JP2006177972A - 雰囲気センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板12上に所定の厚さで形成されたダイアフラム20、このダイアフラム上に形成されたヒータ18を有しこのヒータが発生する熱が測定される雰囲気によって奪われるもしくは与えられることで生ずるヒータの抵抗値に基づき雰囲気を測定する雰囲気センサであって、ダイアフラム20に形成されたヒータ18が互いに略平行且つジグザグ状に配設された複数のパターン部18Aからなり、配設された複数のパターン部の各パターン部の間隔dを各パターンの線幅b1よりも小さくした。
【選択図】図5
Description
図1は第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図及び雰囲気センサに設けられたヒータの構造図である。図2は第1の実施の形態のヒータの耐久試験を行うヒータ性能評価装置の回路構成図である。
図4は第2の実施の形態の雰囲気センサに設けられたヒータの構造図である。図4に示すヒータでは、配設された複数のパターン部の各パターン部18Aの線幅b1,b2を予め定められた標準的な線幅よりも太くしたことを特徴とする。ここで、予め定められた標準的な線幅とは、従来のヒータにおけるパターン部の線幅である。
図5は第3の実施の形態の雰囲気センサに設けられたヒータの構造図である。第3の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図6は第1の実施の形態のヒータの第1の変形例を示す図である。第1の実施の形態のヒータの第1の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図7は第2の実施の形態のヒータの第1の変形例を示す図である。第2の実施の形態のヒータの第1の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図8は第1の実施の形態のヒータの第2の変形例を示す図である。第1の実施の形態のヒータの第2の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図9は第1の実施の形態のヒータの第3の変形例を示す図である。第1の実施の形態のヒータの第3の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図10は第1の実施の形態のヒータの第4の変形例を示す図である。第1の実施の形態のヒータの第4の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図11は第3の実施の形態のヒータの第1の変形例を示す図である。第3の実施の形態のヒータの第1の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
図12は第3の実施の形態のヒータの第2の変形例を示す図である。第3の実施の形態のヒータの第2の変形例の雰囲気センサの全体構成図は、図1(a)に示す第1の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図と同一構成であるので、ここでは、その詳細は省略する。
次に、本発明の第4の実施の形態の雰囲気センサを説明する。図13は第4の実施の形態の雰囲気センサの全体構成図及び雰囲気センサに設けられたヒータの構造図である。
3 ヒータ駆動回路
5 電圧計
10 雰囲気センサ
12 基板
14 酸化膜
16 窒化膜
17 酸化ハフニウム
18 ヒータ
18A〜18E パターン部
19 ターン部
20 ダイアフラム
22a,22b 電極
25a,25b 均熱体
51 ガス感応膜
Claims (3)
- 基板上に所定の厚さで形成されたダイアフラム、このダイアフラム上に形成されたヒータを有しこのヒータが発生する熱が測定される雰囲気によって奪われるもしくは与えられることで生ずるヒータの抵抗値に基づき雰囲気を測定する雰囲気センサであって、
前記ダイアフラムに形成された前記ヒータが互いに略平行且つジグザグ状に配設された複数のパターン部からなり、配設された複数のパターン部の各パターン部の間隔を各パターンの線幅よりも小さくしたことを特徴とする雰囲気センサ。 - 前記配設された複数のパターン部の各パターン部の間隔を各パターンの線幅に対して略1/3以下にしたことを特徴とする請求項1記載の雰囲気センサ。
- 前記ダイアフラムに接触した状態でこのダイアフラム上に形成された誘電体膜を有し、前記ヒータが前記誘電体膜に接触した状態でこの誘電体膜上に形成され、前記誘電体膜は、酸化物と、この酸化物に接触した状態でこの酸化物上に形成された窒化膜と、この窒化膜に接触した状態でこの窒化膜上に形成された酸化ハフニウムとを有し、前記ヒータが前記酸化ハフニウムに接触した状態でこの酸化ハフニウム上に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の雰囲気センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006028885A JP2006177972A (ja) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 雰囲気センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006028885A JP2006177972A (ja) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 雰囲気センサ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26947399A Division JP3802291B2 (ja) | 1999-09-22 | 1999-09-22 | 雰囲気センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006177972A true JP2006177972A (ja) | 2006-07-06 |
Family
ID=36732164
Family Applications (1)
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JP2006028885A Pending JP2006177972A (ja) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | 雰囲気センサ |
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JP (1) | JP2006177972A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010204029A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Kobe Steel Ltd | 中空構造素子 |
JP2010223747A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 熱式流量計 |
WO2023145568A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | ミネベアミツミ株式会社 | 流体センサ |
-
2006
- 2006-02-06 JP JP2006028885A patent/JP2006177972A/ja active Pending
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JP2010223747A (ja) * | 2009-03-24 | 2010-10-07 | Hitachi Automotive Systems Ltd | 熱式流量計 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080715 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080916 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090310 |