JP2006130840A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6049496B2 (ja) * 2013-02-22 2016-12-21 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、及び液体吐出ヘッド用基板の製造方法
JP6478612B2 (ja) * 2014-12-16 2019-03-06 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド用基板、液体吐出ヘッド、および液体吐出ヘッド用基板の製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4612554A (en) * 1985-07-29 1986-09-16 Xerox Corporation High density thermal ink jet printhead
JPS6487263A (en) * 1987-09-30 1989-03-31 Fuji Xerox Co Ltd Ink jet recording device
US4899178A (en) * 1989-02-02 1990-02-06 Xerox Corporation Thermal ink jet printhead with internally fed ink reservoir
JPH04310750A (ja) * 1991-04-10 1992-11-02 Canon Inc 液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び液体噴射記録ヘッドを備えた記録装置
DE4203294C2 (de) * 1992-01-31 1997-09-04 Eastman Kodak Co Verfahren und Vorrichtung zur Betriebszustandsüberwachung von Tintendruckköpfen
JPH0691884A (ja) * 1992-09-10 1994-04-05 Canon Inc 記録ヘッド用基板の製造方法、及びポジ型感光性レジストの膜厚修正方法
JPH07202124A (ja) * 1993-12-28 1995-08-04 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法
JP3438526B2 (ja) * 1997-04-24 2003-08-18 富士ゼロックス株式会社 インクジェットヘッドおよびその作製方法
JP3647365B2 (ja) * 1999-08-24 2005-05-11 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド用基板ユニットおよびその製造方法ならびに液体吐出ヘッド，カートリッジおよび画像形成装置
JP3576888B2 (ja) * 1999-10-04 2004-10-13 キヤノン株式会社 インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット装置
JP2001287364A (ja) * 2000-04-05 2001-10-16 Canon Inc インクジェットヘッド用基体、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
JP2003092356A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Sony Corp 半導体装置及びその製造方法
JP3697196B2 (ja) * 2001-10-22 2005-09-21 キヤノン株式会社 記録ヘッド用基体、記録ヘッド及び記録装置
JP2003136738A (ja) * 2001-11-06 2003-05-14 Canon Inc 回路基板及び液体吐出ヘッド、並びにそれらの製造方法
JP4074461B2 (ja) * 2002-02-06 2008-04-09 東京エレクトロン株式会社 成膜方法および成膜装置、半導体装置の製造方法
JP4112907B2 (ja) * 2002-06-06 2008-07-02 アルプス電気株式会社 抵抗素子およびその製造方法
JP2004195688A (ja) * 2002-12-16 2004-07-15 Fuji Xerox Co Ltd インクジェット用記録ヘッド及びその製造方法
JP2004284041A (ja) * 2003-03-19 2004-10-14 Fuji Xerox Co Ltd インクジェット記録ヘッド及びその製造方法、並びに、インクジェット記録装置

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