JPS5899143A - 透明被膜形成用ペ−スト - Google Patents
透明被膜形成用ペ−ストInfo
- Publication number
- JPS5899143A JPS5899143A JP19762881A JP19762881A JPS5899143A JP S5899143 A JPS5899143 A JP S5899143A JP 19762881 A JP19762881 A JP 19762881A JP 19762881 A JP19762881 A JP 19762881A JP S5899143 A JPS5899143 A JP S5899143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- paste
- org
- film
- compound
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス、セラミックス等の基板上に形成する透
明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくは該透明被膜が酸
化セリウムＣｅ、０．である透明金属酸化物被膜に関す
る。
明金属酸化物被膜に係り、更に詳しくは該透明被膜が酸
化セリウムＣｅ、０．である透明金属酸化物被膜に関す
る。
一般にＣａ、Ｏ，透明被膜の形成方法は、真空蒸着法、
化学スプレー法、浸漬法が主である。真空蒸着法は形成
される被膜特性は優れてい４が、蓋産性に問題があり、
又、パターン化に対応する為には更にエツチング等の処
理を施す必要があった。
化学スプレー法、浸漬法が主である。真空蒸着法は形成
される被膜特性は優れてい４が、蓋産性に問題があり、
又、パターン化に対応する為には更にエツチング等の処
理を施す必要があった。
一方、化学スプレー法、浸漬法では鰍産性に問題はない
がＮパターン化については前者と同様の問題がある。こ
の様に、従来方法では一長一短があり、必ずしも優れた
方法とは言い麺い。
がＮパターン化については前者と同様の問題がある。こ
の様に、従来方法では一長一短があり、必ずしも優れた
方法とは言い麺い。
本発明は、スクリーン印刷が可能で、焼成によってＣｓ
、０．被膜が形成できる印刷ペーストを提供する為にな
されたもので、焼成によってＣｅ、０．被膜を形成する
化合物で、有機溶媒に可溶な有機鉛化合物をペースト中
に含有することを特徴とする。
、０．被膜が形成できる印刷ペーストを提供する為にな
されたもので、焼成によってＣｅ、０．被膜を形成する
化合物で、有機溶媒に可溶な有機鉛化合物をペースト中
に含有することを特徴とする。
すなわち、前記有機セリウム化合物と有機溶剤と粘性剤
とでペーストを構成する。前記有機セリウム化合物とし
ては化学的に安定な例えばトリスアセチルアセトデート
セリウム（履） ［Ｃｅ （ａｃａｃ”）１）が好適で
ある。また、有機セリウム化合物を溶解させる有機溶剤
としては、ターピネオール、２−エチルへキサノール。
とでペーストを構成する。前記有機セリウム化合物とし
ては化学的に安定な例えばトリスアセチルアセトデート
セリウム（履） ［Ｃｅ （ａｃａｃ”）１）が好適で
ある。また、有機セリウム化合物を溶解させる有機溶剤
としては、ターピネオール、２−エチルへキサノール。
ベンジルアルコール等の高沸点アルコ−８Ｌベンジルア
セテート、ジメチル７タレート等の高沸点エステル類、
カルピトール、ブチルカルピトール、ブチルセロソルブ
等の高沸点アルコールエーテル拳等の高沸点有機溶剤が
用いられ、粘性剤としてニトロセルロース、エチルセル
ローズ等のセルロース化合物６１使用されるＯ このようにして作られたペーストを使用し、所望の形状
にパターン化されたスクリーン版を用し）でスクリーン
印刷し、予備乾燥後４００℃以上の１度で焼成するとＣ
ｅ１Ｏ，ｒｓ明被被膜所望の形状に形成される。この被
膜４ま透明であることは勿論、１１１強度が大で、比較
的高い絶縁性を有する。又、ペースト中に含有するＣｅ
（ａｃａｃ）ｓ Ｉｌｌ ｆｒ４当にコントロールす
ることで任意の厚さの被膜を自由に形成することができ
る。
セテート、ジメチル７タレート等の高沸点エステル類、
カルピトール、ブチルカルピトール、ブチルセロソルブ
等の高沸点アルコールエーテル拳等の高沸点有機溶剤が
用いられ、粘性剤としてニトロセルロース、エチルセル
ローズ等のセルロース化合物６１使用されるＯ このようにして作られたペーストを使用し、所望の形状
にパターン化されたスクリーン版を用し）でスクリーン
印刷し、予備乾燥後４００℃以上の１度で焼成するとＣ
ｅ１Ｏ，ｒｓ明被被膜所望の形状に形成される。この被
膜４ま透明であることは勿論、１１１強度が大で、比較
的高い絶縁性を有する。又、ペースト中に含有するＣｅ
（ａｃａｃ）ｓ Ｉｌｌ ｆｒ４当にコントロールす
ることで任意の厚さの被膜を自由に形成することができ
る。
本発勢のＣｅ、Ｏ，−７３明被膜及びＣｅ２Ｏ，透明被
膜形成用ペーストは従来のものと若干性質が異なり、づ
いて詳しく説明する。
膜形成用ペーストは従来のものと若干性質が異なり、づ
いて詳しく説明する。
実施例 １
アセチルアセトンの配位したトリスアセチルアセトナー
トセリウム〔Ｃｅ（ａｃａｃ）、’Ｊに、ベンジルアセ
テート；プチルカルバゾール：プチルセロソルブ−５：
３：２の割合に混合した混合有暢溶媒、粘性剤としてニ
トロセルローズを１５ｗｔ１ｍ加してペースト粘度８α
ｏｏｏｃｐとし、最終的にＣｅ（ａｃａｃ） 、の含有
量をペースト全ｔに対し、１〜３ｏｗｔｓとなる様に１
４１￥１！シ、夫々ペーストを作成した。このペースト
を用いてステンレスネット２５０メツシユのスクリーン
版で、ソーダガラス基板上にスクリーン印刷し、１５０
℃で２０分間予備乾憧後１．５００℃で３０分間焼成し
て、それぞれの被膜の膜厚及びその他の特性を調べ、そ
の結果を次の表に示す。なお表中のＸ印は悪いと判断さ
れたもの、Δ印はやや悪いと判断されたもの、０印は良
いと判断されたもの、−印は測定不ｉ］能なものをそれ
ぞれ示す。また、光透過率（可視部ｍｉｎ、）ハ、波長
が３８０−８００℃ｍのうち、最低の透過率のものを示
している。
トセリウム〔Ｃｅ（ａｃａｃ）、’Ｊに、ベンジルアセ
テート；プチルカルバゾール：プチルセロソルブ−５：
３：２の割合に混合した混合有暢溶媒、粘性剤としてニ
トロセルローズを１５ｗｔ１ｍ加してペースト粘度８α
ｏｏｏｃｐとし、最終的にＣｅ（ａｃａｃ） 、の含有
量をペースト全ｔに対し、１〜３ｏｗｔｓとなる様に１
４１￥１！シ、夫々ペーストを作成した。このペースト
を用いてステンレスネット２５０メツシユのスクリーン
版で、ソーダガラス基板上にスクリーン印刷し、１５０
℃で２０分間予備乾憧後１．５００℃で３０分間焼成し
