JPS6157840A - 放射線断層検査装置 - Google Patents

放射線断層検査装置

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JPS6157840A
JPS6157840A JP59179643A JP17964384A JPS6157840A JP S6157840 A JPS6157840 A JP S6157840A JP 59179643 A JP59179643 A JP 59179643A JP 17964384 A JP17964384 A JP 17964384A JP S6157840 A JPS6157840 A JP S6157840A
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radiation
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attenuation
ray
projection direction
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喜一郎 宇山
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/419Imaging computed tomograph

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は放射線を利用して被検査体断面の像を得てこれ
より被検査体の検査を行なう放射線断層検査装置に関す
るものである@ 〔発明の技術的背景〕 物体の内部欠陥や組成、構造などを非破壊でしかも精度
良く測定できる装置としてコンピュータ・トモグラフィ
・スキャナ(以下、CTスキャナと称する)と呼ばれる
放射線断層検査装置がある。
この装置は例えば放射線源として偏平な扇状に広がるフ
ァンビームX線を曝射する放射線源と、被検体を介して
この放射線源に対峙して配され、前記ファンビームX線
の拡が多方向に複数の放射線検出素子を配した検出器と
を用い、被検体を中心にこの放射線源と検出器を同方向
に例えば1度刻み1800〜360°にわたって順次回
転操作しながら、被検体断層面の多方向からのX線吸収
データを収集したのち、コンピュータ等により画像再構
成処理を施し、断層像を再構成するようにしだもので、
断層面各位置に1    ついて、組成に応じ2000
段階にもわたる階調で画像再構成できるので、断層面の
状態を詳しく知ることができる◎ このようなCTスキャナはいわゆる第3世代と呼ばれる
もので、そのほか、ペンシルビームX線を曝射するX線
餘とこのX線−に対峙して検出器を設け、このX線源と
検出器とを被検査体の断面に沿ってトラバーススキャン
させ、1トラバーススキヤン終了毎に所定角度、回転さ
せて凋びトラバーススキャンを行なういわゆる第1世代
、ペンシルビームXMを幅狭のファンビームX線とし、
検出素子を数素子持たせた検出器を用いてこれらを上記
トラバーススキャン及び回転走査させるようにした第1
世代の改良形とも言うべき、いわゆる第2世代、被検査
体の周囲全周にわたって検出素子を配した検出器と幅広
のファンビームx#sを曝射するX線源とを用い、X線
源のみ回転走査させるいわゆる第4世代など種々の方式
OCTスキャナがある。
ところで、このようなCTスキャナにおいてはX線吸収
データの収集の際のX線源として、一般的にはX線管を
用いる。そして、X線管から放射されるX線にはエネル
ギ分布があるため、X線源と各X線検出素子とを結ぶ各
X線経路(これをX線パスと云う)中の被検体厚によ)
、各X M検出素子の検出データに線質硬化の影響が生
ずる。
すなわち、X線管より放射されるX線は高いエネルギス
ペクトルから低いエネルギスペクトルまでを含んだいわ
ゆる白色X線であシ、一方、この各エネルギスペクトル
のX線のうち、低いエネルギのものは被検体中で大きく
