液滴Fbは、少量であるため、最初に着弾した各
凹み72以外の凹み72には広がらない。つまり、隣接する液滴Fb3と共有した各凹み
72において、図15(b)に示すように、各液滴Fb3は他の液滴Fb3と接触結合し
て液層Z3を形成するが、この液層Z3は、それ以外の凹み72には濡れ広がらない。
そして、液滴吐出装置30による液滴Fbの吐出が終了すると、液層Z3は、着弾した
液滴Fb3が配置された各凹み72にだけ広がる。つまり、液層Z3は、配線座標情報I
p(図10にかっこで表示)によって設定された配線や膜の形状に形成され、この液層Z
3を乾燥させると所定の形状の画素電極23が形成される。
本実施形態によれば、前記第1実施形態及び前記第2実施形態の効果に加えて以下のよ
うな効果を得ることができる。
(1)本実施形態によれば、液滴Fbは、凹み72の容積よりも大きいが、と出された
凹み72よりも広がらない液滴とした。従って、液滴Fbは、着弾したそれぞれの凹み7
2に規制されて凹部に広がり、その形態で濡れ広がらない。その結果、液滴吐出装置30
で吐出した液滴のパターン形状に画素電極23を形成することができる。その結果、絶縁
層71の上面に、所定の形状に正確にパターン形成された画素電極23を形成することが
できる。
(2)本実施形態によれば、液滴Fbは、絶縁層71に凹み72に対して親液性を有し
た。従って、凹み72を跨いで形成された液層Z3は、凹み72と凹み72の間で途切れ
ることがなく、好適に画素電極23を形成することができる。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、液晶表示装置の対向基板15には第2の凹部26cを、対向基板
60には形成凹部64を、素子基板70には凹み72を、それぞれマトリクス状に区画形
成してから、液滴吐出装置30が液滴Fbを吐出させて機能液状体によるパターンを形成
した。しかし、これに限らず、基板は、パターンを形成するために凹部を備えることがで
きれば、どのような基板でもよい。例えば、液晶表示装置以外の電気光学装置として、有
機エレクトロルミネッセンス装置、電気泳動表示装置などの素子基板や対向基板でもよい
・上記実施形態では、液滴吐出装置30によって、対向基板15には、配向膜27を、
対向基板60には、フィルタ層R,G,Bを、素子基板70には、画素電極23を、それ
ぞれ形成した。しかし、これに限らず、対向基板15,60、素子基板70の他の膜や層
、配線のパターンを形成してもよい。
・上記実施形態では、各凹部28c,64及び凹み72は、マトリクス状に区画して、
略四角枠状に形成された。しかし、これに限らず、各凹部28c,64及び凹み72は、
隣接して形成されていれば、多角形に形成されても、モザイク状に形成されていてもよい
・上記実施形態では、液滴Fbの一滴は、ひとつの各凹部28c,64又は凹み72の
容積(容量)よりも多い液量であった。しかしこれに限らず、液滴Fbは、ひとつの各凹
部28c,64又は凹み72の容積(容量)より少ない液量でもよい。その場合は、複数
の液滴Fbを結合して大きな液層Z1,Z2,Z3を形成して、該液層Z1,Z2,Z3
が各凹部28c,64又は凹み72を跨ぐようにすればよい。そうすれば、大きな凹部2
8c,64又は凹み72を備える基板にもパターンを形成することができる。
・第1実施形態では、格子状隔壁28bの高さは枠状隔壁28aよりも低い高さに形成
したが、これに限らず、高さは外枠と同じかそれより高くてもよい。また、格子状隔壁2
8bの間隔は略10マイクロメートルに形成したが、10マイクロメートルに限られない
。さらにまた、格子状隔壁28bの幅は1〜2マイクロメートルに形成したが、幅は1〜
2マイクロメートルには限られない。
・上記実施形態では、液滴Fbの液量は、第1及び第2実施形態では10ピコリットル
、第3実施形態では1ピコリットルとした。しかし、それぞれの液滴Fbの液量は、それ
ぞれの実施形態における液量よりも多くても、少なくてもよい。
液滴Fbの液量は、液滴Fbの表面張力と、吐出される面における液滴Fbの濡れ広が
りやすさと、吐出される面に形成されたバンクのサイズの関係から、液滴Fbを吐出され
た面に好適に濡れ広げることができる量であればよい。
・上記実施形態では、液滴Fbは、液滴吐出装置30を使用して吐出された。しかしこ
れに限らず、基板の所定の個所に、所定の液量の液滴Fbを吐出できる構成であれば、例
えば、ディスペンサーを用いてもよい。
・第1実施形態及び第2実施形態では、後から着弾した液滴Fbは、先に着弾していた
液滴Fbと一部が重なるようにした。しかし、これに限らず、後に着弾した液滴Fbが、
先に着弾した液滴Fbと重ならなくてもよい。その場合は、液滴Fbは、その後に液滴F
bが濡れ広がる時に他の液滴Fbと接触するようにされるとよい。
・第2実施形態では、ブラックマトリクスBMは、クロム膜などの膜の上に、樹脂など
を積層して形成された。しかしこれに限らず、ブラックマトリクスBMは、樹脂だけで形
成されても、クロム膜だけで形成されてもよい。
・第1実施形態及び第2実施形態では、枠状隔壁28a、格子状隔壁28b、格子状隔
壁63は、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂で形成した。しかし、これに限らず、機能液状
体に対して撥液性のあるフッ素系樹脂などからなる光透過性の樹脂によって形成してもよ
い。
又、第3実施形態では、シリコン酸化膜などによる絶縁層71の上面に凹み72を形成
した。しかし、これに限らず、絶縁層71の上面は機能液状体に対して撥液性に加工され
てもよい。そうすれば、機能液状体を凹み72の部分にだけ配置することができる。
液晶表示装置を示す斜視図。 図1のA−A線から見た液晶表示装置を示す断面図。 第1実施形態の対向基板を示す平面図。 第1実施形態の対向基板を示す断面図。 滴吐出装置を示す斜視図。 液滴吐出ヘッドを示す斜視図。 液滴吐出ヘッドを示す側面図。 ひとつの液滴の広がりを説明する図であって、(a)は液滴が着弾した状態を示す平面図、(b)は着弾した凹部に濡れ広がる状態を示す平面図、(c)は液滴が安定するまで広がった状態を示す平面図。 第1実施形態の対向基板上に複数の重なった液滴の広がりを説明する図であって、(a)は液滴が着弾した状態を示す平面図、(b)は(a)のD−D線から見た断面図、(c)は着弾した凹部に濡れ広がる状態を示す平面図、(d)は(c)のE−E線から見た断面図、(e)は液滴が安定するまで広がった状態を示す平面図、(f)は(e)のF−F線から見た断面図。 液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック図。 第2実施形態の対向基板を示す平面図。 図11のC−C線から見た対向基板を示す断面図。 第2実施形態の対向基板上に複数の重なった液滴の広がりを説明する図であって、(a)は液滴が着弾した状態を示す平面図、(b)は着弾した凹部に濡れ広がる状態を示す平面図、(c)は液滴が安定するまで広がった状態を示す平面図。 第3実施形態の素子基板を示す断面図。 素子基板に吐出した液滴の広がりを説明する図であって、(a)は液滴が着弾した状態を示す平面図、(b)は液滴が安定するまで広がった状態を示す平面図。
符号の説明
Fb,Fb1,Fb2,Fb3…液滴、Z0,Z1,Z2,Z3…液層、10…液晶表示
装置、13…液晶パネル、14…素子基板、15…対向基板、16…シール材、17…液
晶、22…画素、23…画素電極、24…配向膜、25…偏光板、26…対向電極、26
b…凸部、26c…第2の凹部、27…配向膜、28a…枠状隔壁、28b…格子状隔壁
、28c…第1の凹部、30…液滴吐出装置、41…液滴吐出ヘッド、51…制御装置、
60…対向基板、61…カラーフィルタ、62…フィルタ形成凹部、63…格子状隔壁、
64…形成凹部、66…保護膜、70…素子基板、71…絶縁層、73…インク。

Claims (9)

  1. 基板に複数の凹部を隣接させて形成し、該凹部を形成した基板上に、液滴吐出手段にて
    、機能液状体を液滴にして吐出して、複数の前記凹部を跨いで該基板上に前記機能液状体
    のパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
  2. 請求項1に記載のパターン形成方法において、
    前記複数の凹部は、マトリクス状に区画形成されることを特徴とするパターン形成方法
  3. 請求項1又は2に記載のパターン形成方法において、
    前記液滴吐出手段は、先に基板に吐出された液滴と少なくとも一部が重なるように液滴
    を吐出することを特徴とするパターン形成方法。
  4. 請求項1又は2に記載のパターン形成方法において、
    前記液滴吐出手段は、基板に吐出された前記液滴が配置された前記凹部に、別に吐出し
    た前記液滴の少なくとも一部が配置されるように前記液滴を吐出することを特徴とするパ
    ターン形成方法。
  5. 請求項1〜4のいずれか1つに記載のパターン形成方法において、
    前記凹部は、前記機能液状体に対して親液性であることを特徴とするパターン形成方法
  6. 請求項1〜5のいずれか1つに記載のパターン形成方法において、
    前記凹部は、隣接する前記凹部との間に凸部を備え、
    前記凸部は、前記機能液状体に対して撥液性であることを特徴とするパターン形成方法
  7. 請求項1〜5のいずれか1つに記載のパターン形成方法において、
    前記機能液状体は、配向膜を形成する配向性高分子を含む液状体であって、
    前記基板は、液晶表示装置の素子基板または対向基板であることを特徴とするパターン
    形成方法。
  8. 請求項1〜5のいずれか1つに記載のパターン形成方法において、
    前記機能液状体は、カラーフィルタを形成する色材料を含む液状体であって、
    前記基板は、液晶表示装置の対向基板であることを特徴とするパターン形成方法。
  9. 請求項1〜5のいずれか1つに記載のパターン形成方法において、
    前記機能液状体は、導電性配線を形成する金属粒子を含む液状体であって、
    前記基板は、液晶表示装置の素子基板または対向基板であることを特徴とするパターン
    形成方法。
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