JP2006162452A - 薄膜評価方法及びその装置 - Google Patents
薄膜評価方法及びその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006162452A JP2006162452A JP2004354949A JP2004354949A JP2006162452A JP 2006162452 A JP2006162452 A JP 2006162452A JP 2004354949 A JP2004354949 A JP 2004354949A JP 2004354949 A JP2004354949 A JP 2004354949A JP 2006162452 A JP2006162452 A JP 2006162452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- length
- image
- element distribution
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明は、測定条件を入力するステップ、電子線源から電子線を発生し、収束レンズにより電子線を試料に収束するステップ、結像レンズ系により試料を透過した電子線を拡大して試料の拡大像を結像するステップ、元素分析器により上記試料の元素分布像を取得し、取得した元素分布像を表示するステップ、元素分布像を測長するステップ、及び上記測定条件を補正するステップを含む薄膜評価方法に関する。更に、この評価方法を実施するための評価装置を開示する。
【選択図】図1
Description
Claims (11)
- 測定条件を入力するステップ、電子線源から電子線を発生し、収束レンズにより電子線を試料に収束するステップ、結像レンズ系により試料を透過した電子線を拡大して試料の拡大像を結像するステップ、元素分析器により上記試料の元素分布像を取得し、取得した元素分布像を表示するステップ、元素分布像を測長するステップ、及び上記測定条件を補正するステップを含むことを特徴とする薄膜評価方法。
- 上記元素分布像は,電子線エネルギー損失分光法,エネルギー分散型X線分光法およびカソードルミネッセンス法のいずれかにより取得されることを特徴とする請求項1記載の薄膜評価方法。
- 上記元素分布像に所定の長さを指示する測長マーカならびに測長マーカの長さを示す数値を表示することを特徴とする請求項1記載の薄膜評価方法。
- 前記測長マーカは長さ,傾きを任意に設定可能であることを特徴とする請求項3記載の薄膜評価方法。
- 電子線を発生する電子線源と,前記電子線源から発生した電子線を試料に収束する収束レンズと,試料を透過した電子線を拡大して試料の拡大像を結像する対物レンズを含む複数個の結像レンズ系と、元素分布像が取得可能な分析器と、前記分析器により撮影された元素分布像を表示する画像表示装置と、測定条件を入力する測定条件入力装置と、前記元素分布像を測長する測長手段と、測定条件に従って前記測長手段を補正する測長補正装置とを備えることを特徴とする薄膜評価装置。
- 前記元素分布像は,電子線エネルギー損失分光法,エネルギー分散型X線分光法およびカソードルミネッセンス法のいずれかにより取得されることを特徴とする請求項5記載の薄膜評価装置。
- 前記元素分布像中の任意の二点間距離が測定可能であることを特徴とする請求項5記載の薄膜評価装置。
- 前記画像表示装置は、所定の長さを指示する測長マーカならびに測長マーカの長さを示す数値を表示することを特徴とする請求項5記載の薄膜評価装置。
- 前記画像表示装置に表示された前記測長マーカの長さ及び傾きが任意に設定可能であることを特徴とする請求項8記載の薄膜評価装置。
- 電子線を発生する電子線源と,前記電子線源から発生した電子線を試料に収束する収束レンズと,試料を透過した電子線を拡大して試料の拡大像を結像する対物レンズを含む複数個の結像レンズ系と、元素分布像が取得可能な分析器と、前記分析器により撮影された元素分布像を表示する画像表示装置を備え,前記画像表示装置は、同じ倍率で撮影した試料の拡大像と元素分布像それぞれの測長マーカは同じで,その長さを表す表示値が異なる表示をすることが可能であることを特徴とする薄膜評価装置。
- 前記表示装置は、同じ倍率で撮影した試料の拡大像と元素分布像それぞれの測長マーカの長さを表す表示値は同じで,測長マーカの長さが異なる表示をすることが可能であることを特徴とする請求項10記載の薄膜評価装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004354949A JP5289665B2 (ja) | 2004-12-08 | 2004-12-08 | 薄膜評価方法及びその装置 |
KR1020050118453A KR101234450B1 (ko) | 2004-12-08 | 2005-12-07 | 박막 평가 방법 및 그 장치 |
US11/296,641 US7544935B2 (en) | 2004-12-08 | 2005-12-08 | Method and apparatus for evaluating thin films |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004354949A JP5289665B2 (ja) | 2004-12-08 | 2004-12-08 | 薄膜評価方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006162452A true JP2006162452A (ja) | 2006-06-22 |
JP5289665B2 JP5289665B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=36639318
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004354949A Expired - Fee Related JP5289665B2 (ja) | 2004-12-08 | 2004-12-08 | 薄膜評価方法及びその装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7544935B2 (ja) |
JP (1) | JP5289665B2 (ja) |
KR (1) | KR101234450B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5253800B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 日本電子株式会社 | 試料保持体及び観察・検査方法並びに観察・検査装置 |
JP5216739B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2013-06-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置、及び膜厚測定方法 |
JP6808700B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2021-01-06 | 日本電子株式会社 | 元素マップの生成方法および表面分析装置 |
CN114216917B (zh) * | 2021-11-23 | 2024-04-12 | 长江存储科技有限责任公司 | 测试样品的表征方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5865756U (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-04 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡 |
JPS6157840A (ja) * | 1984-08-29 | 1986-03-24 | Toshiba Corp | 放射線断層検査装置 |
JPS61233949A (ja) * | 1985-04-10 | 1986-10-18 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料像の倍率表示方法および装置 |
JPS62285050A (ja) * | 1986-06-03 | 1987-12-10 | Shimadzu Corp | 試料面走査型分析装置による定量分析法 |
JPH1186771A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-03-30 | Hitachi Ltd | エネルギーフィルタを搭載した透過型電子顕微鏡 |
JP2000515675A (ja) * | 1996-08-07 | 2000-11-21 | ガタン・インコーポレーテッド | エネルギ・フィルタリング透過電子顕微鏡の自動調節 |
