JPS5927963A - 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 - Google Patents
透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜Info
- Publication number
- JPS5927963A JPS5927963A JP13789582A JP13789582A JPS5927963A JP S5927963 A JPS5927963 A JP S5927963A JP 13789582 A JP13789582 A JP 13789582A JP 13789582 A JP13789582 A JP 13789582A JP S5927963 A JPS5927963 A JP S5927963A
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- JP
- Japan
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- paste
- compound
- transparent film
- compd
- organozinc
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラスやセラミックなどの基板上に形成され
る透明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくはその透明被
膜が酸化亜鉛−酸化ケイ素からなる透明被膜に関するも
のである。
る透明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくはその透明被
膜が酸化亜鉛−酸化ケイ素からなる透明被膜に関するも
のである。
酸化亜鉛−酸化ケイ素からなる透明金属酸化物波++i
の形成方法には、真空蒸着法、化学スプレー法ならびに
浸漬法などがある。ところで前記真空蒸着法は形成され
る被膜の特性は優わているが、量産性に問題があり、ま
たパターン化に対応するためにはエツチングなどの処理
が必要であった。
の形成方法には、真空蒸着法、化学スプレー法ならびに
浸漬法などがある。ところで前記真空蒸着法は形成され
る被膜の特性は優わているが、量産性に問題があり、ま
たパターン化に対応するためにはエツチングなどの処理
が必要であった。
一方、化学スプレー法ならびに浸漬法は比較的量産に適
しているが、パターン化対応については前者と同様の問
題がある。このように従来の方法では一長一短があり、
必ずしも優ねた方法とは言い難い。
しているが、パターン化対応については前者と同様の問
題がある。このように従来の方法では一長一短があり、
必ずしも優ねた方法とは言い難い。
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
量産性に優わたスクリーン印刷が可能で、被膜特性の良
好な透明被膜形成用ペーストならびにそのペース)l用
いて形成した透明被膜な提供するにある。
量産性に優わたスクリーン印刷が可能で、被膜特性の良
好な透明被膜形成用ペーストならびにそのペース)l用
いて形成した透明被膜な提供するにある。
この目的を達成するため、本発明は、焼成によって酸化
亜鉛−酸化ケイ素の被膜を形成する化合物で有機溶剤に
可溶な有機亜鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物と、増
粘剤と、こねら有機亜鉛化合物、有機ケイ素化合物なら
びに増粘剤な溶解する有機溶剤とな混線して透明被膜形
成用ペーストとすることを特徴とするものである。
亜鉛−酸化ケイ素の被膜を形成する化合物で有機溶剤に
可溶な有機亜鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物と、増
粘剤と、こねら有機亜鉛化合物、有機ケイ素化合物なら
びに増粘剤な溶解する有機溶剤とな混線して透明被膜形
成用ペーストとすることを特徴とするものである。
前記目的を達成するため、さらに本発明は、焼成によっ
て酸化亜鉛−酸化ケイ素の被膜な形成する化合物で有機
溶剤に可溶な有機亜鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物
と、増粘剤と、こわら有機亜鉛化合物、有機ケイ素化合
物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤とを混練したペー
ストを基板上に塗布し、焼成して酸化亜鉛−酸化ケイ素
の透明被膜としたことを特徴とするものである。
て酸化亜鉛−酸化ケイ素の被膜な形成する化合物で有機
溶剤に可溶な有機亜鉛化合物ならびに有機ケイ素化合物
と、増粘剤と、こわら有機亜鉛化合物、有機ケイ素化合
物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤とを混練したペー
ストを基板上に塗布し、焼成して酸化亜鉛−酸化ケイ素
の透明被膜としたことを特徴とするものである。
本発明に用いられる前記有機亜鉛化合物としては、オク
チル酸亜鉛が好適である。
チル酸亜鉛が好適である。
また本発明に用いられる前記有機ケイ素化合物としては
、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シランが好適
である。
、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シランが好適
である。
さらに本発明に用いもねる増粘剤としては、ニトロセル