減衰し、高いエネルギのものは減衰率が低いと云う特性
がある。従って、X線/4ス中の被検体厚が厚い場合、
低エネルギスペクトルのX線は大きく減衰して高エネル
ギスペクトル分のX線が残ることになる。これを一般に
線質硬化と云うが、との線質硬化により被検体厚と組成
に応じた減衰を受けたX線が検出されるはずのものが、
体厚の厚い部分を通ったX線の吸収データは本来の値と
異なったものとなる。
そのため、例えば均質な単一組成の材質の円柱体の断層
面をCTスキャナで検査した場合に、均質な濃度の円形
像がCT再構成像として得られるはずのところ、中心領
域側から輪郭部領域へと次第に濃度が変化する像となっ
てしまうなど、不均一な再構成像となる。
これは被検体の検査を行ううえで、誤認を招く原因とな
るので、線質硬化補正(ビームハードニング補正;BH
補正)を施こして画像再構成を行う。
従来においてはとの線質硬化補正は、まず、放射線検出
素子の検出出力(r/ro:但し、IoはX線パス中に
被検体が存在しない場合の検出出力、IはX線)4ス中
に被検体が存在する場合の検出出力)から、各X線・ヤ
ス上でのX11g!の減衰量τe = (tn To/
r )を計算し、これに補正を加えて補正済減衰量τを
計算する。これをBH補正と云う。このときの補正量を
示した特性曲線を第7図に示す。
すなわち、図においてAは単一エネルギスペクトルのX
線による補正曲線でアシ、単一エネルギの場合は線質硬
化の影響が無いので、補正■はリニアとなる。Bはエネ
ルギ分布のおるX線に対する補正曲線であり、減衰量τ
。が大きい、すなわち、被検体透過が大きくなる程、線
質硬化の影響が大きくなるので、この影響分を除くべく
曲線的な特性となる。
この補正曲線は被検体を構成する物質により異なってお
り、通常、被検体の平均的な物質構成により決定される
しかしながら、このような従来方式の場合、補正曲線幻
、被検体の平均的な物質構成に近い曲線を用いて補正す
るので、もともと誤差を含んでおシ、被検体透過厚が厚
くなる程、その影響が大きくあられれることから、線質
硬化補正は不完全なもので’jt=sだ。
従って、均質で円形の被検体を検査した場合、なお、そ
の再構成像は不均一なものとな夛、特にX線透過厚が方
向によって大きく異なる細長1′    い断面を持つ
被検体の場合、その傾向はより顕著なものとなる。
これは、物質(元素)により前記補正を表わす曲線が異
なっているため、部分部分で物質の組成(混合率)が異
彦っているような場合、異なる透過経路について同一の
補正曲線を用いること自体に元来、無理があることに起
因している。
また、もう一つの要因としては上記補正特性曲線の選び
方が不適正であることがあげられる。
特に産業用CTスキャナのように様々な被検体を次々に
検をする場合、その都度、各々の被検体に最適な補正曲
線を求めるだめの基礎的測定を行うことが実質的に不可
能であるため、実際には、いくつか用意した補正曲線の
中から最も良さそうな補正曲線を選んで補市するように
していたことがあげられる。
〔発明の目的〕
本発明は上記の事情に鑑みて成されたもので、最適な線
質硬化補正が実施でき、忠実度の高い再構成像を得るこ
とができるようにした放射線断層検査装置を提供するこ
とを目的とする。
〔発明の概要〕
すなわち、本発明は上記目的を達成するためエネルギ分
布に幅を持つ放射線により、被検体の設定した断層面に
ついてその各方向より投影し、その投影後の放射線を空
間分解能をもって検出することにより前記投影方向毎の
放射線吸収データを得、これら放射線吸収データを用い
て画像再構成処理を行って前記断層面各位置の放射線吸
収率に対応した再構成画像を得る装置において、前記投
影方向毎の放射線吸収データより得られる放射線減衰量
分布の積分値を各々前記投影方向毎に、基準とする投影
方向の前記積分値と比較し、その差に応じて各々投影方
向毎に依存する係数を求める機能、各投影方向の前記積
分値をそれぞれ等しくするための予め設定した放射線減
衰量−補正減衰量特性の関数を前記係数で補正して各投
影方向毎の放射線減衰量−補正減衰量特性の関数を得る
機能、この得た関数を用いて対応する投影方向の放射線
吸収データを補正する機能とを備え九線質硬化補正−〇
+ 手段を設けて成り、との線質硬化補正後の放射線吸収デ
ータにより画像再構成を行うようにしたもので前記投影
方向毎の放射線吸収データより得られる放射線減衰量分
布の積分値を各々前記投影方向においてほぼ等しくする
ための予め設定した放射線減衰量−補正減衰量特性の関
数を用いると共に投影方向毎の前記積分値と基準とする
投影方向の前記積分値との差に応じて各各投影方向毎の
係数を求め、前記関数をこの係数で補正して得た各投影
方向毎の放射線減衰量−補正減衰量特性の関数を用いて
対応する投影方向の放射線吸収データを補正することに
より、投影方向毎に変わる被検体厚による線質硬化の変
化分をその投影方向毎の影響を加味したかたちで補正す
るようにし、これにより最適な線質硬化補正を行りこと
ができるようにして、との線質硬化補正後の放射線吸収
データにより画像再構成を行うことで画質硬化のti+
;譬のない良質の画像を得ることができるようにする。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例について第1図〜第6図を参照
しながら説明する。第1図は本発明による装置の構成を
示すブロック図であシ、とこでは−例として第2世代O
CTスギャナを例にとって示す。図中1は比較的幅狭の
拡がシ角を有するファンビームX線FXを曝射するX線
管であシ、2はこのX線管1に対峙して配されファンビ
ームX線FXの拡がシ幅分にわたシ、複数のX線検出素
子を並設して形成したX線検出器であシ、空間分解能を
もってX線管1からのX線強度を検出できる。3はこれ
らX線管1およびxi検出器2を固定して保持すると共
にこれらをトラバーススキャンさせるだめの並進フレー
ムである。この並進フレーム3には中央にドラパルスス
キャン方向に伸びる長円の孔31が設けられておシ、X
線管1とX線検出器2t31との孔3aを介して対向し
ている。4は中央に孔4aを設けた回転フレームであシ
、リング状を呈していて、この回転フレーム4にガイド
4bを設けると共にこのガイド4bに前記並進フレーム
3を摺動可能に保持させることにより D 転7レーム
4上をこの並進フレーム3はトラバーススキャンできる
ようにしてめる・5は回転フレーム4を保持する固定フ
レームでsb、前記回転フレーム4はこの固定7レーム
5上に回転可能に保持されると共に固定フレーム5に設
けた回転駆動部6により回転フレーム4は回転駆動され
る構成としである。また、回転フレーム4には例えばラ
ックとビニオンを利用した並進駆動機構7が設けられて
おり、この並進駆動機構7により、並進フレーム3をト
ラバ−ススキャンさせることができるようにしである。
8は前記回転フレーム4の中央の孔4mに配された被検
体載置用のテーブルであシ、9はこのテーブル8上の被
検体である。10はデータ収集装置であシ、前記放射線
検出器2の各検出素子の出力をX線曝射毎に所定時間積
分【2、その積分値からxg透過量(X線吸収it)に
対応するデータを得るものである。1ノは中央処理装R
(CPU )でアシ、システム全体の制御を司る。
12は再構成回路であシ、データ収集装置10により収
集されたデータをもとに前記CPU11の制御下で画像
再構成処理を行うものでおる。この再構成回路12は第
2図に示す如く構成されている。
すなわち、12−1は前処理装置でめシ、データ収集装
置10で収集された各プロジェクション(投影方向)毎
のX線吸収データを受けて、とれに対し、対数変換、r
イン補正、オフセット補正等の前処理を施すものである
。12−2はBH補正装置でおシ、前述した補正曲線に
合わせた補正をこの前処理済みのデータに施こしてBH
補正済みデータを得る。12−3はBH補助補正装置で
あシ、前記BH補正装置12−2により補正されたデー
タに対し、更に目的の補正曲線に対応するように補正を
施こす装置である。
ここでBH補助補正について説明しておく。
一般に放射線が単一エネルギの場合、パラレルビーム(
平行X線)により各投影方向力・ら被検体を投影した場
合にそれぞれの減衰蓋分布の積分値は投影方向によらず
一定となる。
この様子を第3図に示す。図中XRはノJ?ラレルビー
ムのX線であシ、30は断面台形状の被検体tDytj
:y軸に平行なパラレルビームX線で投影して得た被検
体30の各投影位置tでの減衰量である。また、DXは
X軸に平行なノfラレルビームX線で投影して得た被検
体3oの各投影位置tでの減衰量であり、y軸方向に投
影した場合と、X軸方向に投影した場合では被検体30
の形状、厚みは各々の投影方向で異なるが、Dyの積分
値すなわち、面積SRとDXの積分値すなわち、面積s
mは等しくなる・とれは同一の断面について投影してい
るからでメジ、単一エネルギX線では線質硬化が生じな
いためで、従って、被検体30の同一断面では投影方向
が異なっても、その断面内でのX線の減衰量積分値は皆
等しい。
しかし、実際には使用するX線がエネルギ分布を持って
いるために、線質硬化が生じ、Slと82は面積が異な
ってしまう。従って、線質硬化補正を行ってその補正を
するが、用いる補正関数が適正でないことからなお、8
1psgに面積差が生じる。BT(補助補正装置12−
3はこの補正を行うだめのもので、次のような原理によ
る。
第4図は線質硬化補正後の減衰量τのX線ビームによる
X線吸収値の最適補助補正係数g(τ)の特性曲線を示
しておシ、減衰量τに対し、この補助補正係数g(τ)
分を補正することにより適切なXm減衰量とすることが
できて、5lss11の面積を等しくすることができる
。すなわち、補助補正係数g(τ)と非点対称形状の被
検体断面に対するX線の投影方向θに依存する係数にθ
よりなる係数(1+に0g(τ))を線質硬化補正後の
X線吸収データに乗じることにより前記DX、 D、 
、・・・Dnの各々の積分値である面積81  Is、
#・・・Snがそれぞれ等しくなるようにすることがで
きる。すなわちT。を定数として、 が満たされるようににθを求め、 τ’=(1+に0g(τ))τ        ・・・
(2)に従って、ある減其電τに対しての補助袖11ソ
仮の減衰量τ′を求め、以後の再構成用のX線吸収デー
タとして用いる。
上記g(τ)は予め定めておく特性曲線で、線質硬化補
正に用いた曲線(関数)から求めることができる。すな
わち、第6図において、曲lIi!AとBと差 (τ(τ。)B−τ(τo)A)をg(τ。)とするが
、必ずしもこれにこだわる必要は無い。また、T。
はある任意の投影方向θ。における補助補正なしの減衰
量τの積分値 を使用すれば良く、また、kθは で求めることができる。従って、τ′はとのにθを用い
第2式によυ求めることができる。尚、鎖2式は一般式
で表わすと τ’=f(kθ、τ)         ・・・(5)
で示すことができ、結局、補助補正後減衰量τ′はおる
補正曲線g(τ)を投影方向毎にその投影方向に依存す
る係数、すなわち、その投影方向毎に変わる被検体の透
過厚に依存する係数に応じた曲率変化とする関数に変換
し、これと減衰量tとの関係により求められるものであ
る。また、第5式の関係にあれば、第2式に限定される
丸のではなく、実際上、最適な関係f(kθ、τ)を選
べば良い。
BH補助補正装置12−3はとのような原理に基づき、
BH補正装置12−2により求めたBH補正後のX線吸
収データを用いて各々にθを求め、このにθを用いてこ
のBH補正後のX線吸収データをBH補助補正して、真
のX線吸収データを得るものである。
一般的にはBH補助補正は必ずしもLog変換後のデー
タτに施こされる必要はなく、log変換前のデータ”
 o /Iに対して施こしてもよい。
との場合、一般的に補正は式 %式%(5) 第8図にとの(5′)式に基づく変換曲線(補正曲線)
を示す−との第8図かられかるように、(5′)式で示
した!。/■→τ′の変換を行なうことは各投影方向毎
に異なった変換カーブを用いτLog変換を含んだBH
補正を行なうことであると貫うことができる。上記変換
曲線はにθ=00場合、Logカーブに一致する。
今まで述べた例は1つのパラメータにθを用いる補助B
HC補正てあったが、さらに一般的には複数個のノ母う
メータに、θlk2θ・・・等ヲ用いることができる。
補正式はパラメータ2個の場合、 τl−!(k、θ、に2θ、τ)    ・・・(5“
)で表わせる。
k、θ、に2θの組合せのし方で補正カーブの変位のし
方が異なるように関数fを選ぶことができる。この様子
第9図(、) 、 (b) 、 (C)に示す。
この場合破検体に合せてに1θ、に2θの比率を選択し
、設定しておく。
12−4はコン前ルパでI)F)、BH補助補正後のX
線吸収データを用いてこれをコンがυa−シ、ン関数と
コンがリューシ、ン(積和)シ、再構成用の角投影方向
別プロジェクションデータを得るものである。
また、12−5はこのプロジェクションデータを逆投影
して再構成画像を生成する/?ラックロ1     ジ
ェクタである。以上の12−1、〜12−5で再構成回
路12が形成される。
再び第1図に戻って説明する。13は制御コンソールで
アシ、マンマシンインターフェイスとしてCPU 11
の制御のもとにシステムに対し各種、駆動制御出力を与
える。14はCRTディスプレイであシ、−り配回構成
画像の表示やその他必要な情報表示を行うものである。
15はX線制御部でアシ、前記制御コンソール13より
X線曝射指令を受けると高圧のパルス電圧を発生してX
線管1に与えノ9ルスX線を発生させるものである。1
6は機構制御部でおシ、前86制御コンソール13より
制御出力を受0て並進駆動部7及び回転、駆動部6の駆
動出力を発生17、X線管1とX線検出器2とを被検体
9に対l〜、トラバーススキャン及びトラバーススキャ
ン終了毎の所定回転角度単位の回転駆動を行うためのも
のである。
次に上記構成の本装置の作用について説明する。まず、
CPU 11からの指令により、制御コンソール13は
X線制御部15にX線曝射指令を与える。するとX線制
御部15は高圧のi4ルス電圧を発生し、X線管1に与
えるので、このX線管1からはノ4ルス状で幅狭のファ
ンビームX線FXが発生する。
このファンビームX線FXは被検体9を介して対向する
X線検出器2の各X線検出素子に入射し、各X線検出素
子からはその入射X線強度に対応した検出信号が出力て
れ、データ収集装置10に入力される。すると、このデ
ータ収集装置10は次のファンビームX線が曝射される
までの間に上記検出信号を積分し、その積分値に対応す
るディジタル値に変換する。このディジタル値は検出素
子位置及びトラバース位置に対応付けてそのディジタル
値をCPU 11内のメモリに格納される。尚、初期時
においては回転フレーム4及び並進フレーム3は原点位
置にあるものとする。
このようにして1ノ9ルス分のファンビームX線FXに
よるX線吸収データの収集が終ると次に制御コンソール
13は機構制御部16に並進フレーム3の所定ピッチ分
のトラバーススキャンを行わせるべく並進駆動指令を与
え、これによ)機構制御部16は並進駆動部7に駆動出
力を与えて一上記トラバーススキャンを行わせる。
そして、次に制御コンソール13はX線制御部15にX
線曝射指令を与える。これによりファンビームX線FX
が再び曝射され、上述の如く、データ収集が行われる。
なお、X線をパルス的に曝射し、トラバーススキャンを
連続的に行なっても同様にデータ収集が実現できる。こ
の動作を繰シ返えして終端側までトラバーススキャンが
行われると、次に制御コンソール13は回転操作指令を
機構制御部16に与える。これにより機構制御部16か
らは所定回転角分、回転フレーム4を回転させるべく駆
動出力を回転駆動部6に与える。従って、回転フレーム
4は被検体9に対し、上記所定回転角度分回転されるの
で、この角度分、ファンビームX線FXの投影角度が変
わる。その後、制御コンソール13よりX線制御部15
にX線曝射指令が与えられ、ファンビームX1FXの曝
射が行われ、上述のデータ収集が行われる。そして、X
線曝射毎に今度は逆方向へ順にトラバーススキャンが成
され、末端まで来ると再び、所定回転角度分の回転駆動
が成され、トラバーススキャンが繰り返えきれる。この
ようにして例えば0゜6°刻みで360°の方向よりX
線吸収データが収集される。
データ収集が終了すると、CPU11は収集したX線吸
収データについて、各投影方向別にz4ラレルビームを
用いた場合における各検出位置でのX線吸収データとな
るよう変換し、このパラレルビーム変換後のX線吸収デ
ータを前処理装置12−1に与えて対数変換、rイン補
正、オフセット補正等の前処理が成される。そして、こ
の前処理済みのX線吸収データはBH補正装置12−2
に送られて、ここで線質硬化補正が成される。次にこの
補正後のX線吸収データはBH補助補正装f12−3に
送られ、ここで、これら各投影別の線質硬化補正済みX
線吸収データをもとに前記にθが求められ、この求めた
各投影方向別にθを用いて、上述した線質硬化補助補正
をその対応する投影方向の線質硬化補正済みX線吸収デ
ータに対して施こし、真のXm吸収データを得る。
このX線吸収データはコン日?ルバ12−4に送られて
コンがリュシロンされた後、パックグロS)エクタ12
−5に送られ、逆投影されて再構成画像が生成される。
この再構成画像のデータはCPU 11を介してCRT
 7”イスルイ14へと送られ、ここに画像として表示
される。
このように、線質硬化補正後にその補正後のデータより
、補正の誤差分を知)、この誤差分を補正すべく線質硬
化補助補正を加えるようにしたので、従来十分に補正し
きれなかった線質硬化補正を#?1.は完全なかたぢで
補正できるようになシ、従って、線質硬化による濃度む
らが無くなって、良質の内構成画1象が得られるよりe
こなる。
産莱用CTスギ、Yすにおいては様々な被検体を次々に
検査する場合が多く、その都度、被検体に最適な線質硬
化補正曲線を選択して用いることは実質的に不可能でお
る。それは、用意しておく線質硬化補正曲線の数が多く
なると云う点と、この補正曲線が最適か選択することが
困難であることによる。
本発明においては、対象とする被検体組成に応じ予め数
種の線質硬化補正曲線を用意して、これより適切と思わ
れる特性曲線を選び、これをもとに線質硬化補正を行っ
て後、その誤差分を除くべく補助補正を加えるので上述
の従来の欠点を補うことができる。
次に本発明の他の実施例について説明する。
画像再構成処理部は実質的にCPU 11と再構成回路
12部分よ構成る。しかも、画像再構成は演算が主体と
なることから、前処理、線質硬化補正、線質硬化補助補
正、コンテリューシ、ン、バックプロジェクションをC
PU f 1によるソフトウェア処理とすることもでき
る。
もちろん、これらの一部をソフトウェア処理にすること
もできる。また、線質硬化補正装置12−2を除去して
線質硬化補助補正装置12−3のみで線質硬化補正を行
うこともできる。
=95− この場合の再構成回路12のブロック図を第5図に示す
この場合、線質硬化補助補正装置12−3は前記第3式
の代シに を用いる。
この方式によれば、線質硬化補正曲線を直接、投影方向
別に最適な特性となるように曲線自体を補正してしまう
ので、先の実施例とほぼ同一の効果を、より簡略化され
た再構成回路で実現することができる。
また、第6図に示すように第2図の構成のうち、BH補
助補正部分のみをCPU 11によりソフトウェア処理
に置き替える構成とすることもできる・この場合、BH
補助補正部分を除くと従来のシステムの構成であるから
BH補助補正の処理グロダラムをCPU 11に持たせ
、BH補正後のX線吸収データに対してCPU 11に
よりBH補助補正を行わせ、コンがルパJ J −4ニ
与えることで容易に本発明を従来装置に適用することが
可能となる。
同、本発明は上記し、且つ図面に示す実施例に限定する
ことなく、その要旨を変更しない範囲内で適宜変形して