JP2000338067A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-12-08 | Jeol Ltd | 表面分析機器による粒子分析方法 |
JP2001307672A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Hitachi Ltd | 元素分析装置及び走査透過型電子顕微鏡並びに元素分析方法 |
JP2003151478A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子エネルギー損失分光装置、及びそれを備えた電子顕微鏡、及び電子エネルギー損失スペクトル測定方法 |
JP2004227942A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Jeol Ltd | 電子分光系を有した電子線装置 |
JP2004288519A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3311491B2 (ja) | 1994-05-20 | 2002-08-05 | 株式会社日立製作所 | X線反射率解析装置 |
WO2003007330A1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-01-23 | Hitachi, Ltd. | Sample electrification measurement method and charged particle beam apparatus |
-
2004
- 2004-12-08 JP JP2004354949A patent/JP5289665B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-12-07 KR KR1020050118453A patent/KR101234450B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-12-08 US US11/296,641 patent/US7544935B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5865756U (ja) * | 1981-10-28 | 1983-05-04 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡 |
JPS6157840A (ja) * | 1984-08-29 | 1986-03-24 | Toshiba Corp | 放射線断層検査装置 |
JPS61233949A (ja) * | 1985-04-10 | 1986-10-18 | Akashi Seisakusho Co Ltd | 試料像の倍率表示方法および装置 |
JPS62285050A (ja) * | 1986-06-03 | 1987-12-10 | Shimadzu Corp | 試料面走査型分析装置による定量分析法 |
JP2000515675A (ja) * | 1996-08-07 | 2000-11-21 | ガタン・インコーポレーテッド | エネルギ・フィルタリング透過電子顕微鏡の自動調節 |
JPH1186771A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-03-30 | Hitachi Ltd | エネルギーフィルタを搭載した透過型電子顕微鏡 |
JP2000338067A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-12-08 | Jeol Ltd | 表面分析機器による粒子分析方法 |
JP2001307672A (ja) * | 2000-04-21 | 2001-11-02 | Hitachi Ltd | 元素分析装置及び走査透過型電子顕微鏡並びに元素分析方法 |
JP2003151478A (ja) * | 2001-11-12 | 2003-05-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子エネルギー損失分光装置、及びそれを備えた電子顕微鏡、及び電子エネルギー損失スペクトル測定方法 |
JP2004227942A (ja) * | 2003-01-23 | 2004-08-12 | Jeol Ltd | 電子分光系を有した電子線装置 |
JP2004288519A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060145075A1 (en) | 2006-07-06 |
KR20060064536A (ko) | 2006-06-13 |
KR101234450B1 (ko) | 2013-02-18 |
JP5289665B2 (ja) | 2013-09-11 |
US7544935B2 (en) | 2009-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10804074B2 (en) | Image processing system and method of processing images | |
US6750451B2 (en) | Observation apparatus and observation method using an electron beam | |
JP4069545B2 (ja) | 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置 | |
JP4399471B2 (ja) | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 | |
TW392071B (en) | Patterned wafer inspection method and apparatus therefor | |
JP4474473B2 (ja) | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 | |
KR101568945B1 (ko) | 슈링크 전 형상 추정 방법 및 cd-sem 장치 | |
JP5315033B2 (ja) | 電子分光器を備えた透過型電子顕微鏡 | |
JP4791333B2 (ja) | パターン寸法計測方法及び走査型透過荷電粒子顕微鏡 | |
JP4337832B2 (ja) | 電子線を用いた観察装置及び観察方法 | |
WO2003038418A1 (fr) | Dispositif d'analyses d'elements, microscope electronique a emission par balayage et procede d'analyses d'elements | |
JP2003249186A (ja) | 走査透過型電子顕微鏡に依る観察方法及び観察装置 | |
JP4006165B2 (ja) | 元素分析装置及び走査透過型電子顕微鏡並びに元素分析方法 | |
KR101234450B1 (ko) | 박막 평가 방법 및 그 장치 | |
US6930306B2 (en) | Electron microscope | |
JP4548432B2 (ja) | 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置 | |
WO2009157358A1 (ja) | 電子分光器を有する透過型電子顕微鏡装置,試料ホルダ,試料台及びスペクトル像の取得方法 | |
JP2000311645A (ja) | 電子顕微鏡 | |
WO2010089960A1 (ja) | 電子線の影響を考慮した半導体検査方法及び装置 | |
JP5397060B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡及び解析方法 | |
JP4895525B2 (ja) | 走査透過電子顕微鏡装置 | |
JP4069785B2 (ja) | 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置 | |
JP2004151119A (ja) | パターン欠陥検査方法および検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071005 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100622 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120606 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130605 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |