JP2006157257A - 弾性表面波素子搭載用基板、高周波モジュールおよび携帯端末機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】誘電体基板10の裏面に、櫛歯電極12と、少なくとも一対の入出力用端子と、櫛歯電極12と入出力用端子を取り囲むようにリング状接地用端子13とが被着形成された弾性表面波素子を搭載、実装するもので、複数の絶縁層を積層してなるセラミック絶縁基板1と、絶縁基板の表面および内部に形成された平面導体層と、絶縁層を貫通して形成された金属を充填焼成されたビア導体とで構成される。絶縁基板表面には、弾性表面波素子の各端子と接続される入出力用電極およびリング状接地用電極15が形成されており、入出力用電極およびリング状接地用電極15に対して直接的にビア導体14aが接続されていない。
【選択図】図1
Description
複数の絶縁層を積層してなるセラミック絶縁基板と、該絶縁基板の表面および内部に形成された平面導体層と、前記絶縁層を貫通して形成された金属を充填焼成されたビア導体とを具備するとともに、前記絶縁基板表面には、前記弾性表面波素子の各端子と接続される入出力用電極およびリング状接地用電極が形成されており、前記入出力用電極および前記リング状接地用電極に対して直接的にビア導体が接続されていないことを特徴とするものである。
2 絶縁基板
2a〜2f 絶縁層
3 平面導体層
4 ビア導体
4a 表面ビア導体
5 弾性表面波素子
10 圧電基板
11a、11b 入出力用端子
12 櫛歯電極
13 リング状接地用端子
14a、14b 入出力用電極
15 リング状接地用電極
16 導電性接着材
Claims (10)
- 誘電体基板の裏面に、櫛歯電極と、少なくとも一対の入出力用端子と、該櫛歯電極と該入出力用端子を取り囲むようにリング状接地用端子とが被着形成された弾性表面波素子を搭載、実装するための基板であって、
複数の絶縁層を積層してなるセラミック絶縁基板と、該絶縁基板の表面および内部に形成された平面導体層と、前記絶縁層を貫通して形成された金属を充填焼成されたビア導体とを具備するとともに、前記絶縁基板表面には、前記弾性表面波素子の各端子と接続される入出力用電極およびリング状接地用電極が形成されており、前記入出力用電極および前記リング状接地用電極に対して直接的にビア導体が接続されていないことを特徴とする弾性表面波素子搭載用基板。 - 前記入出力用電極および前記リング状接地用電極は、前記絶縁基板内部あるいは裏面に形成された回路と、少なくとも前記絶縁基板表面に形成された平面接続導体およびビア導体を経由して接続されていることを特徴とする請求項1記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 前記入出力用電極および前記リング状接地用電極と、前記ビア導体とが、0.05mm以上離間していることを特徴とする請求項2記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 前記ビア導体の直径が50〜150μmの大きさであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 前記入出力用電極と接続される前記ビア導体および前記平面接続導体は、前記リング状接地用電極の内側領域に設けられていることを特徴とする請求項2乃至請求項4のいずれか記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 前記リング状接地用電極と接続される前記ビア導体および前記平面接続導体は、前記リング状接地用電極の外側領域に設けられていることを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 前記セラミック絶縁基板が、X−Y方向の焼成収縮量がZ方向の焼成収縮量よりも小さくなるように焼成されたものである請求項1乃至請求項6のいずれか記載の弾性表面波素子搭載用基板。
- 請求項1乃至7のいずれか記載の弾性表面波素子搭載用基板に対して、弾性表面波素子がロウ材によって実装されてなることを特徴とする高周波モジュール。
- 前記セラミック絶縁基板の表面あるいは内部に、電力増幅器と、該電力増幅器に入る信号のノイズを除去するフィルタと、電力増幅器の出力を検出するための方向性結合器と、検波回路とを構成せしめ、前記弾性表面波素子が前記送受信の信号を分けるデュプレクサとして機能してなることを特徴とする請求項8記載の高周波モジュール。
- 請求項9記載の高周波モジュールを搭載してなる携帯端末機。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007266539A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2014082609A (ja) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Taiyo Yuden Co Ltd | 弾性波デバイス及びその設計方法 |
WO2022118864A1 (ja) * | 2020-12-01 | 2022-06-09 | 京セラ株式会社 | 素子実装基板およびsawセンサ装置 |
JP7528564B2 (ja) | 2020-06-29 | 2024-08-06 | 日本電気株式会社 | 量子デバイス及びその製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04293310A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-16 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
JP2001339166A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-07 | Kyocera Corp | 多層配線基板及びその製造方法 |
JP2002261581A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-13 | Tdk Corp | 高周波モジュール部品 |
JP2003101382A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Tdk Corp | 弾性表面波装置 |
JP2003188294A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2004235908A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置及びそれを用いた通信機 |
JP2005318157A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性波デバイスおよびパッケージ基板 |
-
2004
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04293310A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-16 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
JP2001339166A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-07 | Kyocera Corp | 多層配線基板及びその製造方法 |
JP2002261581A (ja) * | 2001-03-02 | 2002-09-13 | Tdk Corp | 高周波モジュール部品 |
JP2003101382A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Tdk Corp | 弾性表面波装置 |
JP2003188294A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-04 | Murata Mfg Co Ltd | 電子部品の製造方法 |
JP2004235908A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Kyocera Corp | 弾性表面波装置及びそれを用いた通信機 |
JP2005318157A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性波デバイスおよびパッケージ基板 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007266539A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP4654149B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2011-03-16 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2014082609A (ja) * | 2012-10-16 | 2014-05-08 | Taiyo Yuden Co Ltd | 弾性波デバイス及びその設計方法 |
JP7528564B2 (ja) | 2020-06-29 | 2024-08-06 | 日本電気株式会社 | 量子デバイス及びその製造方法 |
WO2022118864A1 (ja) * | 2020-12-01 | 2022-06-09 | 京セラ株式会社 | 素子実装基板およびsawセンサ装置 |
JP7536113B2 (ja) | 2020-12-01 | 2024-08-19 | 京セラ株式会社 | 素子実装基板およびsawセンサ装置 |
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