ロースやエチルセルロースなどのセルロース化合物が好
適である。
ロースやエチルセルロースなどのセルロース化合物が好
適である。
前記有機亜鉛化合物、有機ケイ素化合物ならびに増粘剤
な溶解する有機溶剤としては、ターピネオール、2−エ
チルヘキサノール、ベンジルアルコールなどの高沸点ア
ルコール類、ベルジルアセデート、ジメチルフタレート
などの高沸点エステル類、カルピトール、ブチルカルピ
トール、ブチルセロソルブなどの高沸点アルコールエー
テル類などが用いられる。
な溶解する有機溶剤としては、ターピネオール、2−エ
チルヘキサノール、ベンジルアルコールなどの高沸点ア
ルコール類、ベルジルアセデート、ジメチルフタレート
などの高沸点エステル類、カルピトール、ブチルカルピ
トール、ブチルセロソルブなどの高沸点アルコールエー
テル類などが用いられる。
有機亜鉛化合物と有機ケイ素化合物と増粘剤と有機溶剤
とを所定の割合に混合してペーストをつくり、所望の形
状にパターン化されたスクリーン版を用いて前記ペース
トケガラスやセラミックなどの基板上にスクリーン印刷
する。こ灼を予備乾燥後に約400℃以上の温度で焼成
することにより、酸化亜鉛−酸化ケイ素の祷明彼膜が所
望のパターンに形成さ罎する。この被膜は透明であるこ
とは勿論、膜強度が犬で、比較的高い絶縁性シ有してい
る。また、ペースト中の有機亜鉛化合物と有機ケイ素化
合物のトータル量を適当にコントロールすることにより
、4000°A以下の被膜を自由に形成することができ
る。
とを所定の割合に混合してペーストをつくり、所望の形
状にパターン化されたスクリーン版を用いて前記ペース
トケガラスやセラミックなどの基板上にスクリーン印刷
する。こ灼を予備乾燥後に約400℃以上の温度で焼成
することにより、酸化亜鉛−酸化ケイ素の祷明彼膜が所
望のパターンに形成さ罎する。この被膜は透明であるこ
とは勿論、膜強度が犬で、比較的高い絶縁性シ有してい
る。また、ペースト中の有機亜鉛化合物と有機ケイ素化
合物のトータル量を適当にコントロールすることにより
、4000°A以下の被膜を自由に形成することができ
る。
次に本発明の実施例について説明する。
有機亜鉛化合物としてオクチル酸亜鉛を有機ケイ素化合
物としてビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン
な用い、こわら有機化合物の混合比な種々変えて次のよ
うな組成のペースi−作成した。
物としてビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン
な用い、こわら有機化合物の混合比な種々変えて次のよ
うな組成のペースi−作成した。
〔有機化合物〕 5重量%(X十Y=1
00) 〔増粘剤〕 14重量係ニトロセルロ
ース 14重量% 〔有機溶剤〕 81重量%ブチルセロソ
ルブ 405重量%ブチルカルピトール 4
0.5重量%また、比較のため有機化合物としてオクチ
ル酸亜鉛ならびにビニルトリス(2−メトキシエトキシ
)シランをそわぞれ単独に用いて同様にペーストを作成
した。
00) 〔増粘剤〕 14重量係ニトロセルロ
ース 14重量% 〔有機溶剤〕 81重量%ブチルセロソ
ルブ 405重量%ブチルカルピトール 4
0.5重量%また、比較のため有機化合物としてオクチ
ル酸亜鉛ならびにビニルトリス(2−メトキシエトキシ
)シランをそわぞれ単独に用いて同様にペーストを作成
した。
こねら各ペースト?<、250メツシユでレジスト厚l
Oμmのステンレスネットからなるスクリーン版な用い
てソーダガラス基板上に印刷する。
Oμmのステンレスネットからなるスクリーン版な用い
てソーダガラス基板上に印刷する。
そして150℃で15分間予備乾燥し、引き続き500
℃で30分間焼成してそわそわ透明金属酸化物被膜な形
成する。
℃で30分間焼成してそわそわ透明金属酸化物被膜な形
成する。
この各透明被膜の膜特性な調べた結果な次の表に示す。
なお表中のO印は良好、Δ印はやや悪い。
X印は悪いと判断したものを示す。また膜強度はペンシ
ル型ひつかき試験な用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率な示す。
ル型ひつかき試験な用いて調べ、光透過率は可視部での
最小光透過率な示す。
表
この表から明らかなように、本発明のように有機溶剤に
可溶な有機亜鉛化合物と有機ケイ素化合物とな含むペー
ストを用いて形成された透明金属酸化物被膜は、膜厚が
比較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高
い電気絶縁性を有【7でいる。また本発明のペースl用
いたものは、スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が非
常にき第1いである。
可溶な有機亜鉛化合物と有機ケイ素化合物とな含むペー
ストを用いて形成された透明金属酸化物被膜は、膜厚が
比較的厚くても可視部の最小光透過率が高く、しかも高
い電気絶縁性を有【7でいる。また本発明のペースl用
いたものは、スクリーン印刷性が良好で、印刷表面が非
常にき第1いである。
ペースト中における有機亜鉛化合物と有機ケイ素化合物
とのトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の
有無について検討した結果、前記トータル含有率が10
重1%を越えるとクラックの発生がある。一方、トータ
ル含有率が2重置チ未満では少量過ぎて被膜の形成がほ
とんど不可能である。従ってペースト中における有機亜
鉛化合物と有機ケイ素化合物とのトータル含有゛率り約
