JP2006126082A - 保持歪み測定方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】所定の保持状態で保持された被検体40の表面41の形状を測定する第1測定と、同状態で保持された被検体40の裏面42の形状を測定する第2測定と、逆歪みが生じるように保持された被検体40の裏面42の形状を測定する第3測定とを行なう。第1測定により得られた表面形状データと、第2測定により得られた裏面形状データとに基づき第1のデータを得るとともに、第1測定により得られた表面形状データと、第3測定により得られた裏面形状データとに基づき第2のデータを得、これら第1、第2のデータに基づき保持歪みを求める。
【選択図】 図3
Description
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の表面の形状を測定する第1測定と、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の裏面の形状を測定する第2測定と、
前記歪みに対して変形の向きが前記被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが該被検体に生じるように該被検体を保持し、前記表面または前記裏面の形状を測定する第3測定とを行ない、前記第1測定により得られた表面形状データと、前記第2測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第1のデータを得るとともに、
前記第1測定により得られた前記表面形状データと、前記第3測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第2測定により得られた前記裏面形状データと、前記第3測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第2のデータを得、
前記第1のデータと前記第2のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求めることを特徴とする。
さらに、上記「第1測定」、上記「第2測定」および上記「第3測定」の各々に付した数字は単にこれらを区別するためのものであり、これらの測定を実施する順番を示すものではない。すなわち、これらの測定を実施する順番については任意の順番を選択することができる。
前記所定の保持状態で測定光軸上に保持された前記被検体の表面形状を測定する第1測定、前記所定の保持状態で前記測定光軸上に保持された該被検体の裏面形状を測定する第2測定、および前記歪みに対して変形の向きが該被検体の表裏逆向きで変形量が略同等となる逆歪みが生ぜしめられるように前記測定光軸上に保持された該被検体の表面形状または裏面形状を測定する第3測定を行なう形状測定手段と、
前記第1測定により得られた表面形状データと前記第2測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第1のデータを得るとともに、前記第1測定により得られた前記表面形状データと前記第3測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第2測定により得られた前記裏面形状データと、前記第3測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第2のデータを得、前記第1のデータと前記第2のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求める解析手段と、を備えてなることを特徴とする。
図1に示す保持歪み測定装置は、クリーンルーム等においてフォトマスク等の被検体40の表面形状や内部屈折率分布等の測定を行なうためのもので、形状測定手段を構成する干渉計装置10と、透過型基準板19および反射型基準板20と、保持手段としての被検体保持装置30と、解析手段としてのコンピュータ装置50とから構成されている。
次に、本発明の一実施形態に係る保持歪み測定方法(以下「第1実施形態方法」と称する)について説明する。図3はこの第1実施形態方法を概略的に示す図であり、同図(a)は本発明の第1測定および第2測定の実施状態を示し、同図(b)は本発明の第3測定の実施状態を示している。
Φ1=P+U1 …(1)
Φ2=Q+R+U1 …(2)
(ステップS6)上記ステップS3で得られた表面形状データΦ1と、上記ステップS4で得られた裏面形状データΦ2と、上記ステップS5で得られた透過波面情報Rとに基づき、下式(3)より被検体40の厚みむら(P−Q)(x,y)(以下、単に「P−Q」と記載する)に係る第1のデータD1(x,y)(以下、単に「D1」と記載する)を求める(測定結果の一例を図8に示す)。
D1=Φ1−Φ2+R=P−Q …(3)
Φ3=Q´+U2 …(4)
rΦ3=rQ´+rU2=Q−U1 …(5)
D2=Φ1−rΦ3=P−Q+2U1 …(6)
U1=(D2−D1)÷2 …(7)
(ステップS12)上記ステップS11で得られた保持歪みU1と、上記ステップS3で得られた表面形状データΦ1とに基づき、下式(8)より保持歪みU1が無い状態の被検体40の表面41の形状Pを求める。
P=Φ1−U1 …(8)
なお、上記保持歪みU1と、上記ステップS4で得られた裏面形状データΦ2とに基づき、保持歪みU1が無い状態の被検体40の裏面42の形状Qを求めることも可能である。
次に、本発明の他の実施形態に係る保持歪み測定方法(以下「第2実施形態方法」と称する)について説明する。図4はこの第2実施形態方法を概略的に示す図であり、同図(a)は本発明の第1測定の実施状態を示し、同図(b)は本発明の第2測定の実施状態を示し、同図(c)は本発明の第3測定の実施状態を示している。
Ψ1=K+W1 …(9)
Ψ2=J´+rW1 …(10)
rΨ2=rJ´+rrW1=J+W1 …(11)
E1=Ψ1−rΨ2=K−J …(12)
Ψ3=J´+W2 …(13)
rΨ3=rJ´+rW2=J−W1 …(14)
E2=Ψ1−rΨ3=K−J+2W1 …(15)
(ステップT10)上記ステップT5で得られた第1のデータE1と、上記ステップT9で得られた第2のデータE2とに基づき、下式(16)より上記保持歪みW1を求める。
W1=(E2−E1)÷21 …(16)
K=Ψ1−W1 …(17)
なお、上記保持歪みW1と、上記ステップT3で得られた裏面形状データΨ2とに基づき、保持歪みW1が無い状態の被検体40Aの裏面42Aの形状Jを求めることも可能である。
10a パスマッチ経路部
10b 干渉光学系
10c 撮像系
11 光源
12,17 ビームスプリッタ
12a,17a ハーフミラー面
13,14 ミラー
15 ビームエキスパンダ
16 収束レンズ
18 コリメータレンズ
19 透過型基準板
19a 基準面
20 反射型基準板
20a 反射基準面
21 結像レンズ
22 撮像カメラ
23 1軸ステージ
24 アクチュエータ
30 被検体保持装置(保持手段)
31 背板部
31a 開口部
32 (上側の)支持部材
33 (下側の)支持部材
34 ロードセル
35 可動板
35a ピン部材
36 リニアガイド
37 固定板
38 リニアアクチュエータ
38a 先端部
