JP7312278B2 - 光学素子の界面を測定するための装置および方法 - Google Patents
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Description
本発明の分野は、非限定的に、特に光学素子の製造のための光学制御および測定システムの分野である。
特に、本発明の目的は、複数の界面を備える光学素子の界面または表面の形状を測定するための測定装置および方法を提案することであり、この装置および方法は、光学アセンブリ内の界面の測定を可能にする。
本発明のさらに別の目的は、連続する界面の形状を測定するための測定装置および方法を提案することである。
低コヒーレンス源によって照射される少なくとも1つの干渉センサを有し、前記複数の界面を通過するように測定ビームを光学素子に向けて導き、前記被測定界面によって反射された測定ビームと参照ビームとの間の干渉から生じる干渉信号を選択的に検出するように構成された測定手段と、
前記被測定界面のレベルにおいて干渉センサのコヒーレンス領域を相対的に位置決めするように構成された位置決め手段と、
干渉信号に基づいて、視野に従って前記被測定界面の形状情報の項目を生成するように構成されたデジタル処理手段と
を備える。
レンズまたはビームスプリッタなどの単一の光学構成要素、
レンズおよび/または撮像もしくはカメラ対物レンズなどの他の光学構成要素のアセンブリ、または光学ビームを成形するための装置。
光学素子は、特に、レンズなどの屈折素子によって構成されるか、または屈折素子を備えることができる。
干渉測定は、装置の測定手段によって決定された視野に従って実行される。したがって、測定は、全視野で、または視野走査によって実施することができる。
本発明による装置のデジタル処理手段は、干渉信号に基づいて、視野に従って測定された界面の形状情報の項目を生成するように構成される。
この形状情報はまた、界面の形状および/または位置を表す光学的または幾何学的距離を含むことができる。
この場合、界面全体にわたって形状情報の項目を得るために、界面上の複数の測定点に従って視野全体を走査することによって複数の干渉信号が取得される。
この場合、被測定界面は、1回の測定で視野に従って撮像することができる。
別の例によれば、装置は、マッハツェンダ干渉計を有する干渉センサを備えることができる。
これにより、光学素子の界面のすべてについての形状情報の項目を得るために、順次個別に各界面に対する干渉信号を取得して処理することが可能になる。
したがって、例えば、点モード干渉センサの場合、視野は複数の測定点に従って走査することができる。
同様に、全視野干渉センサの場合、視野は複数の部分視野に従って走査することができる。
位置決め手段によって、被測定界面のレベルにおいて干渉センサのコヒーレンス領域を相対的に位置決めするステップと、
干渉信号を生成するように、測定手段を使用して界面を測定するステップと、
視野に従って前記被測定界面の形状情報の項目を得るように、デジタル処理手段を使用して干渉信号を処理するステップと
を含むことを特徴とする。
複数のインターフェログラムは、特に位相シフト干渉法に従って取得することができる。
複数のインターフェログラムは、垂直走査干渉法に従って取得することもできる。
特に、記載されるすべての変形およびすべての実施形態は、技術的観点からこの組み合わせに異議がなければ、共に組み合わせることができる。
図において、いくつかの図に共通する要素は、同じ参照番号を保持している。
測定装置1が、いくつかの界面を有する光学素子1000の被測定界面の形状の測定を実行するように配置される。
図2に示す干渉計4000は、時間領域低コヒーレンス干渉計である。
干渉計4000は、例えば赤外線で動作することができる。反射防止コーティングを有する光学アセンブリを測定するために、干渉計に対して、反射防止コーティングが最適化されるものとは異なる動作波長を選択することが有利であり得、その場合、それらは高い反射率を示し得る。したがって、赤外線で動作する干渉計は、可視波長で使用されるように意図された光学アセンブリを測定するのに非常に適している。
図3は、本発明の範囲内で使用することができる干渉装置の別の例の概略図である。
図3に示す干渉計6000は、全視野低コヒーレンス干渉計である。
測定ビーム606と参照ビーム616との間の光路差が低コヒーレンス源612のコヒーレンス長よりも小さいとき、干渉が検出器602上で得られる。
測定ビーム606と参照ビーム716との間の光路差が低コヒーレンス源712のコヒーレンス長よりも小さいとき、干渉が検出器702上で得られる。
図5の例による干渉装置8000は、図3および図4に示すような全視野干渉計6000、7000と、図2に示すような点モード干渉計4000の組み合わせである。
これはまた、他方では、このようにして光軸を特定することを可能にする。
そこから表面、または少なくとも可視光学表面の形状を推定するために、以下に説明するように、いくつかの既知の方法を使用することができる。
図6は、本発明による測定方法の非限定的な実施形態の例の概略図である。
図6に示す方法10は、光学素子1000の被測定界面103のレベルにおいてコヒーレンス領域を相対的に位置決めするステップ12を含む。
図2、図3、および図4に示す干渉計の例では、コヒーレンス領域の変位および物体平面の変位は、以下の方式で実行される。