2〜10重量%の範囲に規制すわば、膜厚500’A〜
4000’Aの美[2い透明金属酸化物被膜が形成され
る。
とのトータル含有率と形成された被膜のクラック発生の
有無について検討した結果、前記トータル含有率が10
重1%を越えるとクラックの発生がある。一方、トータ
ル含有率が2重置チ未満では少量過ぎて被膜の形成がほ
とんど不可能である。従ってペースト中における有機亜
鉛化合物と有機ケイ素化合物とのトータル含有゛率り約
2〜10重量%の範囲に規制すわば、膜厚500’A〜
4000’Aの美[2い透明金属酸化物被膜が形成され
る。
本発明は前述のような構成になっており、量産に適した
スクリーン印刷カー可能で、)くターンイヒb1容易な
透明被膜形成用ベニストならびに膜厚/1(比較的厚く
ても光透過率ならびに絶縁性の高〜・透明被膜を形成す
ることができる。
スクリーン印刷カー可能で、)くターンイヒb1容易な
透明被膜形成用ベニストならびに膜厚/1(比較的厚く
ても光透過率ならびに絶縁性の高〜・透明被膜を形成す
ることができる。
54
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)、焼成によって酸化亜鉛−酸化ケイ素の被膜な形
成する化合物で有機溶剤に可溶な有機亜鉛化合物ならび
に有機ケイ素化合物と、増粘剤と、前記有機亜鉛化合物
、有機ケイ素化合物ならびに増粘剤な溶解する有機溶剤
とからなることを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 (2、特許請求の範囲第(11項記載において、前記有
機亜鉛化合物が、オクチル酸亜鉛であることを特徴とす
る透明被膜形成用ペースト。 (3)、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記
有機ケイ素化合物が、ビニルトリス(2−メトキシエト
キシ)シランであることを特徴とする透明被膜形成用ペ
ースト。 (4)、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記
増粘剤がセルロース化合物であることな特徴とする透明
被膜形成用ペースト。 (5)、特許請求の範囲第(1)項記載において、前記
有機亜鉛化合物および有機ケイ素化合物のペースト中に
おけるトータル含有率が約2〜10重量チの範囲に規制
されていることを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 (6)、焼成によって酸化亜鉛−酸化ケイ素の被膜を形
成する化合物で有機溶剤に可溶な有機亜鉛化合物ならび
に有機ケイ素化合物と、増粘剤と、前記有機亜鉛化合物
、有機ケイ素化合物ならびに増粘剤を溶解する有機溶剤
とを混練したペーストを基板上に塗布し、焼成して酸化
亜鉛−酸化ケイ素の被膜を形成したことを特徴とする透
明被膜。 (7)、特許請求の範囲第(6)項記載において、前記
有機亜鉛化合物および有機ケイ素化合物のペースト中に
おけるトータル含有率が約2〜10重量%のN@囲に規
制さねていることな特徴とする透明被膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13789582A JPS5927963A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13789582A JPS5927963A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5927963A true JPS5927963A (ja) | 1984-02-14 |
Family
ID=15209179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13789582A Pending JPS5927963A (ja) | 1982-08-10 | 1982-08-10 | 透明被膜形成用ペ−ストおよび透明被膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5927963A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5638472A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | Formation of silica coating |
-
1982
- 1982-08-10 JP JP13789582A patent/JPS5927963A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5638472A (en) * | 1979-09-06 | 1981-04-13 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | Formation of silica coating |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62278147A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 絵付けされている公衆電話ボツクス用強化ガラス板の製造方法 |
JPH03126642A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | 機能薄膜付ガラスの製造方法 |
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