て、それぞれの被膜の膜厚及びその他の特性を調べ、そ
の結果を次の表に示す。なお表中のＸ印は悪いと判断さ
れたもの、Δ印はやや悪いと判断されたもの、０印は良
いと判断されたもの、−印は測定不ｉ］能なものをそれ
ぞれ示す。また、光透過率（可視部ｍｉｎ、）ハ、波長
が３８０−８００℃ｍのうち、最低の透過率のものを示
している。
以上の結果より、Ｃｅ （ａｃａｃ） 、含有率を１０
〜１５Ｗｔ−とすると、透明度良好で、膜強度ならびに
電気絶縁性が大なる被膜を自由に形成できることがわか
る。
〜１５Ｗｔ−とすると、透明度良好で、膜強度ならびに
電気絶縁性が大なる被膜を自由に形成できることがわか
る。
実施例 ２
有機溶媒に、ペンジルアルフール：ターピネオール−２
：１の混合溶剤、粘性剤にエチルセルローズ（１２Ｗｔ
優）を用い、ペースト粘度８０．０００ｃｐに調製し、
実施例１と同様の実験を行なったが、被膜強度が若干劣
ったことを除いて実施例１とほぼ同様、の結果が得ら０
°た。
：１の混合溶剤、粘性剤にエチルセルローズ（１２Ｗｔ
優）を用い、ペースト粘度８０．０００ｃｐに調製し、
実施例１と同様の実験を行なったが、被膜強度が若干劣
ったことを除いて実施例１とほぼ同様、の結果が得ら０
°た。
本発明は前述のような構成になっており、スクリーン印
刷が可能なペーストを提供することができ、それによっ
て量産に適し、パターン化が容易な透明被膜が得られる
。
刷が可能なペーストを提供することができ、それによっ
て量産に適し、パターン化が容易な透明被膜が得られる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ＩＩ 焼成（よって酸化セリウムの被膜を形成する
化合物で、有機溶媒に可溶な有機セリウム化合物を含有
することを特徴とする透明被膜形成用ペースト。 （１） 特許請求の範囲ＩＣ１１項記載において１前
記有機セリウム化合物がトリスアセチルアセトデートセ
リウムであることを特徴とする透明被膜形成用ペースト
。 （８） 特許請求の範囲第（２）項記載において、前
記トリスアセチルアセトデートセリウムがペース）全置
中に約１０〜ＩＩｓ重量−含有されていることを特徴と
する透明被膜形成用ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19762881A JPS5899143A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | 透明被膜形成用ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19762881A JPS5899143A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | 透明被膜形成用ペ−スト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5899143A true JPS5899143A (ja) | 1983-06-13 |
| JPS6148589B2 JPS6148589B2 (ja) | 1986-10-24 |
Family
ID=16377640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19762881A Granted JPS5899143A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | 透明被膜形成用ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5899143A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10342905B4 (de) * | 2003-09-17 | 2007-06-14 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verwendung einer Suspension für die Herstellung eines korrosionsfesten Überzugs auf einem keramischen Gegenstand und Verfahren zur Herstellung des Überzugs |
| JP2014220225A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-11-20 | 東京応化工業株式会社 | 透明絶縁膜形成用組成物 |
| CN105951178A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-09-21 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种制备立方相三氧化二铈单晶薄膜的方法 |
-
1981
- 1981-12-10 JP JP19762881A patent/JPS5899143A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10342905B4 (de) * | 2003-09-17 | 2007-06-14 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verwendung einer Suspension für die Herstellung eines korrosionsfesten Überzugs auf einem keramischen Gegenstand und Verfahren zur Herstellung des Überzugs |
| JP2014220225A (ja) * | 2013-04-10 | 2014-11-20 | 東京応化工業株式会社 | 透明絶縁膜形成用組成物 |
| CN105951178A (zh) * | 2016-04-29 | 2016-09-21 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种制备立方相三氧化二铈单晶薄膜的方法 |
| CN105951178B (zh) * | 2016-04-29 | 2019-01-18 | 中国工程物理研究院材料研究所 | 一种制备立方相三氧化二铈单晶薄膜的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6148589B2 (ja) | 1986-10-24 |
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