39 反転機構
40,40A,40B 被検体
41,41A,41B (被検体の)表面
42,42A,42B (被検体の)裏面
50,50A コンピュータ装置(解析手段)
51 縞画像解析部
52 保持歪み導出部
53 荷重検出部
54 制御部
55,56 駆動ドライバ
61 被検体保持台
62 光学定盤
L 光軸
B 軸線
C 面法線
D 作用線
Claims (6)
- 板状の被検体を所定の保持状態で保持した際に、該所定の保持状態に起因して該被検体に生じる歪みを測定する方法であって、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の表面の形状を測定する第1測定と、
前記所定の保持状態で保持された前記被検体の裏面の形状を測定する第2測定と、
前記歪みに対して変形の向きが前記被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが、該被検体に生じるように該被検体を保持し、前記表面または前記裏面の形状を測定する第3測定とを行ない、
前記第1測定により得られた表面形状データと、前記第2測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第1のデータを得るとともに、
前記第1測定により得られた前記表面形状データと、前記第3測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第2測定により得られた前記裏面形状データと、前記第3測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第2のデータを得、
前記第1のデータと前記第2のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求めることを特徴とする保持歪み測定方法。 - 求められた前記保持歪みと、前記第1測定により得られた前記表面形状データとに基づき、該保持歪みが無い状態の前記表面の形状を求めることを特徴とする請求項1記載の保持歪み測定方法。
- 所定の保持状態で保持された板状の被検体に該所定の保持状態に起因して生じる歪みを測定する装置であって、
前記所定の保持状態で測定光軸上に保持された前記被検体の表面形状を測定する第1測定、前記所定の保持状態で前記測定光軸上に保持された該被検体の裏面形状を測定する第2測定、および前記歪みに対して変形の向きが該被検体の表裏逆向きで変形量が略同等の逆歪みが生ぜしめられるように前記測定光軸上に保持された該被検体の表面形状または裏面形状を測定する第3測定を行なう形状測定手段と、
前記第1測定により得られた表面形状データと前記第2測定により得られた裏面形状データとに基づき、前記被検体の厚みむらに係る第1のデータを得るとともに、前記第1測定により得られた前記表面形状データと前記第3測定により得られた裏面形状データとに基づき、または前記第2測定により得られた前記裏面形状データと、前記第3測定により得られた表面形状データとに基づき、前記厚みむらに前記歪みおよび前記逆歪みの分が重畳されてなる第2のデータを得、前記第1のデータと前記第2のデータとに基づき、前記所定の保持状態に起因して前記被検体に生じる保持歪みを求める解析手段と、を備えてなることを特徴とする保持歪み測定装置。 - 前記測定光軸上において前記被検体を保持可能に、かつ保持した該被検体の前記形状測定手段に対する向きを該被検体の保持状態を維持したまま反転可能に構成された保持手段を備えていることを特徴とする請求項3記載の保持歪み測定装置。
- 前記形状測定手段は、光源からの出射光束を基準面および前記測定光軸上に保持された前記被検体の被検面に照射し、該基準面および該被検面からの各々の戻り光を互いに干渉させることにより、前記被検面の波面情報を担持した干渉縞を得る干渉光学系を備えてなることを特徴とする請求項3または4記載の保持歪み測定装置。
- 前記光源は、前記出射光束が前記被検体の表裏面間の光学距離の2倍よりも短い可干渉距離を有する低可干渉光源であり、
前記形状測定手段は、前記光源からの前記出射光束を2光束に分岐するとともに、該2光束の一方を他方に対して所定の光学光路長分だけ迂回させた後に1光束に再合波して出力するパスマッチ経路部を備えていることを特徴とする請求項5記載の保持歪み測定装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004316788A JP4556169B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 保持歪み測定方法および装置 |
US11/258,955 US7342666B2 (en) | 2004-10-29 | 2005-10-27 | Method and apparatus for measuring holding distortion |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004316788A JP4556169B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 保持歪み測定方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006126082A true JP2006126082A (ja) | 2006-05-18 |
JP4556169B2 JP4556169B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=36583404
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004316788A Expired - Fee Related JP4556169B2 (ja) | 2004-10-29 | 2004-10-29 | 保持歪み測定方法および装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7342666B2 (ja) |
JP (1) | JP4556169B2 (ja) |
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- 2004-10-29 JP JP2004316788A patent/JP4556169B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US7342666B2 (en) | 2008-03-11 |
US20060126077A1 (en) | 2006-06-15 |
JP4556169B2 (ja) | 2010-10-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070806 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100329 |
|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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