JPS6310843B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6310843B2
JPS6310843B2 JP55159044A JP15904480A JPS6310843B2 JP S6310843 B2 JPS6310843 B2 JP S6310843B2 JP 55159044 A JP55159044 A JP 55159044A JP 15904480 A JP15904480 A JP 15904480A JP S6310843 B2 JPS6310843 B2 JP S6310843B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
paste
film
compound
insulating film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP55159044A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5782908A (en
Inventor
Yoshimi Kamijo
Mitsuru Kano
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP15904480A priority Critical patent/JPS5782908A/ja
Publication of JPS5782908A publication Critical patent/JPS5782908A/ja
Publication of JPS6310843B2 publication Critical patent/JPS6310843B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶セル等の透明絶縁被膜に係り、
特に液晶セルの下部基板等よりのアルカリイオン
溶出防止膜、基板上に形成された電極層と、液晶
層とを分離する絶縁膜、TN型液晶表示装置等に
おける液晶配向膜、などとして用いられる透明絶
縁被膜を形成するための透明絶縁被膜形成用ペー
ストに関する。 従来、この種の透明絶縁被膜は、SiO2を主成
分とした膜で、真空蒸着法、浸漬法などにより形
成していた。しかし、真空蒸着法は、生産性が悪
るく、設備も大型になりがちであつた。又、浸漬
法は、不必要な箇所にも被膜が形成され、パター
ンの微細化に対応できない欠点があつた。 これらの欠点を解消するため、スクリーン印刷
法により基板上等にペーストを所望形状に印刷
し、焼成して透明絶縁被膜を形成する方法が試み
られているが、形成された被膜は、もろく、ポー
ラスであることが多く、被膜自体の特性は、真空
蒸着法、浸漬法により形成された被膜より劣つて
いた。 又、液晶セルなどに使用されている透明電極材
料に、In−Sn系酸化物被膜を用いた場合、外部
からの光が電極部分で反射し、表示装置が非点燈
時にでも、見る角度により電極が見えてしまう欠
点があつた。 本発明は、従来の欠点を解消し、緻密で、被膜
強度大、電気絶縁性良好、さらに外部光の電極反
射防止効果大であるスクリーン印刷法にて形成可
能な絶縁被膜を提供する目的でなされたものであ
る。 本発明の特徴は、有機チタン化合物と、有機ア
ルミニウム化合物と、有機ジルコニウム化合物と
の混合物を有機溶媒に溶解し、粘性剤を添加混合
し、ペースト化し、スクリーン印刷法により絶縁
被膜を形成可能ならしめたことにある。即ち、被
膜に外部光の電極反射防止効果をもたらすTiO2
と、ガラス等の絶縁基板との密着性を高める
Al2O3と、ペーストの成膜性、印刷性を良くする
ZrO2とを混合し、ペースト化する事により、得
られる被膜の特性の向上を計つたことにある。 透明絶縁被膜をスクリーン印刷法にて形成可能
ならしめるためには、チタン化合物、アルミニウ
ム化合物、ジルコニウム化合物が、高沸点(180
℃以上)有機溶媒に安定に溶解する必要があり、
かつ、ペーストの焼成温度450〜700℃で完全に酸
化物となるものでなければならず、テトラオクチ
レングリコールチタネート(TOG)等の有機チ
タン化合物、トリスアセチルアセトナートアルミ
ニウム(Al(acac)3)等の有機アルミニウム化合
物、テトラアセチルアセトナートジルコニウム
(Zr(acac)4)等の有機ジルコニウム化合物が該
当する。ペースト作成に、必要な有機溶媒として
は、これら有機金属化合物の混合物に反応性が乏
しく、沸点が180〜350℃である必要があり、ベン
ジルアルコール、ジプロピレングリコール、2エ
チルヘキサノール等の高沸点アルコール類、ベン
ジルアセテート、カルビトールアセテート等の高
沸点エステル類、ブチルセロソルブなどの高沸点
エーテル類、などの高沸点有機溶媒が適用でき、
二種以上の溶媒を混合使用してよい。又粘性剤と
しては、前記有機溶媒に対する溶解能がよく、焼
成温度である450〜700℃で完全に熱分解するもの
でなくてはならない。この条件を満たすものとし
て、エチルセルローズ、ニトロセルローズ等のセ
ルローズ系粘性剤が適用できる。 本発明ペーストを、スクリーン印刷により、ガ
ラス基板等の絶縁基板上に塗布し、焼成して得ら
れる絶縁被膜は、緻密で、被膜強度大、電気絶縁
性良好、さらに外部光の電極反射防止効果大であ
つた。 以上実施例をもとに、本発明をさらに詳しく説
明する。 実施例 有機チタン化合物として、テトラオクチレング
リコールチタネート(TOG)、有機アルミニウム
化合物として、トリスアセチルアセトナールアル
ミニウム(Al(acac)3)、有機ジルコニウム化合
物としてテトラアセチルアセトナートジルコニウ
ム(Zr(acac)4)を用い、これら有機金属化合物
の混合比を変え、下記の組成によりペーストを作
成した。 金属部(TOG+Al(acac)3+Zr(acac)4)5wt% 溶媒部(ブチルセロソルブ) 83wt% 粘性剤(エチルセルローズ) 12wt% 又、金属部として、有機シリコン化合物V−
5000のみを用いてペーストを作成し、比較例とし
た。 作成したペーストを、ステン250メツシユ、レ
ジスト厚10μmのスクリーン版を用いて、ソーダ
ガラス絶縁基板上に印刷し、150℃で15分間予備
乾燥し、500℃で30分間焼成し、被膜を形成した。
第1表は、これら被膜の特性比較結果である。
【表】 ×:不良 ○:良好 ◎:極めて良好
本発明ペーストは、成膜性良く、さらに、第1
表よりわかるように、得られる被膜は、密着強度
良好、絶縁性良く、又、銀白色透明であるので、
外部光の電極反射防止効果大で、液晶表示素子用
透明絶縁膜として好適なものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 酸素の直接結合した有機チタン化合物と、有
    機アルミニウム化合物と、有機ジルコニウム化合
    物との混合物を有機溶媒に溶解し、さらに粘性剤
    を添加混合して得られる透明絶縁被膜形成用ペー
    スト。
JP15904480A 1980-11-12 1980-11-12 Transparent insulating film and transparent insulating film forming paste Granted JPS5782908A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15904480A JPS5782908A (en) 1980-11-12 1980-11-12 Transparent insulating film and transparent insulating film forming paste

