JP2006173129A - 分散溶液及び分散溶液の製造方法 - Google Patents

分散溶液及び分散溶液の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006173129A
JP2006173129A JP2005362636A JP2005362636A JP2006173129A JP 2006173129 A JP2006173129 A JP 2006173129A JP 2005362636 A JP2005362636 A JP 2005362636A JP 2005362636 A JP2005362636 A JP 2005362636A JP 2006173129 A JP2006173129 A JP 2006173129A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dispersion solution
coupling agent
producing
less
mgo powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005362636A
Other languages
English (en)
Inventor
Jeong-Seon Kim
ヨンソン キム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Electronics Inc
Original Assignee
LG Electronics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Electronics Inc filed Critical LG Electronics Inc
Publication of JP2006173129A publication Critical patent/JP2006173129A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20Constructional details
    • H01J11/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J11/40Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/20Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23Oxides
    • C03C17/25Oxides by deposition from the liquid phase
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/212TiO2
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/228Other specific oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/20Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21Oxides
    • C03C2217/23Mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00Methods for coating glass
    • C03C2218/10Deposition methods
    • C03C2218/11Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/113Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2211/00Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
    • H01J2211/20Constructional details
    • H01J2211/34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/40Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

【課題】本発明は、放電特性を向上させるための添加物が均一に混じることができる保護膜用分散溶液製造方法を提供するためである。
【解決手段】本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液製造方法であって、ソルベントと分散剤の混合液にMgO粉末を添加するステップと、前記MgO粉末が添加された前記ソルベントと分散剤との混合液をミーリングすることにより第1溶液を形成するステップと、カップリングエージェントを含む第2溶液を形成するステップと、前記第1溶液と前記第2溶液とをミーリングするステップと、を含むことを特徴とする
【選択図】図3

Description

本発明は、保護膜用分散溶液及び保護膜用分散溶液の製造方法に関する。
本発明のプラズマディスプレイパネルは、2枚のガラス基板間で電極間気体放電現象を利用して画像を表示する。本発明のプラズマディスプレイパネルでは、各セル毎にアクティブ素子が装着される必要がないので、製造工程が簡単であり、大型画面の製作が容易であり、応答速度が速い。
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前面基板と背面基板とを含み、前面基板と背面基板は一定の距離を置いて平行に結合される。前面基板の製造工程は電極パターンを電極材に形成するステップ、電極パターンによって現像して電極を形成するステップ、電極を焼成(firing)するステップ、電極上に誘電体層を形成するステップ及びイオンのスパッタリングから誘電体層を保護する、酸化マグネシウムからなる保護膜を形成するステップを含む。
保護膜の形成のためにMgO粉末を使用する方法が提案されているが、保護膜の放電特性の向上のためにMgO粉末に添加されるシリコンやチタニウムのような物質が均一に混合し難く、一定の以上の接着力を有することができないという問題が発生する。
本発明の実施形態は、放電特性を向上させるための添加物が均一に混じることができる保護膜用分散溶液製造方法を提供するためのものである。
また、本発明の実施形態は、接着力を向上させることができる保護膜用分散溶液製造方法を提供するためのものである。
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液製造方法は、ソルベントと分散剤との混合液にMgO粉末を添加するステップと、前記MgO粉末が添加された前記ソルベントと分散剤の混合液をミーリングすることにより第1溶液を形成するステップと、カップリングエージェントを含む第2溶液を形成するステップと、前記第1溶液と前記第2溶液とをミーリングするステップと、を含む。
前記第2溶液はソルベントを更に含む。
前記MgO粉末の重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下である。
前記カップリングエージェントの重量比は、全体分散溶液の重量比を100wt%にする際、50wt%以下である。
前記カップリングエージェントは、チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのである。
前記分散溶液は、チタニウムを更に含む。
前記チタニウムの濃度は0mol%以上5.23mol%以下である。
前記分散溶液は、シリコンを更に含む。
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液製造方法は、カップリングエージェントをソルベントと混合した後、MgO粉末を添加するステップと、ミーリングを行うステップと、を含む。
前記MgO粉末の重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下である。
前記カップリングエージェントの重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下である。
前記カップリングエージェントは、チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのである。
前記分散溶液は、チタニウムを更に含む。
前記チタニウムの濃度は0mol%以上5.23mol%以下である。
本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液は、MgO粉末と、前記MgO粉末の粒子を分散させる分散剤と、流動性を増加させるソルベントと、前記MgO粉末の粒子間の接着力を向上させるカップリングエージェントと、を含む。
前記カップリングエージェントは、チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのである。
前記分散溶液は、チタニウムを更に含む。
前記チタニウムは0mol%以上5.23mol%以下である。
前記カップリングエージェントの重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下である。
前記MgO粉末の重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下である。
本発明の実施形態は添加物の均一な拡散による保護膜の放電特性を向上させる。
本発明の実施形態は保護膜と誘電体層の接着力を向上させる。
以下、本発明に係る具体的な実施形態を添付の図面を参照しつつ説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る保護膜用分散溶液の製造方法を示す図である。本発明の第1実施形態に係る分散溶液の製造方法ではカップリング材が添加物として使われる。
即ち、図1に示すように、本発明の第1実施形態に係る分散溶液は、第1溶液と第2溶液とを混合することによって形成される。第1溶液を形成する過程は、ソルベント(solvent:溶剤)と分散剤とを混合するステップ及びソルベントと分散剤との混合物にMgO粉末を入れてミーリング(milling)するステップを含む。第1溶液には、例えば、バインダ(Binder)を含むことができる。
MgO粉末の重量比は、全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下である。また、保護膜と誘電体層との接着力を向上させるために本発明の第1実施形態に係る保護膜用分散溶液はバインダーを更に含むことができる。
第2溶液を形成する過程はソルベント(solvent)にカップリングエージェント(Coupling Agent:結合剤)を混合するステップ及びソルベントとチタン酸塩との混合物をミーリングするステップを含む。ソルベントはカップリングエージェントの流動性を向上させるためのものであるから第2溶液がカップリングエージェントだけでなされることができる。カップリングエージェントの重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下である。
以後、第1溶液と第2溶液とは互いに混合し、第1溶液と第2溶液との混合物がミーリングされて本発明の第1実施形態に係る保護膜用分散溶液が形成される。
(第2実施形態)
図2は、本発明の第2実施形態に係る保護膜用分散溶液の製造方法を示すものである。図2に示すように、第2実施形態に係る保護膜用分散溶液の製造方法は、カップリングエージェント(Coupling Agent)であるチタン酸塩(Titanate)がソルベント(solvent)と混合されるステップ、カップリングエージェントとソルベントとの混合物にMgO粉末が添加されるステップ及びカップリングエージェント、ソルベント及びMgO粉末の混合物がミーリングされるステップを含む。MgO粉末の重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下である。カップリングエージェントの重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下である。
本発明の第2実施形態に係る保護膜用分散溶液のカップリングエージェントは分散剤の役割も共に遂行する。
本発明の第1実施形態及び第2実施形態に係る分散溶液に含まれたカップリングエージェントとしては、チタニウムをベースにするチタン酸塩、ジルコニウム(Zr)をベースにするジルコン酸塩(Zirconate)、アルミニウム(Al)をベースにするアルミン酸塩(Aluminate)及びシリコンから構成されたシラン(Silane)がある。
本発明の第1実施形態及び第2実施形態に係る分散溶液に含まれたカップリングエージェントはMgO粉末の粒子と粒子との間の接着力及び保護膜と誘電体層との間の接着力を増加させる。
また、第1実施形態及び第2実施例に係る分散溶液が保護膜の放電特性を向上させるためにシリコンやチタニウムを更に含む場合、カップリングエージェントによりシリコンやチタニウムがMgO粉末と均一に混じる。即ち、第1溶液と第2溶液がミーリングにより混合された後、シリコンやチタニウムが添加されるとカップリングエージェントの構造はシリコンやチタニウムを中心にして有機物が連結された構造に変化する。このような構造の液状カップリングにエージェントはMgO粉末粒子間に均一に広まるので、MgO粉末とシリコンやチタニウムが均一に混じる。
図3は、MgOと添加物の組成比に係る放電開始電圧(discharge firing voltage)の変化を示すグラフである。図3に示すように、添加物が添加されていない状態、即ち、Additives/(MgO+Additives)が0である場合における放電開始電圧よりTiOが添加された状態、即ち、TiO/(MgO+TiO)が0.3mol%以下の場合における放電開始電圧が低い。
表1はMgOとTiOの組成比、保護膜の各成分別濃度及びMgとTiの濃度比を表したものである。
表1に示すように、TiOとMgOの組成比(=TiO/(MgO+TiO))が0以上0.3以下の際、Tiの濃度は0mol%以上5.23mol%以下である。本発明の第1実施形態及び第2実施形態による保護膜用分散溶液はカップリングエージェントを含んで添加されるTiが均一に混じるので放電開始電圧を低めることができる。即ち、0mol%以上5.23mol%以下のTiが本発明の第1実施形態または本発明の第2実施形態による分散溶液に含まれた際、放電開始電圧が低くなる。
表2は、本発明の第1実施形態及び第2実施形態によって20wt%のチタネート添加の際、約3mol%のチタニウムが添加されるが、従来のE−Beam蒸着法ではTiが添加されない。したがって、本発明の第1実施形態及び第2実施形態による分散溶液は従来のE−Beam蒸着法により形成された保護膜より優れる放電特性を有する。
図4aは、カップリングエージェントのない保護膜の断面を示す図である。図4bは、本発明の第1実施形態及び第2実施形態による保護膜用分散溶液を利用して形成された 保護膜の断面を示す図である。
図4aに示すように、カップリングエージェントが混合されていない場合、保護膜と誘電層との接着力及び表面均一性(uniformity)がよくない。一方、本発明の第1実施形態及び第2実施形態による保護膜用分散溶液はカップリングエージェントを含んでいるので、図4bに示すように、保護膜と誘電体層との接着力及び表面均一性が良い。これによって、誘電体層上に薄膜の保護膜コーティングが可能である。
本発明の第1実施形態による保護膜用分散溶液の製造方法を示す図である。 本発明の第2実施形態による保護膜用分散溶液の製造方法を示す図である。 MgOと添加物の組成比による放電開始電圧(discharge firing voltage)の変化を示すグラフである。 カップリングエージェントのない保護膜の断面を示す図である。 本発明の第1実施形態及び第2実施形態による保護膜用分散溶液を利用して形成された保護膜の断面を示す図である。