このような複合装置の設定は、以下のように実施することができる。
・点モード干渉計4000を使用して光軸に沿って界面103の光学位置を決定するステップ、
?この光学位置の周りに全視野干渉計6000、7000のコヒーレンス領域を設定するステップ、および
?例えば集束対物レンズを用いて、全視野干渉計6000、7000の物体平面の位置を調整するステップ。
この目的のために、光学素子の各界面iについて、光源のコヒーレンス長の限界内で、測定ビームと参照ビームとの間の複数の光路または位相差値に対して複数のインターフェログラム(干渉信号を構成する)が取得される。
したがって、表面iの光学的形状Lmi(rd)を従来の関係で決定することが可能である:
ここで、λは、真空中の光源の中心波長である。
幾何学的形状Smi(rd)は、以下の関係によって光学的形状から推定することができる:
ここで、nは、測定ビームが反射される媒体の群屈折率である。
形状測定法の第2の例は、垂直走査干渉法(VSI)に基づくアルゴリズムを実装する。
「軸外干渉法」とも呼ばれるデジタルホログラフィ法では、測定ビームおよび参照ビームは、好ましくは、傾斜した伝搬方向で検出器に入射するように、またはそれらの間に角度を形成するように調整される。
検出器上のインターフェログラムは、以下の方程式を使用して表すことができる:
ここで、Emiは、界面iによって反射されて検出器(測定ビーム)に入射する複素表示の電磁波であり、ERは、複素表示の参照電磁波であり、簡素化のために一定であると仮定され、*は、複素共役である。
十分に大きい測定ビームと参照ビームとの間の角度を選択することによって、これらの異なる回折項または回折次数はフーリエ領域で分離され、したがってフィルタリングすることができる。
ここで、FFTは、高速フーリエ変換であり、FFT-1は、その逆である。Mは、集束対物レンズの開口数に存在する空間周波数を保つように、実画像に対応する項をフィルタリングするために周波数領域に適用されるフィルタである。
参照波が一定または均一であると仮定することによって、このステップは、ベースバンドフィルタリングされた画像を(ゼロ周波数付近で)並進させることによってフーリエ領域で実施することもできることに留意されたい。
そして、電磁場Emi(rd)の位相φmi(rd)を使用して、関係(1)で表面の光学的形状Lmi(rd)を決定し、関係(2)で幾何学的形状Smi(rd)を決定することが可能である。
被測定光学素子の第1界面で反射されて検出器に入射する電磁場Em1(rd)は、次のように書くことができる:
ここで、φm1(rd)は、コヒーレンス領域、および第1の界面上の検出器の画像平面と共役な物体平面を位置決めすることによって前述した干渉法のうちの1つによって検出される、第1の界面上の反射による位相である。
そこから、上述したように、第1の界面の光学的形状を推定することが可能である:
これらの計算に関与しない伝搬の項を無視して、第2の界面に反射されて検出器に入射する電磁場は、次のように書くことができる:
ここで、φm2(rd)は、コヒーレンス領域、および第2の界面上の検出器の画像平面と共役な物体平面を位置決めすることによって前述した干渉法のうちの1つによって検出される、第2の界面上の反射による位相である。
項
は、測定された界面、および測定された界面に達するために測定ビームが通過する先行する界面に依存する項を含む、測定された見かけの位相である。以前に決定されたφm1(rd)が既知であれば、φm2(rd)を決定することが可能である。
φm2(rd)に基づいて、第2の界面の補正された、または実際の光学的形状は、以下のように決定することができる:
光学的形状および位置が得られると、異なる材料の屈折率、および画像平面と物体平面との間の拡大を考慮に入れることによって、幾何学的形状をそこから推定することが可能である。
特に、すべての界面についてすべての位相またはすべての見かけの光学的形状(補正されていない)を取得または測定し、その後、後のシーケンスで補正された光学的形状および幾何学的形状を計算することが可能である。
測定方向Zにおけるすべての界面の頂部を検出するステップ、
頂部の可能な限り(例えば最小二乗方向において)近くを通る測定方向Zに平行な直線によって定義される平均光軸を計算するステップ、または任意の他の手段によって光軸を得るステップ、および
頂部の位置が光軸から(所定の基準に従って)著しく離れて移動する界面を検出するステップ
を使用して実施することができる。これらの界面は、偏芯または傾斜した構成要素に対応する。
光学構成要素の屈折率(それらの厚さが既知である場合)、
光学構成要素の厚さ(それらの材料またはそれらの屈折率が既知である場合)、および/または
表面のトポグラフィ
を決定することも可能である。
Claims (15)
- 複数の界面を備える光学素子(1000)の被測定界面(103)の形状を測定するための測定装置(1)であって、
低コヒーレンス源(402、612、712)を備え、そして前記低コヒーレンス源(402、612、712)によって照射される少なくとも1つの干渉センサを有し、前記複数の界面を通過するように測定ビーム(106、606)を前記光学素子(1000)に向けて導き、そして前記被測定界面(103)によって反射された前記測定ビーム(106、606)と参照ビーム(616、716)との間の干渉から生じる干渉信号を選択的に検出するように構成された測定手段(4000、6000、7000)と、