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15904480A JPS5782908A (en) 1980-11-12 1980-11-12 Transparent insulating film and transparent insulating film forming paste

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5782908A JPS5782908A (en) 1982-05-24
JPS6310843B2 true JPS6310843B2 (ja) 1988-03-09

Family

ID=15684997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15904480A Granted JPS5782908A (en) 1980-11-12 1980-11-12 Transparent insulating film and transparent insulating film forming paste

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5782908A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0543823U (ja) * 1991-11-12 1993-06-15 ヤンマー農機株式会社 キヤビンの密閉構造

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5240354A (en) * 1975-09-26 1977-03-29 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Display unit in which electrooptical fluid is filled

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5240354A (en) * 1975-09-26 1977-03-29 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Display unit in which electrooptical fluid is filled

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0543823U (ja) * 1991-11-12 1993-06-15 ヤンマー農機株式会社 キヤビンの密閉構造

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5782908A (en) 1982-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4266335A (en) Method of producing electrochromic display device
JP3338966B2 (ja) 透明導電膜形成用塗布液
JPS6310843B2 (ja)
JPS6310844B2 (ja)
JPS6350385B2 (ja)
JPS6159351B2 (ja)
JPS635742B2 (ja)
JPS6159352B2 (ja)
JPS60137818A (ja) 透明導電膜形成用組成物
JPS6116130B2 (ja)
JPS6148589B2 (ja)
JPS6048742B2 (ja) 液晶セル基板とその製造方法
JPS61215668A (ja) 透明絶縁被膜形成用ペースト
JPH0120412B2 (ja)
JPH0225490B2 (ja)
JPS6148587B2 (ja)
JPS5933702A (ja) 透明導電性被膜形成用ペ−スト
JPH0144788B2 (ja)
JPS5927963A (ja) 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜
JPS5927965A (ja) 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜
JPS6148588B2 (ja)
JPS61113772A (ja) 透明導電膜形成用組成物
JPS6290621A (ja) 透明絶縁被膜および透明絶縁被膜形成液
JPS58135155A (ja) 透明被膜形成用ペ−スト
JPS6048741B2 (ja) 液晶セル基板及びその製造方法