実施し得るものでアシ、例えば上記実施例では第2世代
CTスキャナを例にとって説明したが、第1世代、第3
世代あるいは検出素子を円形に配列してその中心に被検
体を配し、X線管のみ回転させる第4世代、検出素子を
円形に配列し、その中心に被検体を配すると共に複数の
X線管を所定間隔で配してX線陽射に供するX線管を順
次切換えるようにした第5世代CTスキャナなどその他
種々のCTスキャナに適用できるものである。(ただし
上記方式の内、扇状ビームでデータ収集するものについ
てはデータはパラレルビームの組にナラびか見られてか
らBH補助が行なわれる。)ま1    た、線質硬化
はエネルギ分布を持つ放射線であれば生ずるのでX線に
限らず、エネルギ分布を持つ放射線源を用いたCTスキ
ャナ全般にわたって適用可能である。
〔発明の効果〕
以上詳述したように本発明によれば最適な線質硬化補正
が実施でき、良質の再構成l1lii像の得ることので
きる放射線断層検査装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
再構成回路の構成を示すブロック図、第3図は線質硬化
の説明をするための図、第4図及び第8図及び第9図は
線質硬化補助補正用の補正曲線を示す図、第5図、第6
図は本発明の変形例を示す要部構成図、第7図は従来の
線質硬化補正曲線と単一エネルギX線による補正曲線を
示す図である・ 1・・・X線管、2・・・X線検出器、10・・・デー
タ収集装置、1ノ・・・CPU、11!・・・再構成回
路、12−1・・・前処理装置、12−2・・・BH補
正装置、12−3・・・BH補助補正装置、12−4−
 コンがルパ、12−5・・・ノ+、クグロジェIII
、1B・・・制御llコンソール、14・・・CRTデ
ィスプレイ、15・・・X線制御部、16・・・機構制
御部〇出願人代理人  弁理士 鈴 江 武 彦第1図 第3図 1”I)II PU 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)エネルギ分布に幅を持つ放射線により、被検体の
    設定した断層面についてその各方向より投影し、その投
    影後の放射線を空間分解能をもって検出することにより
    前記投影方向毎の放射線吸収データを得、これら放射線
    吸収データを用いて画像再構成処理を行って前記断層面
    各位置の放射線吸収率に対応した再構成画像を得る装置
    において、前記投影方向毎の放射線吸収データより得ら
    れる放射線減衰量分布又はその積分値を各々前記投影方
    向毎に基準とする投影方向の放射線減衰量分布又は積分
    値と比較し、その差に応じて各々投影方向毎に依存する
    係数を求める機能、各投影方向の放射線減衰量分布又は
    積分値をそれぞれ等しくするために予め設定した放射線
    減衰量−補正減衰量特性の関数を前記係数で補正して各
    投影方向毎の放射線減衰量−補正減衰量特性の関数を得
    る機能、との得た関数を用いて対応する投影方向の放射
    線吸収データを補正する機能とを備えた線質硬化補正手
    段を設けて成り、この線質硬化補整後の放射線吸収デー
    タにより画像再構成を行うことを特徴とする放射線断層
    検査装置。
  2. (2)線質硬化補正は被検体の組成に応じて予め選択し
    た近似の放射線減衰量一補正減衰量特性関数で補正した
    放射線吸収データを用いることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の放射線断層検査装置。
  3. (3)線質硬化補正は収集した未線質硬化補正の放射線
    吸収データを用いることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の放射線断層検査装置。
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