Claims (20)

  1. プラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液製造方法であって、 ソルベントと分散剤の混合液にMgO粉末を添加するステップと、
    前記MgO粉末が添加された前記ソルベントと分散剤との混合液をミーリングすることにより第1溶液を形成するステップと、
    カップリングエージェントを含む第2溶液を形成するステップと、
    前記第1溶液と前記第2溶液とをミーリングするステップと、
    を含むことを特徴とする分散溶液製造方法。
  2. 前記第2溶液はソルベントを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  3. 前記MgO粉末の重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  4. 前記カップリングエージェントの重量比は全体分散溶液の重量比を100wt%にする際、50wt%以下であることを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  5. 前記カップリングエージェントは、
    チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのであることを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  6. 前記分散溶液は、
    チタニウムを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  7. 前記チタニウムの濃度は0mol%以上5.23mol%以下であることを特徴とする請求項6に記載の分散溶液製造方法。
  8. 前記分散溶液は、
    シリコンを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の分散溶液製造方法。
  9. プラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液製造方法であって、
    カップリングエージェントをソルベントと混合した後、MgO粉末を添加するステップと、
    ミーリングを行うステップと、
    を含むことを特徴とする分散溶液製造方法。
  10. 前記MgO粉末の重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下であることを特徴とする請求項9に記載の分散溶液製造方法。
  11. 前記カップリングエージェントの重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下であることを特徴とする請求項9に記載の分散溶液製造方法。
  12. 前記カップリングエージェントは、
    チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのであることを特徴とする請求項9に記載の分散溶液製造方法。
  13. 前記分散溶液は、
    チタニウムを更に含むことを特徴とする請求項9に記載の分散溶液製造方法。
  14. 前記チタニウムの濃度は0mol%以上5.23mol%以下であることを特徴とする請求項13に記載の分散溶液製造方法。
  15. プラズマディスプレイパネルの保護膜を形成するための分散溶液であって、
    MgO粉末と、
    前記MgO粉末の粒子を分散させる分散剤と、
    流動性を増加させるソルベントと、
    前記MgO粉末の粒子間の接着力を向上させるカップリングエージェントと、
    を含むことを特徴とする分散溶液。
  16. 前記カップリングエージェントは、
    チタン酸塩、ジルコン酸塩、アルミン酸塩及びシラン中、少なくとも1つのであることを特徴とする請求項15に記載の分散溶液。
  17. 前記分散溶液は、チタニウムを更に含むことを特徴とする請求項15に記載の分散溶液。
  18. 前記チタニウムは0mol%以上5.23mol%以下であることを特徴とする請求項17に記載の分散溶液。
  19. 前記カップリングエージェントの重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、50wt%以下であることを特徴とする請求項15に記載の分散溶液。
  20. 前記MgO粉末の重量比は全体分散溶液の重量を100wt%にする際、5wt%以上10wt%以下であることを特徴とする請求項15に記載の分散溶液。
JP2005362636A 2004-12-16 2005-12-16 分散溶液及び分散溶液の製造方法 Pending JP2006173129A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040107434A KR100705289B1 (ko) 2004-12-16 2004-12-16 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막 형성방법 및 그 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006173129A true JP2006173129A (ja) 2006-06-29

Family

ID=35952020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005362636A Pending JP2006173129A (ja) 2004-12-16 2005-12-16 分散溶液及び分散溶液の製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20060130705A1 (ja)
EP (1) EP1671935A1 (ja)
JP (1) JP2006173129A (ja)
KR (1) KR100705289B1 (ja)
CN (1) CN1808669A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006225240A (ja) * 2005-02-21 2006-08-31 Ube Material Industries Ltd 酸化マグネシウム微粒子分散液

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4850107B2 (ja) * 2007-03-28 2012-01-11 宇部マテリアルズ株式会社 酸化アルミニウム含有酸化マグネシウム焼成物粉末
JP2009253790A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Panasonic Corp 操作記録同時再生システム
JP5012698B2 (ja) * 2008-06-30 2012-08-29 パナソニック株式会社 プラズマディスプレイパネル用金属酸化物ペースト及びプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2010015699A (ja) * 2008-07-01 2010-01-21 Panasonic Corp プラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマディスプレイパネル用金属酸化物ペーストの製造方法
US20120009338A1 (en) * 2010-03-26 2012-01-12 Eiji Takeda Method for producing plasma display panel
TWI620774B (zh) * 2013-03-25 2018-04-11 荷蘭Tno自然科學組織公司 奈米複合物,其製造方法,用於電子裝置之障壁結構及含其之oled

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4226739A (en) * 1978-03-10 1980-10-07 Petrolite Corporation Magnesium-containing dispersions by decomposition of MgCO3
JPS5883066A (ja) * 1981-11-12 1983-05-18 Daikin Ind Ltd 非粘着導電性フツ素ゴム塗料
EP0189098B1 (en) * 1985-01-19 1992-05-06 Asahi Glass Company Ltd. Magnesium hydroxide, process for its production and resin composition containing it
JP3282882B2 (ja) * 1993-05-07 2002-05-20 ナミックス株式会社 誘電体保護剤
US6149967A (en) * 1995-10-09 2000-11-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Sol solution and method for film formation
KR100232134B1 (ko) * 1997-03-18 1999-12-01 구자홍 피디피용 산화마그네슘 박막층 형성을위한 페이스트 및 그를 이용한 산화마그네슘 박막층 제조 방법
JP3267247B2 (ja) * 1998-10-21 2002-03-18 三菱マテリアル株式会社 Fpd保護膜用コーティング液及びその調製方法
TW469465B (en) * 1998-12-10 2001-12-21 Mitsubishi Materials Corp Protective film for FPD and manufacture thereof, and FPD using the same
KR100359729B1 (ko) * 1999-02-08 2002-11-04 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 하판 유전체 및 격벽용 유리 조성물
KR100303846B1 (ko) * 1999-06-04 2001-09-24 김순택 플라즈마 디스플레이 패널의 MgO막 형성용 조성물
JP4192642B2 (ja) * 2003-03-20 2008-12-10 三菱マテリアル株式会社 Fpd用保護膜の製造方法
EP1669418A4 (en) * 2003-10-03 2009-07-22 Tateho Kagaku Kogyo Kk SPHERIC COATED MAGNESIUM OXIDE POWDER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME
KR100599704B1 (ko) * 2003-10-21 2006-07-12 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006225240A (ja) * 2005-02-21 2006-08-31 Ube Material Industries Ltd 酸化マグネシウム微粒子分散液

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060068695A (ko) 2006-06-21
US20060130705A1 (en) 2006-06-22
CN1808669A (zh) 2006-07-26
EP1671935A1 (en) 2006-06-21
KR100705289B1 (ko) 2007-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006173129A (ja) 分散溶液及び分散溶液の製造方法
JP3389243B1 (ja) プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法
TW490700B (en) Ink for display panels and manufacturing method of a plasma display panel using the ink
KR19990088205A (ko) 플라즈마디스플레이패널의제조방법및플라즈마디스플레이패널
JP2008140781A (ja) プラズマディスプレイパネル及びその製造方法
JP2007042554A (ja) プラズマディスプレイパネル
JP2007246382A (ja) プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
JP3998900B2 (ja) 絶縁膜形成用塗料及びプラズマ・ディスプレイ・パネルの製造方法
KR20070047075A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막
JP2001279137A (ja) 透明導電膜形成用インク組成物および透明導電膜
JP2005038856A (ja) プラズマディスプレイパネル及びその製造方法
KR100524777B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법
JP2008050252A (ja) 隔壁付きガラス基板の製造方法
JP4017816B2 (ja) プラズマディスプレイの製造方法
KR100763389B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법
JP2005332600A (ja) プラズマディスプレイパネル
JPH1160272A (ja) プラズマディスプレーパネル用誘電体形成材料
JPH07335134A (ja) 誘電体組成物
KR100651008B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 투명유전체 형성용 페이스트조성물
KR100480151B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널
CN100377280C (zh) 抖动补偿等离子显示器
KR20050087483A (ko) 격벽 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 격벽을포함하는 플라즈마 디스플레이 패널
JPS6310843B2 (ja)
KR20050081078A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법
KR20070047076A (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 보호막

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090303

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090728