前記被測定界面のレベルにおいて前記干渉センサのコヒーレンス領域を相対的に位置決めするように構成された位置決め手段(608、611、708、711)と、
前記干渉信号に基づいて、視野(108)に従って前記被測定界面(103)の形状情報の項目を生成するように構成されたデジタル処理手段と
を備え、
前記測定手段(4000、6000、7000)は、点モード干渉センサ(4000)と、全視野干渉センサ(6000、7000)とを備える、装置(1)。 - 前記形状情報は、前記被測定界面(103)の光学的形状および/または幾何学的形状を含むことを特徴とする、請求項1に記載の装置(1)。
- 前記位置決め手段(608、611、708、711)はまた、前記被測定界面の前記レベルにおいて前記干渉センサの画像平面と共役な物体平面を相対的に位置決めするように構成されることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の装置(1)。
- マイケルソン干渉計を有する干渉センサを備えることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の装置(1)。
- マッハツェンダ干渉計を有する干渉センサを備えることを特徴とする、請求項1~3のいずれか一項に記載の装置(1)。
- 前記位置決め手段(608、611、708、711)は、前記光学素子(1000)の異なる界面(103)のレベルにおいて連続的に前記コヒーレンス領域を位置決めするように構成されることを特徴とする、請求項1~5のいずれか一項に記載の装置(1)。
- 前記測定ビームに垂直な平面内で前記光学素子を変位させるように構成された変位手段も備えることを特徴とする、請求項1~6のいずれか一項に記載の装置(1)。
- 複数の界面を備える光学素子(1000)の被測定界面(103)の形状を測定するための測定方法(10)であって、前記方法(10)は、低コヒーレンス源(402、612、712)を備え、そして前記低コヒーレンス源(402、612、712)によって照射される少なくとも1つの干渉センサを有し、前記複数の界面を通過するように測定ビーム(106、606)を前記光学素子(1000)に向けて導き、そして前記被測定界面(103)によって反射された前記測定ビーム(106、606)と参照ビーム(616、716)との間の干渉から生じる干渉信号を選択的に検出するように構成された測定手段(4000、6000、7000)を備える測定装置(1)によって実施され、前記測定手段(4000、6000、7000)は、点モード干渉センサ(4000)と、全視野干渉センサ(6000、7000)とを備え、前記装置(1)はまた、位置決め手段(608、611、708、711)と、デジタル処理手段とを備え、前記方法(10)は、
前記位置決め手段(608、611、708、711)によって、前記被測定界面(103)のレベルにおいて前記干渉センサのコヒーレンス領域を相対的に位置決めするステップ(12)と、
干渉信号を生成するように、前記測定手段(4000、6000、7000)を使用して前記界面(103)を測定するステップ(14)と、
視野(108)に従って前記被測定界面(103)の形状情報の項目を得るように、前記デジタル処理手段を使用して前記干渉信号を処理するステップ(16)と
を含むことを特徴とする、方法(10)。 - 前記被測定界面(103)の前記レベルにおいて前記干渉センサの画像平面と共役な物体平面を相対的に位置決めするステップも含むことを特徴とする、請求項8に記載の方法(10)。
- 少なくとも前記コヒーレンス領域を位置決めする前記ステップ(12)および前記測定ステップ(14)は、前記複数の界面のうちの異なる被測定界面(103)の形状を測定するために順次実施されることを特徴とする、請求項8または9に記載の方法(10)。
- 前記干渉信号を処理する前記ステップ(16)は、1つの同じ前記被測定界面(103)について取得された複数のインターフェログラムの形状測定を使用する分析を含むことを特徴とする、請求項8~10のいずれか一項に記載の方法(10)。
- 前記複数のインターフェログラムは、位相シフト干渉法に従ってまたは垂直走査干渉法に従って取得されることを特徴とする、請求項11に記載の方法(10)。
- 前記干渉信号を処理する前記ステップ(16)は、デジタルホログラフィを使用する計算法を実施することを特徴とする、請求項8~10のいずれか一項に記載の方法(10)。
- 前記干渉信号を処理する前記ステップ(16)はまた、前記被測定界面(103)の光学的形状および/または幾何学的形状情報の項目を得るために、前記測定ビームが通過する前記界面の形状情報の項目を考慮に入れる補正ステップ(18)を含むことを特徴とする、請求項8~13のいずれか一項に記載の方法(10)。
- スマートフォン対物レンズなどのレンズ(102)を有する光学アセンブリの形態の光学素子(1000)の前記界面の前記形状および/または位置を測定するために実施され、前記界面(103)は、前記レンズ(102)の表面を備えることを特徴とする、請求項8~14のいずれか一項に記載の方法(10)。
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